Vacuum Solutions for Industrial Coating - Brochure
愛德華用於創新薄膜技術的真空解決方案
薄膜鍍膜技術已成為我們生活中各個方面的重要部分，無論是在消費者應用中，例如眼鏡或鏡框、手機、相機鏡片、金屬食品袋、門把手、裝飾人偶，還是在太陽能板製造中用於保留光能以及電子電路製造中的工業應用。其用途廣泛，是許多日常物品的支援功能。
這個清單是無盡的，定期發現用於將金屬、化合物或氧化物沉積在金屬等基材上的新製程, 塑膠或陶瓷，以及改變這些基材的表面特性，以及改變透射率、反射率、硬度等特性, 電阻、吸收、腐蝕和電氣行為。一些例子包括改善醫療和環境感測器的準確度和靈敏度、低發射性眼鏡、具有抗反射塗層的眼鏡、用於觸控螢幕的防指紋塗層, 汽車攝影機的保護 (DLC) 塗層，食品包裝的擴散屏障，防水表面，假體的摩擦塗層, 智慧型手機上的鮮艷色彩和圖形，並提高太陽能電池板的效率。
薄膜塗層的工作原理是什麼？
薄膜沉積技術可簡單地分為物理和化學製程。
物理氣相沉積 (PVD)
這涉及材料從固態蒸發並在較低溫度下凝結到基材上。這些製程通常在高真空環境中發生，其中主要真空泵浦與次要真空泵浦（如渦輪分子、低溫或擴散泵浦）相結合。為了減少泵浦停機時間並提高產量，可以在塗層室中增加額外的低溫水蒸汽抽氣，即所謂的 Polycold TM 。
簡而言之，有不同的 PVD 製程，主要取決於蒸發技術：
- 電阻式熱源
- 電子束
- 電弧放電
- 磁控管電漿濺射
- 離子束濺射
PVD 鍍膜也可根據其結構設計進行分割：
- 批次鍍膜機或盒式鍍膜機：產品在每個沉積過程後裝載和卸載。
- 滾動式鍍膜機：將來源彈性滾動基材連續送入鍍膜製程室，然後重新捲繞到單獨的滾筒上，然後在製程完成時取出。
- 生產線上鍍膜機：滿足高產出要求的真正連續鍍膜機，其中產品裝載到進料室（也稱為裝載室或裝載鎖）中，並通過出口室（也稱為卸載室）排出。
化學氣相沉積 (CVD)
這是一種沉積技術，其中來源材料或前驅物在氣相中引入腔室或反應器，通常在基材上凝結之前與其他氣體進行化學反應。這些製程通常在 10 -3 mbar 及以上的壓力下進行。化學沉積製程取決於如何啟用反應、簡單的熱反應，或是透過減壓 (LPCVD) 或是電漿輔助（PECVD 或 PACVD）進行。原子層沉積 (ALD) 和液相外延生成工藝的近期進展在電子產業中有所加速。
這裡是愛德華用於薄膜鍍膜製程的精密真空解決方案
與義大利鍍膜專家一起強化 PVD 沉積 - Kolzer
