Your browser is not supported

คุณใช้เบราว์เซอร์ที่เราไม่รองรับอีกต่อไป โปรดเลือกเบราว์เซอร์ที่รองรับต่อไปนี้เพื่อเยี่ยมชมเว็บไซต์ของเราต่อ

Search Edwards Vacuum
  1. ...
    • เซมิคอนดักเตอร์
    • Knowledge Hub
    • Innovation Hub
    • ความเร็วโดยไม่ลดทอน: เปิดโอกาสให้เกิดการประมวลผลชั้นอะตอมรุ่นต่อไป

    ความเร็วโดยไม่ลดทอน: ทำให้การแปรรูปชั้นอะตอมรุ่นต่อไปเป็นไปได้ - เรื่องราวของลูกค้า

     

    สรุปกรณีศึกษา:

    ความท้าทาย - เพิ่มความเร็วของกระบวนการ PEALD และ ALE ในขณะที่รักษาการควบคุมแรงดันและการกำจัดก๊าซที่จำเป็นสำหรับการแปรรูปชั้นอะตอมที่ทำซ้ำได้

    โซลูชัน - แพลตฟอร์ม FALP ของ plasway-Technologies ผสมผสานการสลับก๊าซที่รวดเร็วและการกระจายก๊าซอย่างสม่ำเสมอเข้ากับปั๊มเทอร์โบโมเลกุล STP-iXA3306CV ของ Edwards เพื่อความดันในการทำงานต่ำและการกำจัดก๊าซจากห้องอย่างรวดเร็ว

    ผลลัพธ์ - การเปลี่ยนแปลงแรงดันประมาณ 100 มิลลิวินาทีจากจุดสูงสุดของการยิงก๊าซเข้าสู่แรงดันในการทำงานของพลาสมา โดยที่ปั๊มเทอร์โบโมเลกุลาร์ของ Edwards ยังคงทำงานได้อย่างเต็มที่หลังจากการทดลองอย่างต่อเนื่องเป็นเวลาสี่ปีในสภาพแวดล้อม PEALD

    การจัดการชิ้นส่วนปั๊มโดยสวมถุงมือป้องกัน

    ในขณะที่อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มีความซับซ้อนมากขึ้นเรื่อยๆ ผู้ผลิตต้องเผชิญกับความท้าทายที่ยาก: คุณจะเพิ่มความเร็วของกระบวนการได้อย่างไรโดยไม่ลดทอนความแม่นยำในระดับอะตอมที่อุปกรณ์ขั้นสูงต้องการ

    กระบวนการต่างๆ เช่น Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) และ Atomic Layer Etching (ALE) เป็นสิ่งสำคัญในการสร้างโครงสร้างที่ซับซ้อนที่พบในชิปที่ทันสมัยที่สุดในปัจจุบัน

    ความท้าทายนี้อธิบายได้ง่าย แต่แก้ไขได้ยาก: เพิ่มความสามารถในการผลิตพร้อมกับรักษาการควบคุมกระบวนการ

    เหตุใดกระบวนการที่รวดเร็วขึ้นจึงเริ่มต้นด้วยสภาพแวดล้อมของกระบวนการ

    ในการแปรรูปชั้นอะตอม ก๊าซต้องเข้าสู่ห้องอย่างรวดเร็ว กระจายอย่างสม่ำเสมอทั่วแผ่นชิพ จากนั้นจึงถูกกำจัดออกอย่างมีประสิทธิภาพก่อนที่จะเริ่มขั้นตอนกระบวนการถัดไป การเปลี่ยนสถานะช้าอาจจำกัดปริมาณงาน ในขณะที่การกำจัดก๊าซที่ไม่สมบูรณ์อาจส่งผลต่อความสามารถในการทำซ้ำและคุณภาพของกระบวนการ

    ในขณะที่กระบวนการทำงานรวดเร็วขึ้น ประสิทธิภาพของสภาพแวดล้อมในกระบวนการที่กว้างขึ้นก็มีความสำคัญมากขึ้นเรื่อยๆ ปัจจัยสำคัญสามประการคือ:

    • ส่งก๊าซอย่างรวดเร็ว
    • กระจายให้สม่ำเสมอกัน
    • นำออกอย่างรวดเร็วและสะอาดก่อนเริ่มรอบถัดไป

    สิ่งนี้จะเปลี่ยนวิธีที่เราคิดเกี่ยวกับสุญญากาศ เทคโนโลยีสุญญากาศไม่ใช่เพียงแค่สร้างแรงดันที่จำเป็นเท่านั้น แต่ยังสามารถเป็นตัวกระตุ้นประสิทธิภาพของกระบวนการได้อีกด้วย

    การสร้างเงื่อนไขสำหรับการแปรรูปชั้นอะตอมความเร็วสูง

    นี่คือความท้าทายที่ plasway-Technologies ต้องเผชิญในขณะที่พัฒนาแพลตฟอร์ม FAST Atomic Layering Process (FALP) FALP ออกแบบมาเพื่อผสมผสาน PEALD และ ALE ความเร็วสูงเข้าด้วยกันภายในห้องเดียว โดยรวมการสลับก๊าซที่รวดเร็ว การควบคุมแรงดันที่แม่นยำ และการกระจายก๊าซที่สม่ำเสมออย่างมาก

    "ด้วยห้อง FALP เราได้สร้างระบบ ALE/PEALD ความเร็วสูงแบบบูรณาการระบบแรกของโลก ผสมผสานการแลกเปลี่ยนก๊าซที่รวดเร็วเป็นพิเศษ การไหลของก๊าซที่สมมาตร และปั๊มเทอร์โบของ Edwards เพื่อกำหนดเกณฑ์มาตรฐานใหม่ในการแปรรูป ALE/PEALD"

    Stephan Wege, CEO and Owner, plasway-Technologies

    เพื่อให้เป็นไปได้นี้ แท่นชั่งจำเป็นต้องมีมากกว่าการออกแบบกระบวนการขั้นสูง ซึ่งจำเป็นต้องใช้โซลูชันสุญญากาศที่สามารถล้างก๊าซในกระบวนการออกจากห้องได้อย่างรวดเร็ว ในขณะที่รักษาสภาวะแรงดันต่ำที่เสถียรซึ่งจำเป็นสำหรับการประมวลผลพลาสมาที่ทำซ้ำได้

    นี่คือจุดที่ความเชี่ยวชาญของ Edwards ในสภาพแวดล้อมสุญญากาศเซมิคอนดักเตอร์กลายเป็นสิ่งสำคัญ Edwards ทำงานร่วมกับ Plasway-Technologies เพื่อช่วยสร้างเงื่อนไขที่จำเป็นในการสนับสนุนวัตถุประสงค์ด้านประสิทธิภาพของแพลตฟอร์ม โดยนำความรู้เกี่ยวกับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์มาใช้หลายทศวรรษควบคู่กับความเชี่ยวชาญด้านเทคโนโลยีสุญญากาศของบริษัท

    หัวใจสำคัญของโซลูชันคือ ปั๊มเทอร์โบโมเลกุล STP-iXA3306CV ของ Edwards ซึ่งได้รับการคัดเลือกเพื่อช่วยให้ได้แรงดันในการทำงานต่ำและการกำจัดก๊าซจากห้องอบอย่างรวดเร็ว โดยเฉพาะในระหว่างเฟสการล้าง

    ใน PEALD และ ALE ทุกรอบจะต้องแยกออกจากรอบถัดไปอย่างสะอาด ก๊าซตกค้างในห้องอบอาจลดการเลือกกระบวนการ เพิ่มความเสี่ยงต่อการปนเปื้อน และลดความสามารถในการทำซ้ำ ดังนั้น ความเร็วในการปั๊มสูงจึงกลายเป็นตัวกระตุ้นกระบวนการ ไม่ใช่แค่ข้อกำหนดเฉพาะของสุญญากาศ 

    การเปลี่ยนสถานะแรงดันข้ามลำดับกระบวนการ FALP

    พิสูจน์ว่าความเร็วและความแม่นยำสามารถอยู่ร่วมกันได้

    ผลลัพธ์แสดงให้เห็นถึงสิ่งที่สามารถทำได้เมื่อนำความเชี่ยวชาญด้านกระบวนการและเทคโนโลยีสุญญากาศมารวมกันเพื่อแก้ไขความท้าทายในการผลิต

    ภายในแพลตฟอร์ม FALP แรงดันในห้องอบจะเปลี่ยนจากค่าสูงสุดของการยิงก๊าซเข้าไปเป็นแรงดันในการทำงานของพลาสมาในเวลาประมาณ 100 มิลลิวินาที ซึ่งรองรับการแลกเปลี่ยนก๊าซที่รวดเร็วที่จำเป็นสำหรับ PEALD และ ALE ความเร็วสูง

    นอกจากนี้ P lasway-Technologies ยังรายงานว่าหลังจากการทดลองอย่างต่อเนื่องสี่ปีในสภาพแวดล้อม PEALD ปั๊มเทอร์โบโมเลกุลาร์ของ Edwards ยังคงทำงานได้อย่างเต็มที่

    สำหรับผู้ผลิต ผลลัพธ์เหล่านี้แปลเป็นประโยชน์ที่จับต้องได้:

    • การเปลี่ยนแปลงกระบวนการที่รวดเร็วขึ้น
    • ความสามารถในการผลิตที่เพิ่มขึ้น
    • สภาวะกระบวนการที่เสถียรและทำซ้ำได้
    • ความน่าเชื่อถือที่ผ่านการพิสูจน์แล้วในการใช้งานที่มีความต้องการสูง
    • ความมั่นใจมากขึ้นในการปรับขยายสเกลกระบวนการขั้นสูง

     

    วิสัยทัศน์

    เนื่องจากความกว้างของสายเซมิคอนดักเตอร์มีขนาดเล็กลงและโครงสร้างอุปกรณ์มีความซับซ้อนมากขึ้น ผู้ผลิตจึงต้องการการควบคุมการสะสมของวัสดุและการกัดกร่อนในระดับอะตอมที่แม่นยำมากขึ้น

    การทำงานระหว่าง Plasway-Technologies และ Edwards สะท้อนถึงการเปลี่ยนแปลงที่กว้างขึ้นที่เกิดขึ้นในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ในขณะที่กระบวนการชั้นอะตอมขั้นสูงเปลี่ยนจากสภาพแวดล้อมการพัฒนาไปสู่การนำไปใช้ในการผลิตที่กว้างขึ้น ความสนใจก็หันไปที่สภาพแวดล้อมของกระบวนการเองมากขึ้นเรื่อยๆ

    ความก้าวหน้าต่อไปใน PEALD และ ALE จะไม่ได้ขับเคลื่อนด้วยเทคโนโลยีที่ล้ำสมัยเพียงอย่างเดียว ซึ่งจะมาจากการผสานรวมความเชี่ยวชาญด้านกระบวนการ การออกแบบระบบ และเทคโนโลยีที่ช่วยให้สามารถปลดล็อกการผลิตที่รวดเร็วขึ้น มีประสิทธิภาพมากขึ้น และเชื่อถือได้มากขึ้น

    ในสภาพแวดล้อมนั้น สุญญากาศไม่ใช่เพียงแค่สิ่งอำนวยความสะดวกสนับสนุนอีกต่อไป ซึ่งเป็นปัจจัยที่มีความสำคัญมากขึ้นเรื่อยๆ ต่อความสามารถของกระบวนการ ช่วยให้ผู้ผลิตสามารถเชื่อมโยงช่องว่างระหว่างความแม่นยำในระดับอะตอมกับความสามารถในการผลิตในระดับอุตสาหกรรม 

    อนาคตของการแปรรูปชั้นอะตอมจะขึ้นอยู่กับการบรรลุความแม่นยำในระดับอะตอมเท่านั้น แต่ยังขึ้นอยู่กับการส่งมอบความแม่นยำดังกล่าวด้วยความเร็วที่ความต้องการในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์สมัยใหม่

    คำถามที่พบบ่อย

     

    สุญญากาศมีบทบาทอย่างไรใน PEALD และ ALE 
    เทคโนโลยีสุญญากาศช่วยรักษาสภาวะแรงดันต่ำที่จำเป็นสำหรับการแปรรูปพลาสมา และกำจัดก๊าซในกระบวนการได้อย่างรวดเร็วระหว่างขั้นตอนกระบวนการ การกำจัดก๊าซอย่างมีประสิทธิภาพยังช่วยรักษาความสามารถในการทำซ้ำของกระบวนการและลดความเสี่ยงของก๊าซตกค้างที่ส่งผลกระทบต่อรอบถัดไป

    เหตุใดการกำจัดก๊าซอย่างรวดเร็วจึงมีความสำคัญในการแปรรูปชั้นอะตอม 
    PEALD และ ALE กำหนดให้ก๊าซในกระบวนการต้องถูกนำเข้า กระจาย และกำจัดอย่างมีประสิทธิภาพก่อนที่จะเริ่มขั้นตอนกระบวนการถัดไป การเปลี่ยนแปลงที่รวดเร็วขึ้นสามารถรองรับปริมาณงานที่สูงขึ้น ในขณะที่การกำจัดก๊าซที่ไม่สมบูรณ์อาจส่งผลต่อความสามารถในการทำซ้ำและคุณภาพของกระบวนการ

    ปั๊มสุญญากาศรุ่นใดที่ใช้ในแพลตฟอร์ม FALP 
    แพลตฟอร์ม FALP ใช้ปั๊มเทอร์โบโมเลกุลาร์ STP-iXA3306CV ของ Edwards ซึ่งถูกเลือกเพื่อให้ได้แรงดันในการทำงานต่ำและการกำจัดก๊าซจากห้องอย่างรวดเร็ว โดยเฉพาะอย่างยิ่งในระหว่างเฟสการล้าง

    การเปลี่ยนแปลงแรงดันในแท่นชั่ง FALP รวดเร็วเพียงใด 
    ความดันในห้องอบเปลี่ยนจากค่าสูงสุดของการยิงก๊าซเข้าไปเป็นความดันในการทำงานของพลาสมาในเวลาประมาณ 100 มิลลิวินาที รองรับการแลกเปลี่ยนก๊าซอย่างรวดเร็วที่จำเป็นสำหรับ PEALD และ ALE ความเร็วสูง

    service exchange pump repair

    อ่านเพิ่มเติมโดยดาวน์โหลด "เทคโนโลยี Edwards และ plasway: กรณีศึกษาเกี่ยวกับปั๊มเทอร์โบ

    รีจิสเตอร์

    คุณต้องการรับการอัปเดตทางอีเมลหรือไม่