¿Qué es EUV Vizeon?
EUV Vizeon está diseñado para satisfacer los requisitos actuales y, al mismo tiempo, respaldar las hojas de ruta de EUV del futuro. Al combinar la generación de vacío, la gestión del hidrógeno, la manipulación de gases de escape y el control coordinado en una plataforma modular, ayuda a los clientes a reducir el tamaño, reducir el consumo de servicios públicos y mejorar la productividad en las generaciones actuales y futuras de EUV.
Soporte subfábrica integrado para herramientas EUV
EUV Vizeon se instala en la subfábrica y se conecta directamente a la herramienta de litografía EUV de arriba. No es la propia herramienta de litografía, sino el sistema de soporte integrado que ayuda a que la herramienta funcione de forma eficiente, fiable y segura. La plataforma coordina la generación de vacío, la manipulación del hidrógeno, la gestión de los gases de escape y el control del sistema en una arquitectura optimizada.
Construido como una serie modular de cortes integrados, EUV Vizeon combina bombas secas avanzadas, boosters, gestión de gases de escape, dilución de hidrógeno y control central en un sistema coordinado. Este diseño modular ayuda a simplificar la integración en espacios reducidos de subfábrica y ofrece a los clientes una solución escalable alineada con sus requisitos de procesos e instalaciones.
EUV Vizeon está diseñado para cumplir con las estrictas restricciones de huella de las principales fábricas, con una altura reducida de menos de 2 metros para satisfacer los requisitos globales de los clientes. Al reducir la huella y la altura de la subfábrica mientras se mantiene el rendimiento, ayuda a los clientes a utilizar el valioso espacio de la fábrica de forma más eficiente.
Vea el siguiente vídeo con Richard Salloum, director sénior de productos de sistemas integrados EUV de Edwards, para obtener más información sobre EUV Vizion y las tecnologías relacionadas
Características y ventajas clave:
- Menor tamaño para una mayor eficiencia en la fábrica
- Menor consumo de energía y servicios
- Diseñado para procesos EUV de alto flujo de hidrógeno
Menor tamaño para una mayor eficiencia en la fábrica
La huella de una herramienta de proceso de litografía EUV tiene un impacto directo en los costes de las instalaciones y la productividad de la fábrica. Para una herramienta de gating como EUV, el equipo subfábrica debe encajar normalmente dentro de la sombra de la huella de la herramienta que soporta. A medida que los procesos EUV exigen más vacío, escape e infraestructura de soporte, la eficiencia del espacio se vuelve crítica.
Al integrar funciones críticas en una plataforma coordinada, EUV Vizeon ayuda a reducir la huella de subfábrica sin comprometer el rendimiento. Esto crea más flexibilidad para el diseño de la fábrica, apoya el crecimiento futuro de la capacidad y contribuye a reducir el coste total de propiedad.
Menor consumo de energía y servicios
La potencia necesaria para crear la iluminación EUV es significativamente mayor que en las generaciones anteriores de litografía, lo que aumenta el escrutinio de cada sistema de soporte en la fábrica. Los clientes están estudiando de cerca los costes de los servicios públicos, el impacto medioambiental y la eficiencia energética general de los equipos auxiliares, como los sistemas de vacío.
Los sistemas EUV Vizeon de Edwards proporcionan una reducción del 24 % en el consumo de energía de la bomba en comparación con nuestra plataforma anterior al utilizar la última tecnología de nuestras bombas secas de baja potencia y boosters de alto rendimiento. El resultado es un sistema de soporte EUV más eficiente que ayuda a los clientes a reducir los costes operativos y, al mismo tiempo, respalda los objetivos de sostenibilidad.
Diseñado para procesos EUV de alto flujo de hidrógeno
Nuestra última plataforma integrada de 4.a generación, EUV Vizeon, ofrece el rendimiento necesario para mantener niveles de vacío estables a la vez que gestiona los altos caudales de hidrógeno esenciales para los procesos EUV. Diseñado con caudales de hasta 1000 slm en mente, es compatible con las necesidades cambiantes tanto de los usuarios finales como de los OEM de herramientas EUV.
Construida sobre la base de tecnologías de vacío probadas e integración avanzada de sistemas, la EUV Vizeon combina un rendimiento de bombeo sólido con un manejo y control de gases coordinados. Este enfoque a nivel de sistema ayuda a mantener la estabilidad del proceso hoy en día, a la vez que respalda el futuro previsible de la litografía EUV.
Diseñado para maximizar el tiempo de actividad
La elevada inversión de capital necesaria para la litografía EUV ejerce una presión intensa sobre los fabricantes para maximizar la disponibilidad y lograr rentabilidades aceptables. Desde la perspectiva de la subfábrica, esto significa que el mantenimiento debe planificarse para alinearse con el mantenimiento programado del sistema EUV siempre que sea posible.
A medida que los sistemas EUV maduran y las ventanas de mantenimiento se reducen, las interrupciones no planificadas se vuelven aún más costosas. La EUV Vizeon está diseñada para ofrecer fiabilidad y facilidad de mantenimiento, de modo que el soporte de vacío no se convierta en un cuello de botella para la producción de herramientas.
Nuestros sistemas incluyen bombas intercambiables en caliente para una copia de seguridad a prueba de fallos,y se pueden realizar procedimientos de mantenimiento importantes mientras el sistema permanece en línea.
Los datos más recientes confirman una disponibilidad media del 99,9 % en todos nuestros sistemas integrados de gestión de vacío y escape que respaldan los procesos EUV.
Manipulación segura del hidrógeno en la litografía EUV
La seguridad en la litografía EUV depende en gran medida de cómo se gestionen los altos flujos de hidrógeno. Los enfoques convencionales, como la combustión controlada o la dilución de nitrógeno, pueden añadir un coste económico y medioambiental significativo, especialmente en los volúmenes de gas requeridos por los procesos avanzados de EUV.
Edwards aborda este reto con un enfoque innovador de dilución de aire, respaldado por una amplia experiencia en límites de inflamabilidad, tecnologías de dilución y estándares de seguridad de la industria. Está diseñado para gestionar el hidrógeno de forma segura a la vez que mejora la eficiencia del sistema.
Al mantener la ruta crítica en la que la mezcla es inflamable muy corta y monitorizada cuidadosamente, el gas se diluye rápidamente a concentraciones no inflamables que, a continuación, pueden transportarse de forma segura a través de la fábrica y liberarse. La dilución del aire elimina el coste del combustible y las emisiones de carbono de la combustión controlada y evita el alto coste del nitrógeno para la dilución.
Sostenibilidad y menor coste total de propiedad
Edwards (como parte de Atlas Copco) se compromete a utilizar la metodología definida por la iniciativa Science Based Targets (SBTi) para alcanzar su objetivo de cero emisiones netas de gases de efecto invernadero. Esto incluye reducir las emisiones propias de Edwards, las emisiones de nuestros proveedores y las emisiones resultantes del uso de nuestros productos por parte de nuestros clientes. La SBTi impulsa una acción climática ambiciosa entre las partes interesadas de la industria al permitir a las empresas establecer objetivos de reducción de emisiones utilizando una metodología consistente y basada en la ciencia.
La sostenibilidad está ahora estrechamente relacionada con la productividad, la eficiencia de los servicios públicos y el coste total de propiedad en la fabricación avanzada de semiconductores. EUV Vizeon está diseñado para reducir el impacto medioambiental de la infraestructura de soporte de EUV a través de una menor demanda de energía, un menor consumo de servicios públicos y la recuperación de hidrógeno. En comparación con los sistemas anteriores, nuestro nuevo sistema integrado ofrece una reducción del 49 % en el equivalente energético total, junto con reducciones significativas en el equivalente de CO2 y las emisiones de gases de efecto invernadero.
Vacío integrado, manipulación de hidrógeno y control para litografía EUV
Durante décadas, Edwards ha desempeñado un papel central en el desarrollo y despliegue de sistemas de subsistemas integrados de litografía EUV, suministrando más de 200 sistemas de gestión de vacío y gases de escape en todo el mundo. EUV Vizeon se basa en esa experiencia como sistema de soporte subfábrica integrado de Edwards para la litografía EUV avanzada.
La litografía EUV se utiliza para fabricar los chips lógicos más avanzados y la memoria de alto ancho de banda. Depende de un vacío estable, un alto flujo de hidrógeno, una gestión precisa de los gases de escape y un tiempo de actividad máximo en una sala limpia y un entorno de subfábrica estrictamente controlados. A medida que la EUV ha pasado de la tecnología emergente a la fabricación de alto volumen, las demandas de los sistemas de subfábrica se han expandido drásticamente.
