顧客の生産性を支援
サブファブの可用性を最大化
今日急速に変化するコネクテッドワールドにおいて、当社は、お客様の生産性を最大化する必要性を理解しています。当社は、製造プロセスがもたらすリスクや環境問題を軽減する努力を続けながら、技術を市場に先駆けて提供することでこれを実現しています。
エドワーズの統合ソリューションは、業界で最も先進的な技術を使用したグローバルな経験に基づいて、お客様の真空および排気管理のニーズ全体を評価します。当社の統合システムは、製品およびサービスの再現性と省スペースの利点を提供します。生産性、安全性、環境への安心感を向上させます。また、当社の統合システムは、設置とセットアップの迅速化、規模の経済性、安全性の向上という直接的な利点ももたらします。
EZENITHは、すべての半導体プロセス用途に対して真空排気から排ガス処理まで一元管理した統合システムで、プロセスごとに合わせた装置構成を提供します。EZENITHシステムは、次の点で他と一線を画しています：
- プロセス中心の真空および排気管理
- コンポーネントの完全な一体型
- 強力な統合コントロールインターフェイスによる各機能のサポート
- スペースの効率性を念頭に設計 - 最大70%の節約
- 完全な内部分配、サービスの規制、監視により、スムーズで信頼性の高い動作を確保しながら、ユーティリティの接続部を60%以上減少
ポンプとガス除害装置だけではプロセスを実行する準備はまだできていません。ポンプ排気を接続し、必要に応じてラインヒータを接続し、水を流し、パージおよび電気ラインを行い、すべての制御信号を準備する必要があります。また、二重エンクロージャ、ガス漏れ検知、およびツールメンテナンス後のリークチェックの実施方法も考慮する必要があります。これらはすべて設計に時間と費用がかかります。当社は問題を理解し、プロセス固有の統合ソリューションを開発しました。
当社の統合システムは、ほとんどの半導体プロセス向けにあらかじめ設計されています。排気ヒータは、コストを最小限に抑え、稼働時間を最大化するために、適切な温度に設定されています。必要に応じて、リークチェックポートとゲートバルブを設置します。システム全体が密閉されていますが、最も重要なことは、必要なユーティリティをそれぞれ1つずつ提供するだけで良いというです。ガス、水、電気、制御信号を必要な場所に分配し、すぐに使えるシステムを構築します。