O Atlas oferece um desempenho de redução inigualável
O Atlas™ da Edwards proporciona uma fiabilidade excecional, um excelente manuseamento de pó e resistência à corrosão, proporcionando um desempenho de redução para as indústrias de semicondutores, ecrãs planos, solar e MOCVD.
Tecnologia de redução Atlas: uma gama de soluções de redução de gases de combustão - específicas para o seu processo:
- Atlas TCS para gases CVD comuns (NF3/F2)
- Atlas TPU para gases PFC (ClF3, C2F6, C3F8) em processos CVD
- Atlas Kronis para os gases CVD de baixo k em processos de próxima geração
- Atlas Etch para processos de gravação semicon e de exibição de painel plano (CF4, SF6 e PFC de alto caudal)
- Atlas Helios para o tratamento seguro de processos de hidrogénio em epitaxia e MOCVD
Os sistemas Atlas™ têm um baixo consumo de combustível em comparação com os dispositivos de redução de gás da geração anterior. Utilizamos a comprovada tecnologia de combustão interna Alzeta™ para alcançar um custo de propriedade significativamente reduzido. Com uma a seis entradas com várias opções, incluindo um sistema de gestão de temperatura (TMS), os sistemas Atlas podem tratar uma capacidade de caudal de até 1200 slm. Foram concebidos para serem fáceis de utilizar e permitir uma manutenção mais eficiente.
Tecnologia de combustão interna da Edwards
Utilizada pela maioria dos principais fabricantes de semicondutores, a unidade de combustão interna tornou-se um padrão mundial no tratamento de gases desde 1994.
A nossa tecnologia de combustão única funciona com uma temperatura de combustão uniforme. Isto garante emissões de fundo muito baixas e o caudal de gás para dentro evita o contacto do material do processo com as paredes da câmara, o que minimiza o bloqueio por sólidos. A composição exclusiva do material da unidade de combustão garante uma resistência superior à corrosão e ajuda a fornecer ao Atlas uma fiabilidade e segurança inigualáveis.
No nosso centro de inovação ambiental de última geração, temos soluções adaptadas ao processo para um desempenho excecional, comprovadas no campo e verificadas por terceiros. Os DRE de abate normalmente vão além da legislação global e local:
SiH4 e outros haletos abaixo do TLV
NF3: >99% / <TLV
F2: >99% / <TLV
CF4: >90%
Outros PFCs: >99%
Com uma base de instalação extensa, uma equipa de aplicações global inigualável e assistência técnica, podemos oferecer a melhor solução concebida para as suas necessidades de processo. Entre em contacto com a nossa equipa e podemos trabalhar em conjunto para a resolução definitiva.
