Vacuum Solutions for Industrial Coating - Brochure
Penyelesaian vakum Edwards untuk teknologi filem nipis yang inovatif
Teknologi salutan filem nipis telah menjadi bahagian yang sangat penting dalam kehidupan kita dalam setiap aspek, sama ada dalam aplikasi pengguna seperti cermin mata atau bingkai, telefon bimbit, lensa kamera, sachet makanan yang dimetalisasi, tombol pintu, patung hiasan, atau dalam aplikasi industri dalam pembuatan panel solar untuk mengekalkan tenaga cahaya serta dalam pembuatan litar elektronik. Penggunaannya meluas dan merupakan ciri sokongan untuk banyak objek seharian.
Senarai ini tidak terhad dengan proses baru yang ditemui secara berkala untuk pemendapan logam, sebatian, atau oksida pada substrat seperti logam., plastik atau seramik dan mengubah ciri permukaan substrat ini, serta mengubah sifat seperti penghantaran, pantulan, kekerasan, rintangan, penyerapan, kakisan, dan tingkah laku elektrik. Beberapa contoh termasuk ketepatan dan kepekaan yang lebih baik bagi sensor perubatan dan alam sekitar, kaca dengan emisiviti rendah, cermin mata dengan lapisan anti-refleksi, lapisan anti-cap jari untuk skrin sentuh., salutan pelindung (DLC) untuk kamera kereta, penghalang penyebaran untuk bungkusan makanan, permukaan kalis air, salutan tribologi untuk prostesis, warna dan grafik yang terang pada telefon pintar serta hasil kecekapan yang lebih tinggi untuk panel solar.
Bagaimana lapisan filem nipis berfungsi?
Teknik pemendapan filem nipis boleh dibahagikan secara ringkas kepada proses Fizikal dan Kimia.
Deposisi Uap Fizikal (PVD)
Ini melibatkan penguapan bahan dari keadaan pepejal dan pemeluwapan ke atas substrat pada suhu yang lebih rendah. Proses ini biasanya berlaku dalam persekitaran vakum tinggi di mana pam vakum utama digabungkan dengan pam vakum sekunder seperti turbomolekul, kriogenik atau pam difusi. Untuk mengurangkan masa pam dan meningkatkan throughput, penambahan pam wap air kriogenik tambahan, yang dipanggil PolycoldTM , boleh ditambah dalam ruang salutan.
Secara ringkas, terdapat pelbagai proses PVD yang bergantung kepada teknik penguapan.
- Sumber haba resistif
- Bunyi elektron
- Lepasan busur elektrik
- Sputtering plasma magnetron
- Sputtering sinar ion
Penyalut PVD juga boleh dibahagikan mengikut reka bentuk pembinaannya:
- Penghujung kumpulan atau penghujung kotak: produk dimuat dan dibongkar selepas setiap proses pemendapan.
- Penyapu gulung ke gulung: substrat gulung fleksibel sumber dimasukkan secara berterusan ke dalam ruang proses pelapisan dan kemudian digulung semula ke atas gulungan yang berasingan sebelum dikeluarkan apabila proses selesai.
- Penyalut dalam talian: Penyala yang benar-benar berterusan untuk keperluan throughput yang tinggi, di mana produk dimuat ke dalam ruang kemasukan, juga dipanggil ruang pemuatan atau kunci pemuatan, dan keluar melalui ruang keluar, juga dipanggil ruang pengeluaran.
Deposisi Uap Kimia (CVD)
Ini adalah teknik deposisi di mana bahan sumber, atau prekursor, diperkenalkan ke dalam ruang atau reaktor dalam fasa gas, biasanya bertindak balas secara kimia dengan gas-gas lain sebelum pemeluwapan pada substrat. Proses ini biasanya berlaku pada 10-3 mbar dan ke atas. Proses pemendapan kimia bergantung kepada bagaimana reaksi itu diaktifkan, sama ada melalui reaksi terma yang sederhana, atau dengan bantuan tekanan rendah (LPCVD), atau dengan bantuan plasma (PECVD atau PACVD). Kemajuan terkini dalam proses Penempatan Lapisan Atom (ALD) dan Epitaksi Fasa Cecair semakin mendapat perhatian dalam sektor elektronik.
Peranan teknologi vakum dalam salutan filem nipis
Teknologi vakum adalah kritikal untuk proses ini, kerana wap bahan-bahan ini diperlukan untuk mengalir tanpa halangan dan tanpa kekotoran, ke dalam atmosfera tekanan rendah dan ke atas substrat, atau hanya untuk membolehkan syarat proses bagi plasma. Oleh itu, menghasilkan suasana vakum dan memantau tekanan adalah sangat penting untuk proses ini.
Edwards telah berada di barisan hadapan industri filem nipis dengan terus membangunkan pelbagai penyelesaian vakum - sistem pam vakum utama, pam vakum sekunder, pengukur vakum, penganalisis gas residu, - sepanjang tahun untuk memenuhi keperluan ketat pelbagai proses salutan. Sama ada menguruskan kitaran pam yang cepat yang diperlukan oleh proses salutan kaca dan solar atau menguruskan proses yang keras dalam aplikasi ALD atau LPE, kami telah mengoptimumkan penyelesaian vakum untuk memenuhi keperluan anda.
Berikut adalah pandangan mengenai penyelesaian vakum tepat Edwards untuk proses Pengecatan Filem Nipis.
