Atlas ofrece un rendimiento de reducción inigualable
Atlas™ de Edwards ofrece una fiabilidad excepcional, una excelente manipulación de polvo y resistencia a la corrosión, lo que proporciona un rendimiento de reducción para las industrias de semiconductores, pantallas planas, solar y MOCVD.
Tecnología de reducción Atlas: una gama de soluciones de reducción de gases de combustión específicas para su proceso:
- Atlas TCS para gases CVD comunes (NF3/F2)
- Atlas TPU para gases PFC (ClF3, C2F6, C3F8) en procesos CVD
- Atlas Kronis para los gases CVD de bajo k en procesos de última generación
- Grabado Atlas Etch para procesos de grabado semicon y pantalla plana (CF4, SF6 y PFC de alto flujo)
- Atlas Helios para el tratamiento seguro de los procesos de hidrógeno en epitaxia y MOCVD
Los sistemas Atlas™ tienen un bajo consumo de combustible en comparación con los dispositivos de reducción de gases de la generación anterior. Utilizamos la probada tecnología de combustión interna Alzeta™ para lograr un coste de propiedad significativamente reducido. Con una a seis entradas con una serie de opciones, incluido un sistema de gestión de temperatura (TMS), los sistemas Atlas pueden tratar una capacidad de caudal de hasta 1200 slm. Están diseñados para ser fáciles de usar y permitir un mantenimiento más eficiente.
Tecnología de combustión interna de Edwards
Utilizado por la mayoría de los principales fabricantes de semiconductores, el sistema de combustión interna se ha convertido en un estándar mundial en la reducción de gases desde 1994.
Nuestra exclusiva tecnología de combustión funciona con una temperatura de combustión uniforme. Esto garantiza emisiones de fondo muy bajas, y el flujo de entrada de gas evita el contacto del material de proceso con las paredes de la cámara, lo que minimiza la obstrucción por sólidos. La composición exclusiva del material de la unidad de combustión garantiza una resistencia superior a la corrosión y ayuda a proporcionar al Atlas una fiabilidad y seguridad inigualables.
En nuestro centro de innovación medioambiental de última generación, contamos con soluciones adaptadas a los procesos para un rendimiento excepcional, probadas en el campo y verificadas por terceros. Las EFR de reducción suelen extenderse más allá de la legislación global y local:
SiH4 y otros haluros por debajo del TLV
NF3: >99 % / <TLV
F2: >99 % / <TLV
CF4: >90 %
Otros PFC: >99 %
Con una amplia base de instalación, un equipo de aplicaciones global inigualable y asistencia técnica, podemos ofrecer la mejor solución diseñada para sus necesidades de proceso. Póngase en contacto con nuestro equipo y podremos trabajar juntos para encontrar la solución definitiva.
