Vacuum Solutions for Industrial Coating - Brochure
薄膜コーティング技術は、メガネやフレーム、携帯電話、カメラレンズ、金属製袋、ドアノブ、装飾フィギュアなどの消費者用途、光エネルギーを保持するソーラーパネルの製造、電子回路の製造などの産業用途など、あらゆる面で私たちの生活の非常に重要な部分となっています。広く使用されており、多くの日常的な物品のサポート機能となっています。
金属、化合物、酸化物を金属などの基材に堆積させるための新しいプロセスが定期的に発見されるため、リストは無限です。, プラスチックやセラミックの表面特性を変更し、透過率、反射率、硬度などの特性を変化させる, 抵抗、吸収、腐食、電気的挙動などがあります。たとえば、医療用および環境用センサの精度と感度の向上、低放射ガラス、反射防止コーティング付き眼鏡、タッチスクリーン用指紋防止コーティングなどがあります。, 自動車カメラ用保護 (DLC) コーティング、食品パッケージ用拡散バリア、撥水性表面、人工装具用トリボロジカルコーティング, スマートフォンの鮮やかな色とグラフィック、ソーラーパネルの効率性向上。
薄膜堆積技術は、単純に物理的プロセスと化学的プロセスに分けることができます。
これには、固体状態からの材料の気化と、低温で基材への凝縮が含まれます。これらのプロセスは通常、一次真空ポンプとター ボ分子ポンプ、クライオポンプ 、拡散ポンプなどの二次真空ポンプを組み合わせた高真空環境で行われます。ポンプダウン時間を短縮し、スループットを向上させるために、コーティングチャンバーに Polycold TM と呼ばれる追加の低温水蒸気ポンプを追加できます。
簡単に言えば、主に気化技術に応じてさまざまな PVD プロセスがあります。
PVD コーターは、構造設計に応じてセグメント化することもできます。
これは、ソース材料または前駆体が気相でチャンバまたはリアクタに導入され、通常は基材上で凝縮する前に他のガスと化学反応する堆積技術です。これらのプロセスは通常、10 -3 mbar 以上で行われます。化学堆積プロセスは、反応の有効化方法、単純な熱反応、減圧 (LPCVD) の支援、プラズマ支援(PECVD または PACVD)によって異なります。最近の原子層堆積 (ALD) および液相エピタキシープロセスの進歩は、エレクトロニクス分野で勢いを増しています。
真空テクノロジーは、これらの材料の蒸気が妨げられずに不純物なしで低圧雰囲気に流れ込み、基材に流れ込むこと、または単にプラズマのプロセス条件を可能にすることが求められるため、これらのプロセスにとって非常に重要です。したがって、真空雰囲気の生成と圧力のモニタリングは、これらのプロセスにとって非常に重要です。
エドワーズは、多様なコーティングプロセスの厳しい要件を満たすために、一次真空ポンプシステム、二次真空ポンプ、 真空ゲージ、残留ガス分析装置 など、幅広い真空ソリューションを継続的に開発することで、薄膜業界の最前線に立ってきました。ガラスおよびソーラーコーティングプロセスで要求される高速ポンプサイクルの管理、または ALD または LPE アプリケーションの過酷なプロセスの管理など、お客様の要件に合わせて最適化された真空ソリューションをご用意しています。