Hvad er EUV Vizeon?
EUV Vizeon er udviklet til at opfylde nutidens krav og samtidig understøtte morgendagens EUV-køreplaner. Ved at kombinere vakuumgenerering, brintstyring, udstødningsgashåndtering og koordineret styring i én modulopbygget platform hjælper den kunderne med at reducere fodaftrykket, reducere forsyningsforbruget og forbedre produktiviteten på tværs af nuværende og fremtidige EUV-generationer.
Integreret sub-fab-support til EUV-værktøjer
EUV Vizeon installeres i underfabrikken og tilsluttes direkte til EUV-litografiværktøjet ovenfor. Det er ikke selve litografiværktøjet, men det integrerede støttesystem, der hjælper værktøjet med at køre effektivt, pålideligt og sikkert. Platformen koordinerer vakuumgenerering, brinthåndtering, udstødningsgasstyring og systemstyring i én optimeret arkitektur.
EUV Vizeon er bygget som en modulopbygget serie af integrerede skiver og kombinerer avancerede tørpumper, boostere, udstødningsgasstyring, brintfortynding og central styring i ét koordineret system. Dette modulopbyggede design hjælper med at forenkle integrationen i trange sub-fab-rum og giver kunderne en skalerbar løsning, der er tilpasset deres proces- og anlægskrav.
EUV Vizeon er designet til at opfylde de strenge fodaftryksbegrænsninger hos førende fabrikker med en reduceret højde på mindre end 2 meter for at opfylde globale kundekrav. Ved at reducere sub-fab-fodaftrykket og -højden, samtidig med at ydeevnen opretholdes, hjælper det kunderne med at bruge værdifuld fab-plads mere effektivt.
Se videoen nedenfor med Richard Salloum, Senior Product Manager for EUV Integrated Systems fra Edwards, for at få mere at vide om EUV Vizion og relaterede teknologier
Vigtigste funktioner og fordele:
- Mindre fodaftryk for bedre effektivitet
- Lavere energi- og forsyningsforbrug
- Bygget til EUV-processer med højt brintflow
Mindre fodaftryk for bedre effektivitet
Et EUV-litografiprocesværktøjs fodaftryk har en direkte indvirkning på anlægsomkostningerne og produktionsproduktiviteten. For et gating-værktøj som EUV skal sub-fab-udstyr typisk passe inden for fodaftryksskyggen af det værktøj, det understøtter. Efterhånden som EUV-processer kræver mere vakuum, udsugning og understøttende infrastruktur, bliver pladseffektiviteten afgørende.
Ved at integrere kritiske funktioner i én koordineret platform hjælper EUV Vizeon med at reducere underproduktionens fodaftryk uden at gå på kompromis med ydeevnen. Det giver større fleksibilitet i forhold til layout, understøtter fremtidig kapacitetsvækst og bidrager til lavere samlede ejeromkostninger.
Lavere energi- og forsyningsforbrug
Den effekt, der kræves for at skabe EUV-belysning, er betydeligt højere end i tidligere litografigenerationer, hvilket øger overvågningen af alle understøttende systemer i fabrikken. Kunderne ser nøje på forsyningsomkostninger, miljøpåvirkning og den overordnede energieffektivitet for hjælpeudstyr som f.eks. vakuumsystemer.
Edwards EUV Vizeon-systemer giver en reduktion på 24 % i pumpestrømforbruget sammenlignet med vores tidligere platform ved hjælp af den nyeste teknologi fra vores tørpumper med lav effekt og højtydende boostere. Resultatet er et mere effektivt EUV-støttesystem, der hjælper kunderne med at reducere driftsomkostningerne og samtidig understøtte bæredygtighedsmålene.
Bygget til EUV-processer med højt brintflow
Vores nyeste 4. generations integrerede platform, EUV Vizeon, leverer den ydeevne, der er nødvendig for at opretholde stabile vakuumniveauer, samtidig med at den håndterer de høje brintflowhastigheder, der er afgørende for EUV-processer. Den er designet med flowhastigheder på op til 1000 slm i tankerne og understøtter de skiftende behov hos både slutbrugere og OEM'er af EUV-værktøj.
EUV Vizeon er bygget på gennemprøvede vakuumteknologier og avanceret systemintegration og kombinerer robust pumpeydelse med koordineret gashåndtering og -styring. Denne tilgang på systemniveau hjælper med at opretholde processtabilitet i dag, samtidig med at den understøtter den forudsigelige fremtid for EUV-litografi.
Designet til at maksimere oppetiden
Den store kapitalinvestering, der kræves til EUV-litografi, lægger et intenst pres på producenterne for at maksimere tilgængeligheden og opnå acceptable afkast. Ud fra et sub-fab-perspektiv betyder det, at vedligeholdelse skal planlægges, så den stemmer overens med planlagt vedligeholdelse af EUV-systemet, hvor det er muligt.
Efterhånden som EUV-systemer modnes, og vedligeholdelsesvinduerne bliver mindre, bliver uplanlagte afbrydelser endnu dyrere. EUV Vizeon er designet med henblik på pålidelighed og servicevenlighed, så vakuumstøtte ikke bliver en flaskehals for værktøjsudgangen.
Vores systemer omfatter hot-swap-pumper til fejlsikker backup,og større vedligeholdelsesprocedurer kan udføres, mens systemet forbliver online.
De seneste data bekræfter en gennemsnitlig tilgængelighed på 99,9 % på tværs af vores integrerede vakuum- og udstødningsstyringssystemer, der understøtter EUV-processer.
Sikker brinthåndtering i EUV-litografi
Sikkerheden ved EUV-litografi afhænger i høj grad af, hvordan høje brintflows håndteres. Konventionelle metoder som kontrolleret forbrænding eller nitrogenfortynding kan medføre betydelige økonomiske og miljømæssige omkostninger, især ved de gasmængder, der kræves af avancerede EUV-processer.
Edwards løser denne udfordring med en innovativ tilgang til luftfortynding, understøttet af dyb ekspertise inden for brændbarhedsgrænser, fortyndingsteknologier og industrisikkerhedsstandarder. Den er designet til at håndtere brint sikkert, samtidig med at den forbedrer systemets effektivitet.
Ved at holde den kritiske vej, hvor blandingen er brandfarlig, meget kort og nøje overvåget, fortyndes gassen hurtigt til ikke-brændbare koncentrationer, som derefter kan transporteres sikkert gennem fabrikken og frigives. Luftfortynding eliminerer brændstofomkostningerne og kulstofemissionerne ved kontrolleret forbrænding og undgår de høje omkostninger til nitrogen til fortynding.
Bæredygtighed og lavere samlede ejeromkostninger
Edwards (som en del af Atlas Copco) har forpligtet sig til at bruge den metode, der er defineret af Science Based Targets-initiativet (SBTi) for at nå sit mål om nettonuludledning af drivhusgasser. Disse omfatter reduktion af Edwards’ egne udledninger, vores leverandørers udledninger og de udledninger, der opstår som følge af vores kunders brug af vores produkter. SBTi fremmer ambitiøs klimaindsats blandt industriens interessenter ved at gøre det muligt for virksomheder at fastsætte mål for emissionsreduktion ved hjælp af en konsekvent, videnskabeligt baseret metode.
Bæredygtighed er nu tæt forbundet med produktivitet, forsyningseffektivitet og samlede ejeromkostninger i avanceret halvlederproduktion. EUV Vizeon er designet til at reducere miljøpåvirkningen fra EUV-støtteinfrastrukturen gennem lavere strømbehov, reduceret forsyningsforbrug og brintgenvinding. Sammenlignet med tidligere systemer leverer vores nye integrerede system en reduktion på 49 % af den samlede energiækvivalent sammen med betydelige reduktioner i CO2-ækvivalenter og drivhusgasemissioner.
Integreret vakuum, brinthåndtering og styring til EUV-litografi
I årtier har Edwards spillet en central rolle i udviklingen og udrulningen af EUV litografi integrerede undersystemer og leveret mere end 200 vakuum- og udstødningsstyringssystemer verden over. EUV Vizeon bygger på denne erfaring som Edwards’ integrerede sub-fab-supportsystem til avanceret EUV-litografi.
EUV-litografi bruges til at fremstille de mest avancerede logikchips og højbåndbreddehukommelse. Det afhænger af stabilt vakuum, højt brintflow, præcis udstødningsgasstyring og maksimal oppetid i et strengt kontrolleret renrums- og sub-fab-miljø. Efterhånden som EUV er gået fra ny teknologi til produktion i store mængder, er kravene til sub-fab-systemer vokset dramatisk.
