Atlas erbjuder oöverträffad reduktionsprestanda
Atlas™ från Edwards erbjuder enastående tillförlitlighet, driftsäkerhet och korrosionsbeständighet för halvledar-, plattskärms-, solcells- och MOCVD-industrin.
Atlas reduktionsteknik: en rad lösningar för reduktion av förbränningsgaser – specifika för din process:
- Atlas TCS för vanliga CVD-gaser (NF3/F2)
- Atlas TPU för PFC-gaser (ClF3, C2F6, C3F8) i CVD-processer
- Atlas Kronis för CVD-gaser med låg k i nästa generations processer
- Atlas Etch för halvledaretsnings- och plattskärmsprocesser (CF4, SF6 och PFC med högt flöde)
- Atlas Helios för säker behandling av vätgasprocesser vid epitaxi och MOCVD
Atlas™-systemen har låg bränsleförbrukning jämfört med tidigare generationers gasreningsenheter. Vi använder beprövad Alzeta™-teknik med inåtgående förbränningskammare för att uppnå en avsevärt lägre ägandekostnad. Med ett till sex inlopp med ett antal tillval, inklusive ett temperaturhanteringssystem (TMS), kan Atlas-systemen hantera en flödeskapacitet på upp till 1 200 slm. De är konstruerade för att vara enkla att använda och möjliggöra effektivare underhåll.
Edwards inåtgående förbränningsteknik
Den inåteldade förbränningskammaren, som används av de flesta stora halvledartillverkare, har blivit världsstandard inom gasreduktion sedan 1994.
Vår unika förbränningsteknik arbetar med en enhetlig förbränningstemperatur. Detta säkerställer mycket låga bakgrundsutsläpp och det ingående gasflödet förhindrar att processmaterialet kommer i kontakt med kammarväggarna, vilket minimerar blockering av fasta partiklar. Den exklusiva sammansättningen av förbränningskammarens material säkerställer överlägsen korrosionsbeständighet och bidrar till att ge Atlas oöverträffad tillförlitlighet, driftsäkerhet och säkerhet.
På vårt toppmoderna miljöinnovationscenter har vi processanpassade lösningar för enastående prestanda, beprövade i fält och verifierade av tredje part. Begränsning av läkemedelsresistenta epilepsier sträcker sig vanligtvis utöver global och lokal lagstiftning:
SiH4 och andra halogener under TLV
NF3: >99 % / <TLV
F2:: >99 % / <TLV
CF4: >90 %
Andra PFC:er: >99 %
Med en omfattande installationsbas, ett oöverträffat globalt applikationsteam och servicesupport kan vi erbjuda den bästa lösningen utformad för dina processbehov. Kontakta vårt team så kan vi tillsammans hitta den ultimata lösningen.
