Vacuum Solutions for Industrial Coating - Brochure
โซลูชันสุญญากาศของ Edwards สําหรับเทคโนโลยีฟิล์มบางที่เป็นนวัตกรรม
เทคโนโลยีการเคลือบฟิล์มบางกลายเป็นส่วนสําคัญมากในชีวิตของเราในทุกแง่มุม ไม่ว่าจะเป็นการใช้งานสําหรับผู้บริโภค เช่น แว่นตาหรือกรอบแว่นตา โทรศัพท์มือถือ เลนส์กล้อง ถุงอาหารที่ทําจากโลหะ ลูกบิดประตู รูปปั้นตกแต่ง หรือในการใช้งานทางอุตสาหกรรมในการผลิตแผงโซลาร์เซลล์เพื่อกักเก็บพลังงานแสง ตลอดจนในการผลิตวงจรอิเล็กทรอนิกส์ มีการใช้งานอย่างกว้างขวางและเป็นคุณสมบัติที่รองรับวัตถุประจําวันจํานวนมาก
รายชื่อนี้ไม่มีที่สิ้นสุด โดยมีการค้นพบกระบวนการใหม่ๆ เป็นประจําสําหรับการสะสมของโลหะ สารประกอบ หรือออกไซด์บนสารตั้งต้น เช่น โลหะ, พลาสติกหรือเซรามิก และการดัดแปลงคุณสมบัติพื้นผิวของสารตั้งต้นเหล่านี้ และการเปลี่ยนแปลงคุณสมบัติต่างๆ เช่น การส่งผ่าน การสะท้อน ความแข็ง, ความต้านทาน การดูดกลืน การกัดกร่อน และพฤติกรรมไฟฟ้า ตัวอย่างบางส่วน ได้แก่ ความแม่นยําและความไวที่ดีขึ้นของเซ็นเซอร์ทางการแพทย์และเซ็นเซอร์ตรวจจับสิ่งแวดล้อม แว่นตาที่มีการปล่อยแสงต่ํา แว่นตาที่มีการเคลือบป้องกันแสงสะท้อน การเคลือบป้องกันลายนิ้วมือสําหรับหน้าจอสัมผัส, การเคลือบป้องกัน (DLC) สําหรับกล้องรถยนต์, ตัวกั้นการแพร่กระจายสําหรับบรรจุภัณฑ์อาหาร, พื้นผิวกันน้ํา, การเคลือบ tribological สําหรับเทียม, สีสันสดใสและกราฟิกบนสมาร์ทโฟนและผลผลิตที่มีประสิทธิภาพสูงขึ้นสําหรับแผงโซลาร์เซลล์
การเคลือบฟิล์มบางทํางานอย่างไร
เทคนิคการสะสมฟิล์มบางสามารถแบ่งออกเป็นกระบวนการทางกายภาพและกระบวนการทางเคมีได้ในแง่ง่ายๆ
การสะสมของไอทางกายภาพ (PVD)
ซึ่งเกี่ยวข้องกับการระเหยของวัสดุจากสถานะของแข็งและการควบแน่นบนซับสเตรตที่อุณหภูมิต่ํากว่า กระบวนการเหล่านี้มักเกิดขึ้นในสภาพแวดล้อมสุญญากาศสูง ซึ่งปั๊มสุญญากาศปฐมภูมิถูกรวมกับปั๊มสุญญากาศรอง เช่น ปั๊มเทอร์โบโมเลกุล ปั๊มแบบเย็น หรือปั๊มแบบแพร่กระจาย เพื่อลดเวลาการปั๊มลงและเพิ่มปริมาณงาน สามารถเพิ่มการปั๊มไอน้ําเย็นเพิ่มเติมที่เรียกว่า PolycoldTM ในห้องเคลือบได้
กล่าวโดยสรุปคือ มีกระบวนการ PVD ที่หลากหลาย โดยส่วนใหญ่ขึ้นอยู่กับเทคนิคการระเหย:
- แหล่งกําเนิดความร้อนต้านทาน
- ลําแสงอิเล็กตรอน
- การปล่อยประกายไฟ
- การสปัตเตอร์พลาสมาแมกนีตรอน
- การสปัตเตอร์ลําแสงไอออน
นอกจากนี้ยังสามารถแบ่งส่วนการเคลือบ PVD ตามการออกแบบโครงสร้างได้อีกด้วย:
- เครื่องเคลือบแบบแบตช์หรือเครื่องเคลือบกล่อง: ผลิตภัณฑ์จะถูกโหลดและถ่ายออกหลังจากกระบวนการสะสมแต่ละครั้ง
- เครื่องเคลือบแบบม้วนต่อม้วน: ซับสเตรตแบบม้วนที่ยืดหยุ่นจากแหล่งกําเนิดจะถูกป้อนเข้าสู่ห้องกระบวนการเคลือบอย่างต่อเนื่อง จากนั้นม้วนกลับไปยังม้วนแยกต่างหากก่อนนําออกเมื่อกระบวนการเสร็จสิ้น
- เครื่องเคลือบแบบอินไลน์: เครื่องเคลือบแบบต่อเนื่องที่แท้จริงสําหรับความต้องการปริมาณงานสูง ซึ่งผลิตภัณฑ์จะถูกโหลดเข้าไปในห้องป้อนเข้า หรือเรียกว่าห้องป้อนหรือล็อคโหลด และออกมาผ่านห้องป้อนออก หรือเรียกว่าห้องป้อนออก
การสะสมของไอเคมี (CVD)
เทคนิคนี้เป็นเทคนิคการสะสมที่วัสดุต้นทางหรือสารตั้งต้นถูกนําเข้าสู่ห้องหรือเครื่องปฏิกรณ์ในสถานะก๊าซ โดยปกติแล้วจะเกิดปฏิกิริยาเคมีกับก๊าซอื่น ๆ ก่อนการควบแน่นบนซับสเตรต กระบวนการเหล่านี้มักเกิดขึ้นที่ 10 -3 mbar และสูงกว่า กระบวนการสะสมของสารเคมีขึ้นอยู่กับวิธีที่ปฏิกิริยาเกิดขึ้น ปฏิกิริยาความร้อนแบบเรียบง่าย หรือด้วยความช่วยเหลือของแรงดันที่ลดลง (LPCVD) หรือด้วยความช่วยเหลือของพลาสมา (PECVD หรือ PACVD) ความก้าวหน้าล่าสุดในกระบวนการสะสมชั้นอะตอม (ALD) และ Epitaxy ในวัฏภาคของเหลวกําลังเติบโตในภาคอิเล็กทรอนิกส์
บทบาทของเทคโนโลยีสุญญากาศในการเคลือบฟิล์มบาง
เทคโนโลยีสุญญากาศมีความสําคัญต่อกระบวนการเหล่านี้ เนื่องจากไอของวัสดุเหล่านี้จําเป็นต้องไหลอย่างอิสระและปราศจากสิ่งเจือปน เข้าสู่บรรยากาศแรงดันต่ําและลงบนซับสเตรต หรือเพียงเพื่อให้สภาวะกระบวนการสําหรับพลาสมาทํางานได้ ดังนั้น การสร้างบรรยากาศสุญญากาศและการตรวจสอบแรงดันจึงมีความสําคัญอย่างยิ่งต่อกระบวนการเหล่านี้
Edwards เป็นผู้นําในอุตสาหกรรมฟิล์มบางโดยการพัฒนาโซลูชันสุญญากาศที่หลากหลายอย่างต่อเนื่อง เช่น ระบบปั๊มสุญญากาศปฐมภูมิ ปั๊มสุญญากาศรอง เกจวัดสุญญากาศ เครื่องวิเคราะห์ก๊าซตกค้าง ตลอดหลายปีเพื่อตอบสนองความต้องการที่เข้มงวดของกระบวนการเคลือบผิวที่หลากหลาย ไม่ว่าจะเป็นการจัดการรอบการปั๊มที่รวดเร็วตามความต้องการของกระบวนการเคลือบแก้วและพลังงานแสงอาทิตย์ หรือการจัดการกระบวนการที่รุนแรงในการใช้งาน ALD หรือ LPE เรามีโซลูชันสุญญากาศที่เหมาะสมที่สุดเพื่อตอบสนองความต้องการของคุณ
นี่คือภาพรวมของโซลูชันสุญญากาศที่แม่นยําของ Edwards สําหรับกระบวนการเคลือบฟิล์มบาง
