Vacuum Solutions for Industrial Coating - Brochure
Technologie tenkovrstvých povlaků se stala velmi důležitou součástí našeho života ve všech aspektech, ať už v spotřebitelských aplikacích, jako jsou brýle nebo obruby, mobilní telefony, objektivy fotoaparátů, pokovené sáčky na potraviny, kliky, dekorativní figurky nebo v průmyslových aplikacích při výrobě solárních panelů pro ukládání světelné energie a také při výrobě elektronických obvodů. Použití je rozsáhlé a je nutností při výrobě mnoha každodenních předmětů.
Seznam je nekonečný a pravidelně se objevují nové procesy nanášení kovů, sloučenin nebo oxidů na substráty, jako jsou kovy, plasty nebo keramiky a změnou povrchových vlastností těchto substrátů a změnou vlastností, jako je propustnost, odrazivost, tvrdost, odpor, absorpce, koroze a elektrického chování. Několik příkladů zahrnuje vylepšenou přesnost a citlivost lékařských a environmentálních senzorů, skla s nízkou emisivitou, brýle s antireflexní povrchovou úpravou, povrchové úpravy proti otiskům prstů pro dotykovou obrazovku, ochranné (DLC) vrstvy pro autokamery, difúzní bariéra pro potravinářské obaly, voděodolné povrchy, tribologický nátěr pro protézy, živé barvy a grafika na chytrých telefonech a vyšší účinnost solárních panelů.
Techniky nanášení tenkého filmu lze jednoduše rozdělit na fyzikální a chemické procesy.
Jedná se o odpařování materiálu z pevného stavu a kondenzaci na substrát při nižší teplotě. Tyto procesy obvykle probíhají ve vysokovakuovém prostředí, kde jsou primární vývěvy kombinovány se sekundárními vývěvami, jako jsou turbomolekulární, kryogenní nebo difúzní vývěvy. Pro zkrácení doby odčerpání a zvýšení průchodnosti lze do povlakovací komory přidat další kryogenní čerpání vodní páry, tzv. PolycoldTM .
Stručně řečeno, v závislosti na depoziční technice existují různé procesy PVD:
Povlakovací zařízení PVD lze také rozdělit podle jejich konstrukčního provedení:
Jedná se o nanášecí techniku, při které je zdrojový materiál nebo prekurzor přiváděn do komory nebo reaktoru v plynné fázi, obvykle chemicky reagující s jinými plyny před kondenzací na substrátu. Tyto procesy obvykle probíhají při tlaku 10-3 mbar a vyšším. Procesy chemického nanášení závisí na tom, jak je reakce umožněna, jednoduchá tepelná reakce nebo s asistencí sníženého tlaku (LPCVD) nebo s asistencí plazmatu (PECVD nebo PACVD). Nedávné pokroky v procesech depozice atomových vrstev (ALD) a epitaxie z kapalné fáze nabývají v odvětví elektroniky na dynamice.
Vakuová technologie je pro tyto procesy kriticky důležitá, protože výpary těchto materiálů musí proudit neomezeně a bez nečistot do nízkotlaké atmosféry a na substráty, nebo jen proto, aby umožnily procesní podmínky pro plazma. Proto je pro tyto procesy mimořádně důležité vytvářet vakuovou atmosféru a monitorovat tlaky.
Společnost Edwards je lídrem pro dodávky do odvětví výroby tenkých vrstev a v průběhu let neustále vyvíjí širokou škálu vakuových řešení – primární vakuové čerpací systémy, sekundární vakuové vývěvy, vakuometry, analyzátory zbytkových plynů, - aby byly splněné přísné požadavky různých povlakovacích procesů. Ať už se jedná o řízení rychlých čerpacích cyklů požadovaných při povlakování skla a solárních panelů, nebo o řízení náročných procesů v aplikacích ALD nebo LPE, máme optimalizovaná vakuová řešení, která splní vaše požadavky.