Qu’est-ce que l’EUV Vizeon ?
EUV Vizeon est conçu pour répondre aux exigences actuelles tout en prenant en charge les feuilles de route EUV de demain. En combinant la génération de vide, la gestion de l’hydrogène, le traitement des gaz d’échappement et le contrôle coordonné dans une plateforme modulaire, elle aide les clients à réduire l’encombrement, à réduire la consommation d’énergie et à améliorer la productivité des générations actuelles et futures d’EUV.
Prise en charge intégrée des sous-usines pour les outils EUV
EUV Vizeon est installé dans la sous-fabrique et directement connecté à l’outil de lithographie EUV ci-dessus. Ce n’est pas l’outil de lithographie lui-même, mais le système de support intégré qui aide l’outil à fonctionner efficacement, de manière fiable et sûre. La plateforme coordonne la génération de vide, la manipulation de l’hydrogène, la gestion des gaz d’échappement et le contrôle du système dans une architecture optimisée.
Conçu comme une série modulaire de tranches intégrées, l’EUV Vizeon combine des pompes sèches avancées, des surpresseurs, la gestion des gaz d’échappement, la dilution de l’hydrogène et le contrôle central dans un seul système coordonné. Cette conception modulaire permet de simplifier l’intégration dans les espaces restreints des sous-usines et offre aux clients une solution évolutive adaptée à leurs processus et aux exigences de leur installation.
L’EUV Vizeon est conçu pour répondre aux contraintes d’encombrement strictes des principales usines, avec une hauteur réduite de moins de 2 mètres pour répondre aux exigences mondiales des clients. En réduisant l’encombrement et la hauteur des sous-usines tout en maintenant les performances, il aide les clients à utiliser plus efficacement l’espace précieux de l’usine.
Regardez la vidéo ci-dessous avec Richard Salloum, chef de produit senior pour les systèmes intégrés EUV chez Edwards, pour en savoir plus sur EUV Vizion et les technologies connexes
Fonctionnalités et avantages clés :
- Encombrement réduit pour une meilleure efficacité de l’usine
- Réduction de la consommation d’énergie et d’énergie
- Conçu pour les procédés EUV à haut débit d’hydrogène
Encombrement réduit pour une meilleure efficacité de l’usine
L’empreinte d’un outil de processus de lithographie EUV a un impact direct sur les coûts de l’installation et la productivité de l’usine. Pour un outil de contrôle comme l’EUV, l’équipement de sous-fabrication doit généralement s’adapter à l’empreinte de l’outil qu’il supporte. Alors que les processus EUV exigent davantage de vide, d’échappement et d’infrastructures de support, l’efficacité de l’espace devient essentielle.
En intégrant des fonctions critiques dans une plateforme coordonnée, EUV Vizeon aide à réduire l’empreinte sous-usine sans compromettre les performances. Cela crée plus de flexibilité pour l’agencement de l’usine, soutient l’augmentation future de la capacité et contribue à réduire le coût total de possession.
Réduction de la consommation d’énergie et d’énergie
La puissance requise pour créer l’éclairage EUV est significativement plus élevée que dans les générations précédentes de lithographie, ce qui augmente l’examen de chaque système de support dans l’usine. Les clients examinent de près les coûts des services publics, l’impact environnemental et l’efficacité énergétique globale des équipements auxiliaires tels que les systèmes de vide.
Les systèmes EUV Vizeon d’Edwards offrent une réduction de 24 % de la consommation d’énergie de la pompe par rapport à notre plateforme précédente en utilisant la dernière technologie de nos pompes sèches basse puissance et de nos pompes Roots hautes performances. Il en résulte un système d’assistance EUV plus efficace qui aide les clients à réduire les coûts d’exploitation tout en soutenant les objectifs de durabilité.
Conçu pour les procédés EUV à haut débit d’hydrogène
Notre dernière plateforme intégrée de 4e génération, EUV Vizeon, fournit les performances nécessaires pour maintenir des niveaux de vide stables tout en gérant les débits d’hydrogène élevés essentiels aux processus EUV. Conçu pour des débits allant jusqu’à 1 000 slm, il répond aux besoins évolutifs des utilisateurs finaux et des fabricants d’outils EUV.
Basé sur des technologies de vide éprouvées et une intégration avancée des systèmes, l’EUV Vizeon combine des performances de pompage robustes avec une manipulation et un contrôle coordonnés des gaz. Cette approche au niveau du système aide à maintenir la stabilité des processus aujourd’hui tout en soutenant l’avenir prévisible de la lithographie EUV.
Conçu pour une disponibilité maximale
L’investissement important requis pour la lithographie EUV exerce une pression intense sur les fabricants pour maximiser la disponibilité et obtenir des rendements acceptables. Du point de vue de la sous-fab, cela signifie que la maintenance doit être planifiée pour s’aligner sur la maintenance programmée du système EUV dans la mesure du possible.
À mesure que les systèmes EUV maturent et que les fenêtres de maintenance se réduisent, les interruptions imprévues deviennent encore plus coûteuses. L’EUV Vizeon est conçu pour être fiable et facile à entretenir, de sorte que l’assistance au vide ne devienne pas un goulot d’étranglement pour la production d’outils.
Nos systèmes incluent des pompes remplaçables à chaud pour une sauvegarde à sécurité intégrée,et des procédures de maintenance majeures peuvent être effectuées pendant que le système reste en ligne.
Les dernières données confirment une disponibilité moyenne de 99,9 % de nos systèmes intégrés de gestion du vide et des gaz d’échappement prenant en charge les procédés EUV.
Manipulation sûre de l’hydrogène en lithographie EUV
La sécurité de la lithographie EUV dépend fortement de la manière dont les débits élevés d’hydrogène sont gérés. Les approches conventionnelles telles que la combustion contrôlée ou la dilution de l’azote peuvent ajouter des coûts économiques et environnementaux importants, en particulier pour les volumes de gaz requis par les procédés EUV avancés.
Edwards relève ce défi grâce à une approche innovante de la dilution de l’air, soutenue par une expertise approfondie en matière de limites d’inflammabilité, de technologies de dilution et de normes de sécurité industrielles. Il est conçu pour gérer l’hydrogène en toute sécurité tout en améliorant l’efficacité du système.
En maintenant le trajet critique où le mélange est inflammable très court et en le surveillant attentivement, le gaz est rapidement dilué à des concentrations non inflammables qui peuvent ensuite être transportées en toute sécurité à travers l’usine et libérées. La dilution de l’air élimine le coût du carburant et les émissions de carbone d’une combustion contrôlée et évite le coût élevé de l’azote pour la dilution.
Durabilité et réduction du coût total de possession
Edwards (qui fait partie d’Atlas Copco) s’engage à utiliser la méthodologie définie par l’initiative Science Based Targets (SBTi) pour atteindre son objectif de zéro émission nette de gaz à effet de serre. Il s’agit notamment de réduire les propres émissions d’Edwards, celles de nos fournisseurs et celles résultant de l’utilisation de nos produits par nos clients. La SBTi stimule l’action climatique ambitieuse parmi les parties prenantes de l’industrie en permettant aux entreprises de fixer des objectifs de réduction des émissions à l’aide d’une méthodologie cohérente et scientifique.
La durabilité est désormais étroitement liée à la productivité, à l’efficacité des services publics et au coût total de possession dans la fabrication avancée de semi-conducteurs. L’EUV Vizeon est conçu pour réduire l’impact environnemental de l’infrastructure de soutien de l’EUV grâce à une demande d’énergie plus faible, une consommation d’énergie réduite et une récupération d’hydrogène. Par rapport aux systèmes précédents, notre nouveau système intégré offre une réduction de 49 % de l’équivalent énergétique total, ainsi qu’une réduction significative des émissions d’équivalent CO2 et de gaz à effet de serre.
Vide intégré, manipulation et contrôle de l’hydrogène pour la lithographie EUV
Pendant des décennies, Edwards a joué un rôle central dans le développement et le déploiement de sous-systèmes intégrés à la lithographie EUV, fournissant plus de 200 systèmes de gestion du vide et des gaz d’échappement dans le monde entier. EUV Vizeon s’appuie sur cette expérience en tant que système d’assistance sous-usine intégré d’Edwards pour la lithographie EUV avancée.
La lithographie EUV est utilisée pour fabriquer les puces logiques les plus avancées et la mémoire à large bande passante. Elle dépend d’un vide stable, d’un débit d’hydrogène élevé, d’une gestion précise des gaz d’échappement et d’une disponibilité maximale dans une salle blanche et un environnement de sous-usine étroitement contrôlés. Alors que l’EUV est passé d’une technologie émergente à une fabrication à grand volume, les exigences en matière de systèmes de sous-usine ont considérablement augmenté.