O que é o EUV Vizeon?
O EUV Vizeon foi projetado para atender aos requisitos de hoje e, ao mesmo tempo, apoiar os roteiros do EUV do futuro. Ao combinar geração de vácuo, gerenciamento de hidrogênio, manuseio de gases de escape e controle coordenado em uma plataforma modular, ela ajuda os clientes a reduzir a pegada, reduzir o consumo de utilitários e melhorar a produtividade em todas as gerações atuais e futuras de EUV.
Suporte sub-fábrica integrado para ferramentas EUV
O EUV Vizeon é instalado na subfábrica e conectado diretamente à ferramenta de litografia EUV acima. Não é a própria ferramenta de litografia, mas o sistema de suporte integrado que ajuda a ferramenta a funcionar de forma eficiente, confiável e segura. A plataforma coordena geração de vácuo, manuseio de hidrogênio, gerenciamento de gases de escape e controle do sistema em uma arquitetura otimizada.
Construído como uma série modular de fatias integradas, o EUV Vizeon combina bombas secas avançadas, boosters, gerenciamento de gases de escape, diluição de hidrogênio e controle central em um sistema coordenado. Esse design modular ajuda a simplificar a integração em espaços estreitos de subfábrica e oferece aos clientes uma solução escalável alinhada aos seus requisitos de processo e instalação.
O EUV Vizeon foi projetado para atender às rigorosas restrições de pegada das principais fábricas, com uma altura reduzida de menos de 2 metros para atender aos requisitos globais do cliente. Ao reduzir a pegada e a altura da subfábrica enquanto mantém o desempenho, ajuda os clientes a usar o valioso espaço da fábrica de forma mais eficiente.
Assista ao vídeo abaixo com Richard Salloum, Gerente Sênior de Produtos para Sistemas Integrados EUV da Edwards, para saber mais sobre o EUV Vizion e tecnologias relacionadas
Recursos e Benefícios:
- Menor pegada para maior eficiência da fábrica
- Menor consumo de energia
- Construído para processos EUV de alto fluxo de hidrogênio
Menor pegada para maior eficiência da fábrica
A pegada de uma ferramenta de processo de litografia EUV tem um impacto direto nos custos da instalação e na produtividade da fábrica. Para uma ferramenta de gating como a EUV, o equipamento de subfábrica normalmente deve se encaixar dentro da sombra da pegada da ferramenta que ela suporta. À medida que os processos EUV exigem mais vácuo, exaustão e infraestrutura de suporte, a eficiência espacial se torna crítica.
Ao integrar funções críticas em uma plataforma coordenada, o EUV Vizeon ajuda a reduzir a pegada de subfábrica sem comprometer o desempenho. Isso cria mais flexibilidade para o layout da fábrica, suporta o crescimento futuro da capacidade e contribui para um menor custo total de propriedade.
Menor consumo de energia
A potência necessária para criar iluminação EUV é significativamente maior do que nas gerações anteriores de litografia, aumentando o escrutínio de cada sistema de suporte na fábrica. Os clientes estão olhando de perto para os custos de utilitários, o impacto ambiental e a eficiência energética geral de equipamentos auxiliares, como sistemas de vácuo.
Os sistemas EUV Vizeon da Edwards oferecem uma redução de 24% no consumo de energia da bomba em comparação com nossa plataforma anterior, utilizando a mais recente tecnologia de nossas bombas secas de baixa potência e boosters de alto desempenho. O resultado é um sistema de suporte EUV mais eficiente que ajuda os clientes a reduzir os custos operacionais, ao mesmo tempo que apoia as metas de sustentabilidade.
Construído para processos EUV de alto fluxo de hidrogênio
Nossa mais recente plataforma integrada de 4a geração, a EUV Vizeon, oferece o desempenho necessário para manter níveis de vácuo estáveis enquanto gerencia as altas taxas de fluxo de hidrogênio essenciais para processos EUV. Projetado com vazões de até 1000 slm em mente, ele suporta as necessidades em evolução de usuários finais e OEMs de ferramentas EUV.
Construído em torno de tecnologias de vácuo comprovadas e integração avançada de sistemas, o EUV Vizeon combina desempenho de bombeamento robusto com manuseio e controle coordenados de gás. Essa abordagem no nível do sistema ajuda a manter a estabilidade do processo hoje, ao mesmo tempo em que suporta o futuro previsível da litografia EUV.
Maior tempo de operação
O alto investimento de capital necessário para a litografia EUV coloca pressão intensa sobre os fabricantes para maximizar a disponibilidade e alcançar retornos aceitáveis. Do ponto de vista da subfábrica, isso significa que a manutenção deve ser planejada para se alinhar com a manutenção programada do sistema EUV sempre que possível.
À medida que os sistemas EUV amadurecem e as janelas de manutenção diminuem, a interrupção não planejada torna-se ainda mais dispendiosa. O EUV Vizeon é projetado para confiabilidade e facilidade de manutenção, de modo que o suporte de vácuo não se torne um gargalo na saída da ferramenta.
Nossos sistemas incluem bombas substituíveis a quente para backup à prova de falhas,e os principais procedimentos de manutenção podem ser realizados enquanto o sistema permanece online.
Os dados mais recentes confirmam uma disponibilidade média de 99,9% em nossos sistemas integrados de gerenciamento de vácuo e exaustão que suportam processos EUV.
Manuseio seguro de hidrogênio na litografia EUV
A segurança na litografia EUV depende fortemente de como altos fluxos de hidrogênio são gerenciados. Abordagens convencionais, como a combustão controlada ou a diluição de nitrogênio, podem adicionar custos econômicos e ambientais significativos, especialmente nos volumes de gás exigidos pelos processos EUV avançados.
A Edwards aborda esse desafio com uma abordagem inovadora de diluição de ar, apoiada por um profundo conhecimento em limites de inflamabilidade, tecnologias de diluição e padrões de segurança da indústria. Ele foi projetado para gerenciar o hidrogênio com segurança, ao mesmo tempo em que melhora a eficiência do sistema.
Mantendo o caminho crítico onde a mistura é inflamável muito curto e cuidadosamente monitorado, o gás é rapidamente diluído em concentrações não inflamáveis que podem então ser transportadas com segurança através da fábrica e liberadas. A diluição do ar elimina o custo do combustível e as emissões de carbono da combustão controlada e evita o alto custo do nitrogênio para diluição.
Sustentabilidade e menor custo total de propriedade
A Edwards (como parte da Atlas Copco) se compromete a usar a metodologia definida pela iniciativa Science Based-Targets (SBTi) para alcançar seu objetivo de emissões líquidas zero de gases de efeito estufa. Isso inclui reduzir as próprias emissões da Edwards, as emissões de nossos fornecedores e as emissões resultantes do uso de nossos produtos por nossos clientes. A SBTi impulsiona ações climáticas ambiciosas entre as partes interessadas do setor, permitindo que as empresas definam metas de redução de emissões usando uma metodologia consistente e baseada na ciência.
A sustentabilidade agora está intimamente ligada à produtividade, eficiência de utilitários e custo total de propriedade na fabricação avançada de semicondutores. O EUV Vizeon foi projetado para reduzir o impacto ambiental da infraestrutura de suporte ao EUV por meio de menor demanda de energia, menor consumo de utilitários e recuperação de hidrogênio. Comparado aos sistemas anteriores, nosso novo sistema integrado oferece uma redução de 49% no total de equivalentes de energia, juntamente com reduções significativas no equivalente de CO2 e nas emissões de gases de efeito estufa.
Vácuo integrado, manuseio e controle de hidrogênio para litografia EUV
Ao longo de décadas, a Edwards tem desempenhado um papel central no desenvolvimento e implantação de sistemas de subsistemas integrados de litografia EUV, fornecendo mais de 200 sistemas de gerenciamento de vácuo e gases de escape em todo o mundo. O EUV Vizeon baseia-se nessa experiência como sistema de suporte sub-fábrica integrado da Edwards para litografia EUV avançada.
A litografia EUV é usada para fabricar os chips lógicos mais avançados e memória de alta largura de banda. Depende de vácuo estável, alto fluxo de hidrogênio, gerenciamento preciso de gases de escape e tempo de operação máximo em um ambiente de sala limpa e subfábrica rigorosamente controlado. À medida que a EUV passou da tecnologia emergente para a fabricação de alto volume, as demandas por sistemas subfábrica se expandiram drasticamente.
