Cos'è EUV Vizeon?
EUV Vizeon è progettato per soddisfare i requisiti di oggi supportando al contempo le roadmap EUV di domani. Combinando la generazione di vuoto, la gestione dell'idrogeno, la gestione dei gas di scarico e il controllo coordinato in un'unica piattaforma modulare, aiuta i clienti a ridurre l'ingombro, ridurre il consumo di utenze e migliorare la produttività nelle generazioni EUV attuali e future.
Supporto sub-fab integrato per utensili EUV
EUV Vizeon è installato nel sub-fab e collegato direttamente allo strumento di litografia EUV sopra. Non è lo strumento di litografia stesso, ma il sistema di supporto integrato che aiuta lo strumento a funzionare in modo efficiente, affidabile e sicuro. La piattaforma coordina la generazione di vuoto, la gestione dell'idrogeno, la gestione dei gas di scarico e il controllo del sistema in un'unica architettura ottimizzata.
Costruito come una serie modulare di sezioni integrate, EUV Vizeon combina pompe a secco avanzate, booster, gestione dei gas di scarico, diluizione dell'idrogeno e controllo centrale in un unico sistema coordinato. Questo design modulare aiuta a semplificare l'integrazione in spazi ristretti e offre ai clienti una soluzione scalabile in linea con i requisiti di processo e della struttura.
EUV Vizeon è progettato per soddisfare i rigorosi vincoli di ingombro delle principali fabbriche, con un'altezza ridotta inferiore a 2 metri per soddisfare le esigenze dei clienti globali. Riducendo l'ingombro e l'altezza del sottofabbricato mantenendo le prestazioni, aiuta i clienti a utilizzare lo spazio prezioso della fabbrica in modo più efficiente.
Guarda il video qui sotto con Richard Salloum, Senior Product Manager per i sistemi integrati EUV di Edwards, per saperne di più su EUV Vizion e sulle tecnologie correlate
Caratteristiche e vantaggi principali:
- Ingombro ridotto per una migliore efficienza della fabbrica
- Minore consumo energetico
- Progettato per processi EUV ad alto flusso di idrogeno
Ingombro ridotto per una migliore efficienza della fabbrica
L'impronta di uno strumento di processo di litografia EUV ha un impatto diretto sui costi dell'impianto e sulla produttività della fabbrica. Per uno strumento di gating come l'EUV, le apparecchiature sub-fab devono generalmente adattarsi all'impronta dello strumento che supporta. Poiché i processi EUV richiedono più vuoto, più scarico e più infrastrutture di supporto, l'efficienza dello spazio diventa fondamentale.
Integrando funzioni critiche in un'unica piattaforma coordinata, EUV Vizeon aiuta a ridurre l'ingombro dei sub-fab senza compromettere le prestazioni. Ciò crea una maggiore flessibilità per il layout della fabbrica, supporta la crescita futura della capacità e contribuisce a ridurre il costo totale di proprietà.
Minore consumo energetico
La potenza richiesta per creare l'illuminazione EUV è significativamente superiore rispetto alle generazioni precedenti di litografia, aumentando l'esame di ogni sistema di supporto nella fabbrica. I clienti stanno esaminando attentamente i costi delle utenze, l'impatto ambientale e l'efficienza energetica complessiva delle apparecchiature ausiliarie come i sistemi per vuoto.
I sistemi EUV Vizeon di Edwards offrono una riduzione del 24% del consumo energetico della pompa rispetto alla nostra piattaforma precedente, utilizzando la tecnologia più recente delle nostre pompe a secco a bassa potenza e booster ad alte prestazioni. Il risultato è un sistema di supporto EUV più efficiente che aiuta i clienti a ridurre i costi operativi supportando al contempo gli obiettivi di sostenibilità.
Progettato per processi EUV ad alto flusso di idrogeno
La nostra ultima piattaforma integrata di 4a generazione, EUV Vizeon, offre le prestazioni necessarie per mantenere stabili i livelli di vuoto gestendo al contempo le elevate portate di idrogeno essenziali per i processi EUV. Progettato tenendo conto di portate fino a 1000 slm, supporta le esigenze in continua evoluzione sia degli utenti finali che degli OEM di utensili EUV.
Costruito sulla base di tecnologie del vuoto collaudate e di un'integrazione avanzata del sistema, EUV Vizeon combina solide prestazioni di pompaggio con gestione e controllo coordinati del gas. Questo approccio a livello di sistema aiuta a mantenere la stabilità del processo oggi, supportando al contempo il prevedibile futuro della litografia EUV.
Progettato per massimizzare i tempi di attività
L'elevato investimento di capitale richiesto per la litografia EUV esercita un'intensa pressione sui produttori per massimizzare la disponibilità e ottenere rendimenti accettabili. Dal punto di vista del sub-fab, ciò significa che la manutenzione deve essere pianificata per allinearsi con la manutenzione programmata del sistema EUV laddove possibile.
Man mano che i sistemi EUV maturano e le finestre di manutenzione si riducono, le interruzioni impreviste diventano ancora più costose. L'EUV Vizeon è progettato per essere affidabile e manutenibile, in modo che il supporto del vuoto non diventi un collo di bottiglia per la produzione degli utensili.
I nostri sistemi includono pompe sostituibili a caldo per un backup a prova di guasto e le principali procedure di manutenzione possono essere eseguite mentre il sistema rimane online.
I dati più recenti confermano la disponibilità media del 99,9% dei nostri sistemi integrati di gestione del vuoto e dello scarico che supportano i processi EUV.
Manipolazione sicura dell'idrogeno nella litografia EUV
La sicurezza nella litografia EUV dipende fortemente dalla gestione di elevati flussi di idrogeno. Gli approcci convenzionali come la combustione controllata o la diluizione dell'azoto possono aggiungere costi economici e ambientali significativi, specialmente per i volumi di gas richiesti dai processi EUV avanzati.
Edwards affronta questa sfida con un approccio innovativo alla diluizione dell'aria, supportato da una profonda esperienza nei limiti di infiammabilità, nelle tecnologie di diluizione e negli standard di sicurezza del settore. È progettato per gestire l'idrogeno in modo sicuro migliorando al contempo l'efficienza del sistema.
Mantenendo il percorso critico in cui la miscela è infiammabile molto breve e monitorato attentamente, il gas viene rapidamente diluito a concentrazioni non infiammabili che possono quindi essere trasportate in sicurezza attraverso la fabbrica e rilasciate. La diluizione dell'aria elimina il costo del combustibile e le emissioni di carbonio della combustione controllata ed evita l'elevato costo dell'azoto per la diluizione.
Sostenibilità e riduzione del costo totale di proprietà
Edwards (come parte di Atlas Copco) si impegna a utilizzare la metodologia definita dall'iniziativa Science Based Targets (SBTi) per raggiungere il suo obiettivo di emissioni nette zero di gas serra. Questi includono la riduzione delle emissioni proprie di Edwards, delle emissioni dei nostri fornitori e delle emissioni derivanti dall'uso dei nostri prodotti da parte dei nostri clienti. SBTi promuove un'azione climatica ambiziosa tra gli stakeholder del settore consentendo alle aziende di fissare obiettivi di riduzione delle emissioni utilizzando una metodologia coerente e scientifica.
La sostenibilità è ora strettamente legata alla produttività, all'efficienza delle utenze e al costo totale di proprietà nella produzione avanzata di semiconduttori. L'EUV Vizeon è progettato per ridurre l'impatto ambientale dell'infrastruttura di supporto dell'EUV attraverso una minore domanda di energia, un minor consumo di utenze e il recupero di idrogeno. Rispetto ai sistemi precedenti, il nostro nuovo sistema integrato offre una riduzione del 49% dell'equivalente energetico totale insieme a riduzioni significative dell'equivalente di CO2 e delle emissioni di gas serra.
Vuoto integrato, gestione e controllo dell'idrogeno per la litografia EUV
Per decenni, Edwards ha svolto un ruolo centrale nello sviluppo e nell'implementazione di sottosistemi integrati nella litografia EUV, fornendo più di 200 sistemi di gestione del vuoto e dei gas di scarico in tutto il mondo. EUV Vizeon si basa su questa esperienza come sistema di supporto sub-fab integrato di Edwards per la litografia EUV avanzata.
La litografia EUV viene utilizzata per produrre i chip logici più avanzati e la memoria ad alta larghezza di banda. Dipende da un vuoto stabile, da un flusso elevato di idrogeno, da una gestione precisa dei gas di scarico e dalla massima operatività in una camera bianca e in un ambiente sub-fab strettamente controllato. Poiché l'EUV si è spostata dalla tecnologia emergente alla produzione ad alto volume, le esigenze dei sistemi sub-fab sono aumentate drasticamente.