アウトガス：システムのガス負荷の主要要因

システムのガス負荷にはいくつかの要因があります。10 Pa以下の圧力では、最も支配的なのは「アウトガス」であることが多いです。

アウトガスとは、すでに吸着した分子の脱着、バルク拡散、透過、気化の結果である。吸着は、物理吸着と化学吸着の2つの主な過程を経て起こり、5つ（または6つ）の分類等温線を用いて表現することができます。

脱離速度、排気速度、および表面への吸着量から、システムの正味のアウトガスを計算することができます。

図1に見られるように、システムのガス負荷への影響は以下からもたらされます。

1. システム内の初期ガスまたは「バルク」ガス
2. プロセス負荷
3. 逆流
4. リーク
5. アウトガス

プロセス負荷のない高真空(HV)のリークタイトシステムでは、アウトガスはガス負荷の100%である可能性があります。

ガス負荷に対する様々な化学種の相対的な影響は、圧力によって変化します。

多くのHV用途では、アウトガスの観点から水蒸気が主な懸念事項です。しかし、すべての金属システムでUHVを達成するためには、H2のアウトガスが重要です。

下の表は、様々な圧力における典型的な主要ガス負荷を示しています。

1. 実際の表面材料自体の気化（金属の場合、これは一般的な使用温度では無視できるほど小さいです）
2. 脱着：これは吸着の逆のプロセスであり、チャンバーと内部備品の表面に結合した分子の放出です。
3. 拡散：材料の内部構造から表面への分子の移動
4. 透過：外部雰囲気からバルクを通って真空表面への分子の移動

これらのそれぞれがどの程度アウトガスに影響するかは、ガスと表面材料（およびその履歴）の両方の組成に依存します。アウトガス発生率は、これらの影響度の合計です。