Atlas ponúka bezkonkurenčný výkon znižovania emisií
Atlas™ od spoločnosti Edwards poskytuje výnimočnú spoľahlivosť, vynikajúcu manipuláciu s práškom a odolnosť voči korózii, čím poskytuje účinnosť znižovania emisií pre odvetvia polovodičov, plochých panelov, solárneho a MOCVD priemyslu.
Technológia preplachovania Atlas: rad riešení na preplachovanie spaľovacích plynov – špecifických pre váš proces:
- Atlas TCS pre bežné plyny CVD (NF3/F2)
- Atlas TPU pre plyny PFC (ClF3, C2F6, C3F8) v procesoch CVD
- Atlas Kronis pre plyny s nízkym k CVD v procesoch novej generácie
- Atlas Etch pre procesy leptania polovíc a plochého displeja (CF4, SF6 a vysokoprietokové PFC)
- Systém Atlas Helios na bezpečnú liečbu vodíkových procesov pri epitaxii a MOCVD
Systémy Atlas™ majú nízku spotrebu paliva v porovnaní so zariadeniami na úpravu plynu predchádzajúcej generácie. Na dosiahnutie výrazne nižších nákladov na vlastníctvo používame osvedčenú technológiu spaľovača Alzeta™ s vnútorným spaľovaním. Systémy Atlas s jedným až šiestimi vstupmi s množstvom možností vrátane systému riadenia teploty (TMS) dokážu spracovať prietokovú kapacitu až do 1 200 slm. Sú navrhnuté tak, aby sa ľahko používali a umožňovali efektívnejšiu údržbu.
Technológia spaľovania Edwards s vnútorným spaľovaním
Spaľovač s vnútorným spaľovaním používa väčšina veľkých výrobcov polovodičov a od roku 1994 sa stal svetovým štandardom v oblasti znižovania množstva plynu.
Naša jedinečná technológia spaľovania pracuje s rovnomernou teplotou spaľovania. To zaisťuje veľmi nízke emisie na pozadí a prúdenie plynu smerom dovnútra zabraňuje kontaktu procesného materiálu so stenami komory, čo minimalizuje upchatie pevnými látkami. Exkluzívne zloženie materiálu horáka zaisťuje vynikajúcu odolnosť voči korózii a prispieva k bezkonkurenčnej spoľahlivosti a bezpečnosti systému Atlas.
V našom najmodernejšom centre environmentálnych inovácií máme riešenia prispôsobené procesom pre vynikajúci výkon, osvedčené v teréne a overené treťou stranou. DRE na zníženie emisií zvyčajne presahujú rámec globálnej a miestnej legislatívy:
SiH4 a iné halogénidy pod TLV
NF3: > 99 % / < TLV
F2:: >99 % / <TLV
CF4: > 90 %
Iné PFC: > 99 %
Vďaka rozsiahlej inštalačnej základni, bezkonkurenčnému globálnemu aplikačnému tímu a servisnej podpore dokážeme ponúknuť najlepšie riešenie navrhnuté pre vaše procesné potreby. Obráťte sa na náš tím a my môžeme spolupracovať na konečnom riešení.
