Was ist EUV Vizeon?
EUV Vizeon wurde entwickelt, um die heutigen Anforderungen zu erfüllen und gleichzeitig die EUV-Roadmaps von morgen zu unterstützen. Durch die Kombination von Vakuumerzeugung, Wasserstoffmanagement, Abgasbehandlung und koordinierter Steuerung in einer modularen Plattform hilft es Kunden, den Fußabdruck zu reduzieren, den Verbrauch von Energie zu senken und die Produktivität über aktuelle und zukünftige EUV-Generationen hinweg zu verbessern.
Integrierte Sub-Fab-Unterstützung für EUV-Werkzeuge
EUV Vizeon wird in der Unterfertigung installiert und direkt mit dem EUV-Lithografiewerkzeug oben verbunden. Es ist nicht das Lithografiewerkzeug selbst, sondern das integrierte Unterstützungssystem, das den effizienten, zuverlässigen und sicheren Betrieb des Werkzeugs unterstützt. Die Plattform koordiniert Vakuumerzeugung, Wasserstoffhandling, Abgasmanagement und Systemsteuerung in einer optimierten Architektur.
EUV Vizeon ist als modulare Serie integrierter Slices gebaut und kombiniert fortschrittliche trockenlaufende Pumpen, Rootspumpen, Abgasmanagement, Wasserstoffverdünnung und zentrale Steuerung in einem koordinierten System. Dieses modulare Design vereinfacht die Integration in enge Sub-Fab-Räume und bietet Kunden eine skalierbare Lösung, die auf ihre Prozess- und Anlagenanforderungen abgestimmt ist.
EUV Vizeon wurde entwickelt, um die strengen Platzanforderungen führender Fertigungsbetriebe zu erfüllen, mit einer reduzierten Höhe von weniger als 2 Metern, um den globalen Kundenanforderungen zu entsprechen. Durch die Reduzierung von Stellfläche und Höhe bei gleichbleibender Leistung können Kunden wertvollen Fertigungsraum effizienter nutzen.
Sehen Sie sich das Video unten mit Richard Salloum, Senior Product Manager für EUV Integrated Systems bei Edwards, an, um mehr über EUV Vizion und die zugehörigen Technologien zu erfahren.
Wichtigste Merkmale und Vorteile:
- Geringere Stellfläche für höhere Effizienz
- Geringerer Strom- und Verbrauchsaufwand
- Für EUV-Prozesse mit hohem Wasserstoffdurchsatz ausgelegt
Geringere Stellfläche für höhere Effizienz
Die Stellfläche eines EUV-Lithografie-Prozesswerkzeugs wirkt sich direkt auf die Betriebskosten und die Produktivität der Fertigung aus. Für ein Gating-Werkzeug wie EUV muss die Sub-Fab-Ausrüstung in der Regel innerhalb des Schattens der Grundfläche des Werkzeugs passen, das es unterstützt. Da EUV-Prozesse mehr Vakuum, Absaugung und unterstützende Infrastruktur erfordern, wird die Raumeffizienz entscheidend.
Durch die Integration kritischer Funktionen in eine koordinierte Plattform trägt EUV Vizeon dazu bei, den ökologischen Fußabdruck zu reduzieren, ohne Kompromisse bei der Leistung einzugehen. Dies schafft mehr Flexibilität für das Anlagenlayout, unterstützt das zukünftige Kapazitätswachstum und trägt zu niedrigeren Gesamtbetriebskosten bei.
Geringerer Strom- und Verbrauchsaufwand
Die zur Erzeugung der EUV-Beleuchtung erforderliche Leistung ist deutlich höher als bei früheren Lithografiegenerationen, was die Überprüfung jedes unterstützenden Systems in der Fabrik erhöht. Kunden betrachten die Betriebskosten, die Umweltauswirkungen und die Gesamtenergieeffizienz von Zusatzgeräten wie Vakuumsystemen genau.
Die EUV Vizeon-Systeme von Edwards reduzieren den Energieverbrauch der Pumpe um 24 % im Vergleich zu unserer vorherigen Plattform, indem sie die neueste Technologie unserer trockenlaufenden Pumpen mit geringer Leistung und Hochleistungs-Rootspumpen verwenden. Das Ergebnis ist ein effizienteres EUV-Unterstützungssystem, das Kunden dabei hilft, Betriebskosten zu senken und gleichzeitig Nachhaltigkeitsziele zu unterstützen.
Für EUV-Prozesse mit hohem Wasserstoffdurchsatz ausgelegt
Unsere neueste integrierte Plattform der 4. Generation, EUV Vizeon, liefert die Leistung, die erforderlich ist, um stabile Vakuumniveaus aufrechtzuerhalten und gleichzeitig die hohen Wasserstoffdurchsatzraten zu verwalten, die für EUV-Prozesse unerlässlich sind. Sie wurde für Durchsatzraten von bis zu 1000 slm entwickelt und erfüllt die sich ändernden Anforderungen von Endbenutzern und OEMs von EUV-Werkzeugen.
EUV Vizeon basiert auf bewährten Vakuumtechnologien und fortschrittlicher Systemintegration und kombiniert robuste Pumpleistung mit koordinierter Gashandhabung und -steuerung. Dieser Ansatz auf Systemebene trägt dazu bei, die Prozessstabilität heute aufrechtzuerhalten und gleichzeitig die absehbare Zukunft der EUV-Lithographie zu unterstützen.
Maximale Betriebszeit
Die für die EUV-Lithographie erforderlichen hohen Kapitalinvestitionen setzen die Hersteller stark unter Druck, die Verfügbarkeit zu maximieren und akzeptable Renditen zu erzielen. Aus der Perspektive der Unterfertigung bedeutet dies, dass die Wartung so geplant werden muss, dass sie sich nach Möglichkeit an der geplanten Wartung des EUV-Systems ausrichtet.
Da EUV-Systeme reifer werden und die Wartungsfenster schrumpfen, werden ungeplante Störungen noch kostspieliger. EUV Vizeon ist auf Zuverlässigkeit und Wartungsfreundlichkeit ausgelegt, sodass die Vakuumunterstützung nicht zu einem Engpass bei der Werkzeugausgabe wird.
Unsere Systeme umfassen im laufenden Betrieb austauschbare Pumpen für eine ausfallsichere Sicherung, und größere Wartungsarbeiten können durchgeführt werden, während das System online bleibt.
Die neuesten Daten bestätigen eine durchschnittliche Verfügbarkeit von 99,9 % in unseren integrierten Vakuum- und Abgasmanagementsystemen, die EUV-Prozesse unterstützen.
Sicherer Umgang mit Wasserstoff in der EUV-Lithographie
Die Sicherheit in der EUV-Lithographie hängt stark davon ab, wie hohe Wasserstoffströme verwaltet werden. Herkömmliche Ansätze wie kontrollierte Verbrennung oder Stickstoffverdünnung können erhebliche wirtschaftliche und ökologische Kosten verursachen, insbesondere bei den Gasmengen, die für fortschrittliche EUV-Prozesse erforderlich sind.
Edwards begegnet dieser Herausforderung mit einem innovativen Luftverdünnungsansatz, der durch fundiertes Fachwissen in den Bereichen Brennbarkeitsgrenzen, Verdünnungstechnologien und Industriesicherheitsstandards unterstützt wird. Er wurde entwickelt, um Wasserstoff sicher zu verwalten und gleichzeitig die Systemeffizienz zu verbessern.
Indem der kritische Pfad, auf dem das Gemisch brennbar ist, sehr kurz gehalten und sorgfältig überwacht wird, wird das Gas schnell auf nicht brennbare Konzentrationen verdünnt, die dann sicher durch die Anlage transportiert und freigesetzt werden können. Die Luftverdünnung eliminiert die Kraftstoffkosten und Kohlenstoffemissionen einer kontrollierten Verbrennung und vermeidet die hohen Kosten für Stickstoff zur Verdünnung.
Nachhaltigkeit und niedrigere Gesamtbetriebskosten
Edwards (als Teil von Atlas Copco) hat sich verpflichtet, die von der Science Based Targets Initiative (SBTi) definierte Methodik anzuwenden, um sein Ziel der Netto-Null-Treibhausgasemissionen zu erreichen. Dazu gehören die Reduzierung der eigenen Emissionen von Edwards, der Emissionen unserer Lieferanten und der Emissionen, die sich aus der Verwendung unserer Produkte durch unsere Kunden ergeben. Die SBTi treibt ehrgeizige Klimamaßnahmen bei den Akteuren der Branche voran, indem sie es Unternehmen ermöglicht, Emissionsreduktionsziele mithilfe einer konsistenten, wissenschaftlich fundierten Methodik festzulegen.
Nachhaltigkeit ist in der fortschrittlichen Halbleiterfertigung heute eng mit Produktivität, Nutzeffizienz und Gesamtbetriebskosten verbunden. Das EUV Vizeon wurde entwickelt, um die Umweltauswirkungen der EUV-Unterstützungsinfrastruktur durch geringeren Strombedarf, geringeren Verbrauch und Wasserstoffrückgewinnung zu reduzieren. Im Vergleich zu früheren Systemen bietet unser neues integriertes System eine Reduzierung des Gesamtenergieäquivalents um 49 % zusammen mit einer erheblichen Reduzierung des CO2-Äquivalents und der Treibhausgasemissionen.
Integriertes Vakuum, Wasserstoffhandling und Steuerung für die EUV-Lithographie
Edwards spielt seit Jahrzehnten eine zentrale Rolle bei der Entwicklung und dem Einsatz von Teilsystemen für die EUV-Lithographie und liefert weltweit mehr als 200 Vakuum- und Abgasmanagementsysteme. EUV Vizeon baut auf dieser Erfahrung als integriertes Subfab-Supportsystem von Edwards für die fortschrittliche EUV-Lithographie auf.
Die EUV-Lithographie wird zur Herstellung der fortschrittlichsten Logikchips und des Hochbandbreitenspeichers verwendet. Sie ist abhängig von stabilem Vakuum, hohem Wasserstoffdurchsatz, präzisem Abgasmanagement und maximaler Verfügbarkeit in einer streng kontrollierten Reinraum- und Sub-Fab-Umgebung. Da EUV von einer aufstrebenden Technologie zur Großserienfertigung übergegangen ist, sind die Anforderungen an Sub-Fab-Systeme drastisch gestiegen.