Apakah EUV Vizeon?
EUV Vizeon direka untuk memenuhi keperluan hari ini sambil menyokong peta jalan EUV masa depan. Dengan menggabungkan penjanaan vakum, pengurusan hidrogen, pengendalian gas ekzos dan kawalan berkoordinasi dalam satu platform modular, ia membantu pelanggan mengurangkan jejak, menurunkan penggunaan utiliti dan meningkatkan produktiviti merentasi generasi EUV semasa dan akan datang.
Sokongan sub-fab bersepadu untuk alat EUV
EUV Vizeon dipasang di sub-fab dan disambungkan terus ke alat litografi EUV di atas. Ia bukan alat litografi itu sendiri, tetapi sistem sokongan bersepadu yang membantu alat tersebut beroperasi dengan cekap, boleh dipercayai dan selamat. Platform menyelaras penjanaan vakum, pengendalian hidrogen, pengurusan gas ekzos dan kawalan sistem dalam satu seni bina yang dioptimumkan.
Dibina sebagai rangkaian modular kepingan bersepadu, EUV Vizeon menggabungkan pam kering canggih, penguat, pengurusan gas ekzos, pencairan hidrogen dan kawalan pusat ke dalam satu sistem yang terkoordinasi. Reka bentuk modular ini membantu memudahkan integrasi dalam ruang sub-fab yang sempit dan memberikan pelanggan penyelesaian yang boleh diskalakan selaras dengan proses dan keperluan fasiliti mereka.
EUV Vizeon direka untuk memenuhi had jejak ketat bagi kilang terkemuka, dengan ketinggian dikurangkan kurang daripada 2 meter untuk memenuhi keperluan pelanggan global. Dengan mengurangkan jejak sub-kilang dan ketinggian sambil mengekalkan prestasi, ia membantu pelanggan menggunakan ruang kilang yang berharga dengan lebih cekap.
Tonton video di bawah bersama Richard Salloum, Pengurus Produk Kanan untuk Sistem Terpadu EUV dari Edwards untuk mempelajari tentang EUV Vizion dan teknologi berkaitan.
Ciri-ciri utama dan manfaat:
- Jejak lebih kecil untuk kecekapan pembuatan yang lebih baik
- Penggunaan kuasa dan utiliti yang lebih rendah
- Dibina untuk proses EUV aliran hidrogen tinggi
Jejak lebih kecil untuk kecekapan pembuatan yang lebih baik
Jejak alat proses litografi EUV mempunyai impak langsung terhadap kos kemudahan dan produktiviti kilang. Untuk alat pengawal seperti EUV, peralatan sub-fab biasanya mesti muat dalam bayang jejak alat yang disokongnya. Oleh kerana proses EUV memerlukan lebih banyak vakum, ekzos dan infrastruktur sokongan, kecekapan ruang menjadi kritikal.
Dengan mengintegrasikan fungsi kritikal ke dalam satu platform yang terkoordinasi, EUV Vizeon membantu mengurangkan jejak sub-fab tanpa mengorbankan prestasi. Ini mewujudkan lebih fleksibiliti untuk susun atur fab, menyokong pertumbuhan kapasiti masa depan dan menyumbang kepada kos pemilikan keseluruhan yang lebih rendah.
Penggunaan kuasa dan utiliti yang lebih rendah
Kuasa yang diperlukan untuk menghasilkan pencahayaan EUV adalah jauh lebih tinggi berbanding generasi litografi sebelumnya, meningkatkan pemerhatian terhadap setiap sistem sokongan di dalam kilang. Pelanggan meneliti dengan teliti kos utiliti, impak alam sekitar dan kecekapan tenaga keseluruhan peralatan tambahan seperti sistem vakum.
Sistem Edwards EUV Vizeon menyediakan pengurangan sebanyak 24% dalam penggunaan kuasa pam berbanding platform kami sebelum ini dengan menggunakan teknologi terkini daripada pam kering berkuasa rendah dan pemecut berprestasi tinggi kami. Hasilnya adalah sistem sokongan EUV yang lebih cekap yang membantu pelanggan mengurangkan kos operasi sambil menyokong matlamat kelestarian.
Dibina untuk proses EUV aliran hidrogen tinggi
Platform terintegrasi generasi ke-4 terbaru kami, EUV Vizeon, memberikan prestasi yang diperlukan untuk mengekalkan tahap vakum yang stabil sambil mengurus kadar aliran hidrogen yang tinggi yang penting untuk proses EUV. Direka dengan kadar aliran sehingga 1000 slm untuk memenuhi keperluan yang berkembang bagi pengguna akhir dan OEM alat EUV.
Dibina berdasarkan teknologi vakum yang terbukti dan integrasi sistem maju, EUV Vizeon menggabungkan prestasi pam yang kukuh dengan pengendalian dan kawalan gas yang terkoordinasi. Pendekatan peringkat sistem ini membantu mengekalkan kestabilan proses hari ini sambil menyokong masa depan litografi EUV yang dapat dijangka.
Direka untuk memaksimumkan masa operasi
Pelaburan modal tinggi yang diperlukan untuk litografi EUV meletakkan tekanan hebat ke atas pengeluar untuk memaksimumkan ketersediaan dan mencapai pulangan yang boleh diterima. Dari perspektif sub-fab, ini bermakna penyelenggaraan mesti dirancang supaya selaras dengan penyelenggaraan sistem EUV yang dijadualkan apabila boleh.
Ketika sistem EUV matang dan jendela penyelenggaraan semakin mengecil, gangguan yang tidak dirancang menjadi lebih mahal. EUV Vizeon direka untuk kebolehpercayaan dan kemudahan servis, supaya sokongan vakum tidak menjadi halangan kepada output alat.
Sistem kami termasuk pam boleh tukar panas untuk sandaran selamat gagal, dan prosedur penyelenggaraan utama boleh dilakukan sementara sistem tetap dalam talian.
Data terkini mengesahkan purata ketersediaan 99.9% merentasi sistem pengurusan vakum dan ekzos bersepadu kami yang menyokong proses EUV.
Pengendalian hidrogen yang selamat dalam litografi EUV
Keselamatan dalam litografi EUV sangat bergantung pada bagaimana aliran hidrogen yang tinggi dikendalikan. Pendekatan konvensional seperti pembakaran terkawal atau pencairan nitrogen boleh menambah kos ekonomi dan alam sekitar yang ketara, terutamanya pada jumlah gas yang diperlukan oleh proses EUV maju.
Edwards menangani cabaran ini dengan pendekatan pencairan udara yang inovatif, disokong oleh kepakaran mendalam dalam had kebakaran, teknologi pencairan dan piawaian keselamatan industri. Ia direka untuk menguruskan hidrogen dengan selamat sambil meningkatkan kecekapan sistem.
Dengan memastikan laluan kritikal di mana campuran mudah terbakar sangat pendek dan dipantau dengan teliti, gas tersebut cepat dicairkan kepada kepekatan yang tidak mudah terbakar yang kemudian boleh disalurkan dengan selamat melalui kilang dan dilepaskan. Pencairan udara menghapuskan kos bahan api dan pelepasan karbon daripada pembakaran terkawal serta mengelakkan kos tinggi nitrogen untuk pencairan.
Kelestarian dan kos pemilikan keseluruhan yang lebih rendah
Edwards (sebagai sebahagian daripada Atlas Copco) komited untuk menggunakan metodologi yang ditakrifkan oleh inisiatif Science Based-Targets (SBTi) untuk mencapai matlamatnya iaitu pelepasan gas rumah hijau sifar bersih. Ini termasuk mengurangkan pelepasan Edwards sendiri, pelepasan pembekal kami, dan pelepasan yang terhasil daripada penggunaan produk kami oleh pelanggan kami. SBTi menggerakkan tindakan iklim yang bercita-cita tinggi di kalangan pihak berkepentingan industri dengan membolehkan syarikat menetapkan sasaran pengurangan pelepasan menggunakan metodologi berasaskan sains yang konsisten.
Kelestarian kini berkait rapat dengan produktiviti, kecekapan utiliti dan jumlah kos pemilikan dalam pembuatan semikonduktor maju. EUV Vizeon direka untuk mengurangkan impak alam sekitar infrastruktur sokongan EUV melalui permintaan kuasa yang lebih rendah, pengurangan penggunaan utiliti dan pemulihan hidrogen. Berbanding dengan sistem sebelumnya, sistem bersepadu baru kami memberikan pengurangan tenaga setara jumlah sebanyak 49% bersama dengan pengurangan ketara dalam setara CO2 dan pelepasan gas rumah hijau.
Vakum bersepadu, pengendalian dan kawalan hidrogen untuk litografi EUV
Selama beberapa dekad, Edwards telah memainkan peranan utama dalam pembangunan dan pelaksanaan sistem sub-sistem litografi EUV yang terintegrasi, dengan menyediakan lebih daripada 200 sistem pengurusan vakum dan gas ekzos di seluruh dunia. EUV Vizeon dibina berdasarkan pengalaman tersebut sebagai sistem sokongan sub-fab terintegrasi Edwards untuk litografi EUV maju.
Litografi EUV digunakan untuk menghasilkan cip logik paling maju dan memori jalur lebar tinggi. Ia bergantung pada vakum yang stabil, aliran hidrogen tinggi, pengurusan gas ekzos yang tepat dan masa operasi maksimum dalam bilik bersih yang dikawal ketat serta persekitaran sub-fab. Apabila EUV telah beralih dari teknologi baru kepada pengilangan berjumlah tinggi, tuntutan terhadap sistem sub-fab telah berkembang dengan ketara.
