Vad är EUV Vizeon?
EUV Vizeon är konstruerad för att möta dagens krav samtidigt som den stödjer morgondagens EUV-planer. Genom att kombinera vakuumgenerering, vätehantering, avgashantering och samordnad styrning i en modulär plattform, hjälper den kunder att minska fotavtrycket, sänka energiförbrukningen och förbättra produktiviteten över nuvarande och framtida EUV-generationer.
Integrerat sub-fab-stöd för EUV-verktyg
EUV Vizeon är installerad i sub-fab och direkt ansluten till EUV-litografiverktyget ovanför. Det är inte litografiverktyget i sig, utan det integrerade stödsystemet som hjälper verktyget att fungera effektivt, pålitligt och säkert. Plattformen koordinera vakuumgenerering, hantering av väte, hantering av avgaser och systemkontroll i en optimerad arkitektur.
Byggd som en modulär serie av integrerade sektioner, kombinerar EUV Vizeon avancerade torra pumpar, förstärkare, hantering av avgaser, vätgasspädning och central styrning i ett samordnat system. Denna modulära design underlättar integration i trånga utrymmen i sub-fab och ger kunderna en skalbar lösning anpassad efter deras process- och anläggningskrav.
EUV Vizeon är utformat för att möta de stränga utrymmeskraven hos ledande fabriker, med en reducerad höjd på mindre än 2 meter för att passa globala kundkrav. Genom att minska sub-fab-utrymmet och höjden samtidigt som prestandan bibehålls, hjälper det kunder att använda värdefull fabriksplats mer effektivt.
Titta på videon nedan med Richard Salloum, Senior Product Manager för EUV Integrated Systems från Edwards, för att lära dig om EUV Vizion och relaterade teknologier.
Nyckelfunktioner och fördelar:
- Mindre fotavtryck för bättre fabriks effektivitet
- Lägre energiförbrukning och nyttjande
- Byggd för EUV-processer med hög vätgasflöde
Mindre fotavtryck för bättre fabriks effektivitet
Fotavtrycket för ett EUV-litografiverktyg har en direkt påverkan på anläggningskostnader och produktivitet i fabriken. För ett styrverktyg som EUV måste vanligtvis underliggande utrustning rymmas inom verktygets fotavtrycksskygge. Eftersom EUV-processer kräver mer vakuum, avgasning och stödjande infrastruktur blir rymdeffektivitet avgörande.
Genom att integrera kritiska funktioner i en samordnad plattform hjälper EUV Vizeon till att minska sub-fab-utrymmet utan att kompromissa med prestandan. Detta skapar mer flexibilitet för fab-layout, stödjer framtida kapacitetstillväxt och bidrar till lägre totala ägandekostnader.
Lägre energiförbrukning och nyttjande av verktyg
Den kraft som krävs för att skapa EUV-belysning är betydligt högre än i tidigare litografigenerationer, vilket ökar granskningen av varje stödsystem i fabriken. Kunderna granskar noggrant kostnader för verktyg, miljöpåverkan och den övergripande energieffektiviteten hos hjälputrustning såsom vakuumsystem.
Edwards EUV Vizeon-system ger en 24 % minskning av pumpens energiförbrukning jämfört med vår tidigare plattform genom att använda den senaste teknologin från våra lågförbrukande torra pumpar och högpresterande boostrar. Resultatet är ett mer effektivt EUV-stödsystem som hjälper kunder att minska driftkostnader samtidigt som hållbarhetsmål stödjs.
Byggd för EUV-processer med hög väteflöde
Vår senaste integrerade plattform i fjärde generationen, EUV Vizeon, levererar den prestanda som krävs för att upprätthålla stabila vakuumnivåer samtidigt som den hanterar de höga väteflöden som är avgörande för EUV-processer. Designad med flöden upp till 1000 slm i åtanke, stödjer den de utvecklande behoven hos både slutanvändare och EUV-verktygstillverkare.
Byggd kring beprövade vakuumteknologier och avancerad systemintegration kombinerar EUV Vizeon robust pumpkapacitet med koordinerad gasbehandling och styrning. Detta systemnivåansats hjälper till att upprätthålla processtabilitet idag samtidigt som den stödjer den förutsebara framtiden för EUV-litografi.
Designad för att maximera drifttid
Den höga kapitalinvesteringen som krävs för EUV-litografi sätter tillverkare under stort tryck att maximera tillgängligheten och uppnå acceptabla avkastningar. Ur sub-fab-perspektiv innebär det att underhållet måste planeras för att i möjligaste mån sammanfalla med schemalagt underhåll av EUV-systemet.
När EUV-system mognar och underhållsfönster krymper blir oplanerade avbrott ännu mer kostsamma. EUV Vizeon är designad för driftsäkerhet och servicevänlighet, så att vakuumstödet inte blir en flaskhals för verktygets produktion.
Våra system inkluderar varmbytbara pumpar för felfri backup, och större underhållsprocedurer kan utföras medan systemet är online.
De senaste uppgifterna bekräftar 99,9 % genomsnittlig tillgänglighet över våra integrerade vakuum- och avgasningshanteringssystem som stödjer EUV-processer.
Säker hantering av väte i EUV-litografi
Säkerheten vid EUV-litografi är starkt beroende av hur höga väteflöden hanteras. Konventionella metoder såsom kontrollerad förbränning eller kvävedilution kan medföra betydande ekonomiska och miljömässiga kostnader, särskilt vid de gasvolymer som krävs för avancerade EUV-processer.
Edwards tar itu med denna utmaning med en innovativ luftspädningsmetod, stödd av djup expertis inom brännbarhetsgränser, spädningstekniker och branschens säkerhetsstandarder. Den är utformad för att hantera väte säkert samtidigt som systemets effektivitet förbättras.
Genom att hålla den kritiska vägen där blandningen är brandfarlig mycket kort och noggrant övervakad, späds gasen snabbt ut till icke-brandfarliga koncentrationer som sedan kan transporteras säkert genom fabriken och släppas ut. Luftspädning eliminerar bränslekostnaden och koldioxidutsläppen från kontrollerad förbränning och undviker den höga kostnaden för kväve vid spädning.
Hållbarhet och lägre total ägandekostnad
Edwards (som en del av Atlas Copco) är engagerade i att använda den metodik som definieras av Science Based-Targets-initiativet (SBTi) för att uppnå sitt mål om netto-noll utsläpp av växthusgaser. Detta inkluderar att minska Edwards egna utsläpp, utsläppen från våra leverantörer samt utsläppen som uppstår från våra kunders användning av våra produkter. SBTi driver ambitiösa klimatåtgärder bland industrins intressenter genom att möjliggöra för företag att sätta utsläppsminskningsmål med hjälp av en konsekvent, vetenskapsbaserad metodik.
Hållbarhet är nu nära kopplat till produktivitet, energieffektivitet och total ägandekostnad inom avancerad halvledartillverkning. EUV Vizeon är utformat för att minska den miljöpåverkan som EUV-stödinfrastrukturen har genom lägre effektbehov, minskad energiförbrukning och återvinning av väte. Jämfört med tidigare system levererar vårt nya integrerade system en 49 % minskning av total energiekvivalent tillsammans med betydande minskningar av CO2-ekvivalent och växthusgasutsläpp.
Integrerad vakuum-, vätehantering och styrning för EUV-litografi
Under årtionden har Edwards spelat en central roll i utvecklingen och implementeringen av integrerade EUV-litografisubsystem, och levererat mer än 200 vakuum- och avgashanteringssystem världen över. EUV Vizeon bygger på denna erfarenhet som Edwards integrerade subfab-stödsystem för avancerad EUV-litografi.
EUV-litografi används för att tillverka de mest avancerade logikkretsarna och högbandbreddminnen. Det är beroende av stabilt vakuum, hög väteflöde, precis hantering av avgaser och maximal drifttid i en strikt kontrollerad renrumsmiljö och sub-fab-miljö. När EUV har gått från att vara en framväxande teknik till storskalig tillverkning, har kraven på sub-fab-systemen ökat dramatiskt.
