Vacuum Solutions for Industrial Coating - Brochure
Soluzioni per vuoto Edwards per tecnologie innovative a film sottile
La tecnologia di rivestimento a film sottile è diventata una parte molto importante della nostra vita in ogni aspetto, sia nelle applicazioni di consumo come occhiali da vista o montature, telefoni cellulari, obiettivi per fotocamere, bustine metallizzate per il servizio alimentare, maniglie delle porte, figure decorative o nelle applicazioni industriali nella produzione di pannelli solari per trattenere l'energia luminosa, nonché nella produzione di circuiti elettronici. L'uso è diffuso ed è una caratteristica di supporto per molti oggetti di uso quotidiano.
L'elenco è infinito, con nuovi processi che vengono scoperti regolarmente per la deposizione di metalli, composti o ossidi su substrati come metalli, materie plastiche o ceramiche e modificare le caratteristiche superficiali di questi substrati, nonché modificare le proprietà come trasmissione, riflessione, durezza, resistenza, assorbimento, corrosione e comportamento elettrico. Alcuni esempi includono una migliore precisione e sensibilità dei sensori medici e ambientali, occhiali a bassa emissività, occhiali con rivestimenti antiriflesso, rivestimenti antiimpronta per touchscreen, rivestimenti protettivi (DLC) per telecamere automobilistiche, barriera di diffusione per confezioni alimentari, superfici idrorepellenti, rivestimento tribologico per protesi, colori e grafiche vivaci sugli smartphone e una resa più elevata dei pannelli solari.
Come funziona il rivestimento a film sottile?
Le tecniche di deposizione a film sottile possono essere suddivise in termini semplici tra processi fisici e chimici.
Deposizione fisica in fase di vapore (PVD)
Ciò comporta la vaporizzazione di un materiale dallo stato solido e la condensazione su un substrato a una temperatura più bassa. Questi processi si svolgono tipicamente in un ambiente ad alto vuoto in cui le pompe per vuoto primarie sono combinate con pompe per vuoto secondarie come pompe turbomolecolari, criogeniche o a diffusione. Per ridurre i tempi di fermo della pompa e aumentare la produttività, è possibile aggiungere un ulteriore pompaggio criogenico del vapore acqueo, il cosiddetto PolycoldTM , nella camera di rivestimento.
In breve, esistono diversi processi PVD, principalmente a seconda della tecnica di vaporizzazione:
- Fonte di calore resistiva
- Fascio elettronico
- Scariche da arco elettrico
- Sputtering plasma a magnetron
- Sputtering a fascio di ioni
I rivestitori PVD possono anche essere segmentati in base al loro design costruttivo:
- Rivestitori batch o box: i prodotti vengono caricati e scaricati dopo ogni processo di deposizione.
- Rivestitore da rullo a rullo: un substrato laminato flessibile di origine viene alimentato continuamente nella camera di processo di rivestimento e quindi riavvolto su un rullo separato prima di essere estratto al termine del processo.
- Rivestitori in linea: veri e propri rivestitori continui per requisiti di elevata produttività, in cui il prodotto viene caricato nella camera di ingresso, detta anche camera di carico o blocco di carico, ed esce attraverso la camera di uscita, detta anche camere di scarico.
Reattori per la deposizione chimica in fase di vapore
Si tratta di una tecnica di deposizione in cui il materiale sorgente, o precursore, viene introdotto nella camera o nel reattore in fase gassosa, di solito reagendo chimicamente con altri gas prima della condensazione sul substrato. Questi processi si svolgono tipicamente a 10-3 mbar e oltre. I processi di deposizione chimica dipendono dal modo in cui la reazione è abilitata, dalla semplice reazione termica o con l'assistenza di una pressione ridotta (LPCVD) o con l'assistenza del plasma (PECVD o PACVD). I recenti progressi nei processi di deposizione dello strato atomico (ALD) e di epitassia in fase liquida stanno guadagnando slancio nel settore dell'elettronica.
Il ruolo della tecnologia del vuoto nel rivestimento a film sottile
La tecnologia del vuoto è fondamentale per questi processi, poiché i vapori di questi materiali devono fluire senza ostacoli e senza impurità in atmosfere a bassa pressione e sui substrati, o semplicemente per consentire le condizioni di processo per un plasma. Pertanto, la generazione di un'atmosfera di vuoto e il monitoraggio delle pressioni sono estremamente importanti per questi processi.
Edwards è stata all'avanguardia nel settore dei film sottili sviluppando continuamente un'ampia gamma di soluzioni per vuoto - sistemi di pompaggio per vuoto primario, pompe per vuoto secondarie, vacuometri, analizzatori di gas residui - nel corso degli anni per soddisfare i severi requisiti di diversi processi di rivestimento. Che si tratti di gestire i cicli di pompaggio rapidi richiesti dal processo di rivestimento del vetro e dell'energia solare o di gestire i processi difficili nelle applicazioni ALD o LPE, abbiamo soluzioni per vuoto ottimizzate per soddisfare le vostre esigenze.
Ecco un'occhiata alle soluzioni per vuoto di precisione di Edwards per i processi di rivestimento a film sottile
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