Mi az az EUV Vizeon?
Az EUV Vizeon úgy lett kialakítva, hogy megfeleljen a mai követelményeknek, miközben támogatja a holnap EUV-útvonalait. A vákuumtermelés, a hidrogénkezelés, a kipufogógáz-kezelés és a koordinált vezérlés egyetlen moduláris platformon történő kombinálásával segít az ügyfeleknek csökkenteni a helyigényt, csökkenteni a közműfogyasztást és javítani a termelékenységet a jelenlegi és a jövőbeli EUV-generációkban.
Integrált algyári támogatás az EUV szerszámokhoz
Az EUV Vizeon az algyárba van telepítve, és közvetlenül csatlakozik a fenti EUV litográfiai eszközhöz. Nem maga a litográfiai eszköz, hanem az integrált tartórendszer segíti a szerszám hatékony, megbízható és biztonságos működését. A platform egyetlen optimalizált architektúrában koordinálja a vákuumfejlesztést, a hidrogénkezelést, a kipufogógáz-kezelést és a rendszervezérlést.
Az integrált szeletek moduláris sorozataként kialakított EUV Vizeon egyetlen koordinált rendszerbe egyesíti a fejlett száraz szivattyúkat, nyomásfokozókat, kipufogógáz-kezelést, hidrogénhígítást és központi vezérlést. Ez a moduláris kialakítás megkönnyíti az integrációt a szűk gyártócsarnok alatti helyeken, és az ügyfelek számára a folyamat- és létesítménykövetelményekhez igazított, skálázható megoldást biztosít.
Az EUV Vizeon úgy lett kialakítva, hogy megfeleljen a vezető gyártóüzemek szigorú helyigény-korlátozásainak,és kevesebb mint 2 méteres magassággal megfeleljen a globális ügyfelek igényeinek. Azáltal, hogy csökkenti a gyári helyigényt és a magasságot, miközben fenntartja a teljesítményt, segít az ügyfeleknek az értékes gyári hely hatékonyabb kihasználásában.
Tekintse meg az alábbi videót Richard Salloum-mal, az Edwards EUV integrált rendszerekért felelős vezető termékmenedzserével, hogy többet megtudjon az EUV Vizionról és a kapcsolódó technológiákról
Fő jellemzők és előnyök:
- Kisebb helyigény a nagyobb üzemi hatékonyság érdekében
- Alacsonyabb energiafogyasztás
- Nagy hidrogénáramlású EUV-folyamatokhoz készült
Kisebb helyigény a nagyobb üzemi hatékonyság érdekében
Az EUV litográfiai folyamateszközök lábnyoma közvetlen hatással van a létesítmény költségeire és a gyár termelékenységére. Az EUV-hez hasonló mérőeszközök esetében az algyári berendezéseknek jellemzően bele kell illeszkedniük az általuk támogatott eszköz lábnyomának árnyékába. Mivel az EUV-folyamatok több vákuumot, füstelvezetést és támogató infrastruktúrát igényelnek, a helyhatékonyság kritikus fontosságúvá válik.
A kritikus funkciók egyetlen koordinált platformba történő integrálásával az EUV Vizeon segít csökkenteni a gyári helyigényt anélkül, hogy ez a teljesítmény rovására menne. Ez nagyobb rugalmasságot teremt az üzem elrendezésében, támogatja a jövőbeli kapacitásnövekedést, és hozzájárul az alacsonyabb teljes tulajdonlási költséghez.
Alacsonyabb energiafogyasztás
Az EUV megvilágítás létrehozásához szükséges teljesítmény jelentősen magasabb, mint a korábbi litográfiai generációknál, ami növeli a gyár minden támogató rendszerének ellenőrzését. Az ügyfelek alaposan megvizsgálják a segédberendezések, például a vákuumrendszerek közüzemi költségeit, környezeti hatásait és általános energiahatékonyságát.
Az Edwards EUV Vizeon rendszerek a korábbi platformunkhoz képest 24%-kal csökkentik a szivattyú energiafogyasztását, mivel kis teljesítményű száraz szivattyúink és nagy teljesítményű nyomásfokozóink legújabb technológiáját alkalmazzák. Az eredmény egy hatékonyabb EUV támogató rendszer, amely segít az ügyfeleknek az üzemeltetési költségek csökkentésében, miközben támogatja a fenntarthatósági célokat.
Nagy hidrogénáramlású EUV-folyamatokhoz készült
Legújabb, 4. generációs integrált platformunk, az EUV Vizeon biztosítja a stabil vákuumszintek fenntartásához szükséges teljesítményt, miközben kezeli az EUV folyamatokhoz elengedhetetlen nagy hidrogénáramlási sebességeket. A legfeljebb 1000 slm áramlási sebességre tervezve támogatja mind a végfelhasználók, mind az EUV szerszámgyártók fejlődő igényeit.
A bevált vákuumtechnológiákra és fejlett rendszerintegrációra épülő EUV Vizeon a robusztus szivattyúzási teljesítményt összehangolt gázkezeléssel és vezérléssel ötvözi. Ez a rendszerszintű megközelítés segít fenntartani a folyamat stabilitását ma, miközben támogatja az EUV litográfia előrelátható jövőjét.
Maximális rendelkezésre állás
Az EUV litográfiához szükséges magas tőkebefektetés nagy nyomást gyakorol a gyártókra, hogy maximalizálják a rendelkezésre állást és elfogadható hozamot érjenek el. Gyári szempontból ez azt jelenti, hogy a karbantartást úgy kell megtervezni, hogy lehetőség szerint összhangban legyen az EUV rendszer ütemezett karbantartásával.
Az EUV rendszerek érettségének növekedésével és a karbantartási időközök csökkenésével a nem tervezett leállások még költségesebbé válnak. Az EUV Vizeon megbízhatóságra és szervizelhetőségre lett tervezve, így a vákuumtámogatás nem lesz a szerszámkimenet szűk keresztmetszete.
Rendszereink melegen cserélhető szivattyúkat tartalmaznak a hibabiztos tartalék működés érdekében,és a fő karbantartási eljárások elvégezhetők, miközben a rendszer online marad.
A legújabb adatok megerősítik az EUV folyamatokat támogató integrált vákuum- és kipufogógáz-kezelő rendszereink átlagos rendelkezésre állásának 99,9%-át.
Biztonságos hidrogénkezelés az EUV litográfiában
Az EUV litográfia biztonsága nagymértékben függ attól, hogy mennyire nagy a hidrogénáramlás. A hagyományos megközelítések, például az ellenőrzött égetés vagy a nitrogén hígítás jelentős gazdasági és környezetvédelmi költségekkel járhat, különösen a fejlett EUV-folyamatok által igényelt gázmennyiségek esetében.
Az Edwards ezt a kihívást innovatív levegőhígítási megközelítéssel kezeli, amelyet a gyúlékonysági határértékek, a hígítási technológiák és az ipari biztonsági szabványok terén szerzett mélyreható szakértelem támogat. A rendszer hatékonyságának javítása mellett a hidrogén biztonságos kezelésére szolgál.
Azáltal, hogy a kritikus útvonalat, ahol a keverék gyúlékony, nagyon röviden tartják és gondosan monitorozzák, a gáz gyorsan hígul nem gyúlékony koncentrációra, amely ezután biztonságosan átjuttatható a gyáron és kiengedhető. A levegős hígítás kiküszöböli a szabályozott égetés üzemanyagköltségeit és szén-dioxid-kibocsátását, és elkerüli a nitrogén magas hígítási költségét.
Fenntarthatóság és alacsonyabb teljes tulajdonlási költség
Az Edwards (az Atlas Copco részeként) elkötelezett a Science Based Targets (SBTi) kezdeményezés által meghatározott módszertan alkalmazása mellett a nettó nulla üvegházhatásúgáz-kibocsátás elérése érdekében. Ezek közé tartozik az Edwards saját kibocsátásának, beszállítóink kibocsátásának és az ügyfeleink termékeink használatából eredő kibocsátás csökkentése. Az SBTi azáltal ösztönzi az iparág érdekelt feleinek ambiciózus éghajlatvédelmi cselekvéseit, hogy lehetővé teszi a vállalatok számára, hogy konzisztens, tudományos alapú módszertan segítségével kibocsátáscsökkentési célokat határozzanak meg.
A fenntarthatóság ma már szorosan kapcsolódik a termelékenységhez, a közműhatékonysághoz és a teljes tulajdonlási költséghez a fejlett félvezetőgyártásban. Az EUV Vizeon úgy lett kialakítva, hogy csökkentse az EUV támogató infrastruktúra környezeti hatásait az alacsonyabb energiaigény, a csökkentett közműfogyasztás és a hidrogén-visszanyerés révén. A korábbi rendszerekhez képest új integrált rendszerünk 49%-kal csökkenti a teljes energiaegyenértéket, valamint jelentősen csökkenti a CO2-egyenértéket és az üvegházhatású gázok kibocsátását.
Integrált vákuum, hidrogénkezelés és vezérlés EUV litográfiához
Az Edwards évtizedek óta központi szerepet játszik az EUV litográfiás integrált alrendszerrendszerek fejlesztésében és bevezetésében, több mint 200 vákuum- és kipufogógáz-kezelő rendszert szállítva világszerte. Az EUV Vizeon erre a tapasztalatra épít, mint az Edwards fejlett EUV litográfiához való integrált gyári segédrendszere.
Az EUV litográfia a legfejlettebb logikai chipek és nagy sávszélességű memória gyártására szolgál. Ez a stabil vákuumtól, a nagy hidrogénáramlástól, a precíz kipufogógáz-kezeléstől és a maximális rendelkezésre állástól függ a szigorúan szabályozott tisztaterekben és gyártócsarnok alatti környezetben. Mivel az EUV a feltörekvő technológiáról a nagy volumenű gyártásra váltott, a gyártócsarnok alatti rendszerek iránti igények drasztikusan megnőttek.
