Atlas tilbyder uovertruffen reduktionsydelse
Atlas™ fra Edwards giver enestående pålidelighed, fremragende pulverhåndtering og korrosionsbestandighed og leverer reduktionsydelse til halvleder-, fladskærms-, solcelle- og MOCVD-industrien.
Atlas-reduktionsteknologi: en række løsninger til reduktion af forbrændingsgasser – specifikt til din proces:
- Atlas TCS til almindelige CVD-gasser (NF3/F2)
- Atlas TPU til PFC-gasser (ClF3, C2F6, C3F8) i CVD-processer
- Atlas Kronis til CVD-gasser med lav k i næste generations processer
- Atlas Etch til halvlederætsning og fladskærmsvisningsprocesser (CF4, SF6 og PFC'er med højt flow)
- Atlas Helios til sikker behandling af brintprocesser i epitaxi og MOCVD
Atlas™-systemer har et lavt brændstofforbrug sammenlignet med tidligere generationer af gasreduktionsenheder. Vi bruger den gennemprøvede Alzeta™ indadfyrede forbrændingsteknologi for at opnå betydeligt reducerede ejeromkostninger. Med en til seks indløb med en række valgmuligheder, herunder et temperaturstyringssystem (TMS), kan Atlas-systemer håndtere en flowkapacitet på op til 1.200 slm. De er designet til at være nemme at bruge og muliggøre mere effektiv vedligeholdelse.
Edwards’ indadfyrede forbrændingsteknologi
Den indadfyrede forbrændingsenhed, der anvendes af de fleste store halvlederproducenter, er blevet verdensstandard inden for gasreduktion siden 1994.
Vores unikke forbrændingsteknologi arbejder med en ensartet forbrændingstemperatur. Dette sikrer meget lave baggrundsemissioner, og den indgående gasstrøm forhindrer procesmaterialet i at komme i kontakt med kammervæggene, hvilket minimerer tilstopning med faste stoffer. Den eksklusive sammensætning af forbrændingskammermaterialet sikrer overlegen modstandsdygtighed over for korrosion og bidrager til at give Atlas uovertruffen pålidelighed og sikkerhed.
På vores topmoderne miljøinnovationscenter har vi procestilpassede løsninger med enestående ydeevne, der er gennemprøvet i marken og verificeret af tredjepart. Bekæmpelse af medicinresistente reaktioner rækker typisk ud over global og lokal lovgivning:
SiH4 og andre halogenider under TLV
NF3: >99 % / <TLV
F2:: >99 % / <TLV
CF4: >90 %
Andre PFC'er: >99 %
Med en omfattende installationsbase, et uovertruffent globalt applikationsteam og servicesupport kan vi tilbyde den bedste løsning, der er designet til dine procesbehov. Kontakt vores team, så kan vi arbejde sammen om den ultimative løsning.
