Wat is EUV Vizeon?
EUV Vizeon is ontworpen om te voldoen aan de eisen van vandaag en tegelijkertijd de EUV-roadmaps van morgen te ondersteunen. Door het combineren van vacuümgeneratie, waterstofbeheer, afvoer van uitlaatgassen en gecoördineerde besturing in één modulair platform, helpt het klanten om de footprint te verkleinen, het energieverbruik te verlagen en de productiviteit te verbeteren voor huidige en toekomstige EUV-generaties.
Geïntegreerde sub-fab ondersteuning voor EUV-apparatuur
EUV Vizeon is geïnstalleerd in de sub-fab en direct verbonden met het EUV-lithografiegereedschap erboven. Het is niet het lithografiegereedschap zelf, maar het geïntegreerde ondersteuningssysteem dat helpt het gereedschap efficiënt, betrouwbaar en veilig te laten werken. Het platform coördineert vacuümopwekking, waterstofverwerking, afvoergasbeheer en systeemcontrole in één geoptimaliseerde architectuur.
Gebouwd als een modulaire serie van geïntegreerde slices, combineert EUV Vizeon geavanceerde droge pompen, boosters, afvoergasbeheer, waterstofverdunning en centrale besturing in één gecoördineerd systeem. Dit modulaire ontwerp vereenvoudigt de integratie in krappe sub-fab ruimtes en biedt klanten een schaalbare oplossing die aansluit bij hun proces- en faciliteitseisen.
EUV Vizeon is ontworpen om te voldoen aan de strenge ruimtebeperkingen van toonaangevende fabs, met een gereduceerde hoogte van minder dan 2 meter om te voldoen aan wereldwijde klantvereisten. Door de sub-fab ruimte en hoogte te verminderen terwijl de prestaties behouden blijven, helpt het klanten om waardevolle fab-ruimte efficiënter te gebruiken.
Bekijk de onderstaande video met Richard Salloum, Senior Product Manager voor EUV Integrated Systems bij Edwards, om meer te leren over EUV Vizion en gerelateerde technologieën.
Belangrijkste kenmerken en voordelen:
- Kleiner vloeroppervlak voor betere efficiëntie van de fabriek
- Lager energie- en nutsverbruik
- Gebouwd voor EUV-processen met hoge waterstofstroom
Kleiner vloeroppervlak voor betere fabrieks efficiëntie
De voetafdruk van een EUV-lithografieprocesapparaat heeft directe invloed op de faciliteitskosten en de productiviteit van de fabriek. Voor een poortapparaat zoals EUV moet sub-fab apparatuur doorgaans binnen de voetafdrukschaduw van het apparaat dat het ondersteunt passen. Naarmate EUV-processen meer vacuüm, afzuiging en ondersteunende infrastructuur vereisen, wordt ruimte-efficiëntie cruciaal.
Door kritieke functies te integreren in één gecoördineerd platform, helpt EUV Vizeon de sub-fab ruimte te verkleinen zonder in te leveren op prestaties. Dit creëert meer flexibiliteit voor de fab-indeling, ondersteunt toekomstige capaciteitsgroei en draagt bij aan lagere totale eigendomskosten.
Lager energie- en nutsverbruik
De benodigde energie om EUV-verlichting te creëren is aanzienlijk hoger dan bij eerdere lithografiegeneraties, wat leidt tot een strengere controle van elk ondersteunend systeem in de fabriek. Klanten kijken nauwkeurig naar nutsvoorzieningskosten, milieueffecten en de algehele energie-efficiëntie van nevenapparatuur zoals vacuümsystemen.
Edwards EUV Vizeon-systemen bieden een 24% vermindering van het stroomverbruik van de pomp in vergelijking met ons vorige platform door gebruik te maken van de nieuwste technologie van onze energiezuinige droge pompen en hoogpresterende boosters. Het resultaat is een efficiënter EUV-ondersteuningssysteem dat klanten helpt de operationele kosten te verlagen en tegelijkertijd duurzaamheidsdoelstellingen te ondersteunen.
Gebouwd voor EUV-processen met een hoge waterstofstroom
Ons nieuwste geïntegreerde platform van de 4e generatie, EUV Vizeon, levert de prestaties die nodig zijn om stabiele vacuümniveaus te behouden terwijl het de hoge waterstofdebieten beheert die essentieel zijn voor EUV-processen. Ontworpen met debieten tot 1000 slm in gedachten, ondersteunt het de zich ontwikkelende behoeften van zowel eindgebruikers als OEM's van EUV-apparatuur.
Gebouwd rond bewezen vacuümtechnologieën en geavanceerde systeemintegratie, combineert EUV Vizeon robuuste pomp prestaties met gecoördineerde gasbehandeling en -regeling. Deze systeemgerichte aanpak helpt de processtabiliteit vandaag te behouden en ondersteunt tegelijkertijd de voorspelbare toekomst van EUV-lithografie.
Ontworpen om maximale uptime te garanderen
De hoge kapitaalinvestering die nodig is voor EUV-lithografie legt enorme druk op fabrikanten om de beschikbaarheid te maximaliseren en acceptabele rendementen te behalen. Vanuit het sub-fab perspectief betekent dit dat onderhoud zo veel mogelijk moet worden gepland in overeenstemming met het geplande EUV-systeemonderhoud.
Naarmate EUV-systemen volwassen worden en onderhoudsvensters kleiner worden, worden ongeplande verstoringen nog kostbaarder. EUV Vizeon is ontworpen voor betrouwbaarheid en onderhoudsgemak, zodat vacuümondersteuning geen bottleneck wordt voor de output van het gereedschap.
Onze systemen bevatten hot-swappable pompen voor foutbestendige back-up, en grote onderhoudswerkzaamheden kunnen worden uitgevoerd terwijl het systeem online blijft.
De nieuwste gegevens bevestigen een gemiddelde beschikbaarheid van 99,9% over onze geïntegreerde vacuüm- en afvoermanagementsystemen die EUV-processen ondersteunen.
Veilige waterstofhantering in EUV-lithografie
Veiligheid in EUV-lithografie hangt sterk af van hoe hoge waterstofstromen worden beheerd. Conventionele methoden zoals gecontroleerd verbranden of stikstofverdunning kunnen aanzienlijke economische en milieukosten met zich meebrengen, vooral bij de gasvolumes die vereist zijn voor geavanceerde EUV-processen.
Edwards pakt deze uitdaging aan met een innovatieve luchtverdunningsmethode, ondersteund door diepgaande expertise in ontvlambaarheidsgrenzen, verdunningstechnologieën en industriële veiligheidsnormen. Het is ontworpen om waterstof veilig te beheren terwijl de systeemefficiëntie wordt verbeterd.
Door het kritieke pad waar het mengsel brandbaar is zeer kort en zorgvuldig te bewaken, wordt het gas snel verdund tot niet-brandbare concentraties die vervolgens veilig door de fabriek kunnen worden getransporteerd en afgevoerd. Luchtverdunning elimineert de brandstofkosten en CO2-uitstoot van gecontroleerd verbranden en voorkomt de hoge kosten van stikstof voor verdunning.
Duurzaamheid en lagere totale eigendomskosten
Edwards (als onderdeel van Atlas Copco) zet zich in om de methodologie te gebruiken die is gedefinieerd door het Science Based-Targets initiatief (SBTi) om haar doel van netto nul broeikasgasemissies te bereiken. Dit omvat het verminderen van de eigen emissies van Edwards, de emissies van onze leveranciers en de emissies die voortkomen uit het gebruik van onze producten door onze klanten. SBTi stimuleert ambitieuze klimaatactie onder belanghebbenden in de industrie door bedrijven in staat te stellen emissiereductiedoelstellingen te stellen met behulp van een consistente, op wetenschap gebaseerde methodologie.
Duurzaamheid is nu nauw verbonden met productiviteit, efficiëntie van nutsvoorzieningen en totale eigendomskosten in geavanceerde halfgeleiderproductie. EUV Vizeon is ontworpen om de milieubelasting van de EUV-ondersteuningsinfrastructuur te verminderen door een lager energieverbruik, verminderde nutsvoorzieningen en waterstofterugwinning. In vergelijking met eerdere systemen levert ons nieuwe geïntegreerde systeem een 49% vermindering van het totale energie-equivalent samen met aanzienlijke reducties in CO2-equivalent en broeikasgasemissies.
Geïntegreerde vacuüm-, waterstofverwerking en -regeling voor EUV-lithografie
Gedurende tientallen jaren heeft Edwards een centrale rol gespeeld in de ontwikkeling en implementatie van geïntegreerde sub-systeem systemen voor EUV-lithografie, waarbij wereldwijd meer dan 200 vacuüm- en afvoergasbeheersystemen zijn geleverd. EUV Vizeon bouwt voort op die ervaring als het geïntegreerde sub-fab ondersteuningssysteem van Edwards voor geavanceerde EUV-lithografie.
EUV-lithografie wordt gebruikt voor de productie van de meest geavanceerde logische chips en geheugen met hoge bandbreedte. Het is afhankelijk van stabiele vacuüm, hoge waterstofstroom, nauwkeurige afvoer van uitlaatgassen en maximale uptime in een streng gecontroleerde cleanroom- en sub-fab-omgeving. Naarmate EUV is geëvolueerd van opkomende technologie naar grootschalige productie, zijn de eisen aan sub-fab-systemen aanzienlijk toegenomen.
