Atlas menawarkan prestasi pengurangan yang tiada tandingan
Atlas™ dari Edwards, menyediakan kebolehpercayaan yang luar biasa, pengendalian serbuk yang cemerlang dan ketahanan terhadap kakisan, memberikan prestasi pengurangan untuk industri semikonduktor, paparan panel rata, solar dan MOCVD.
Teknologi pengurangan Atlas: pelbagai penyelesaian pengurangan gas pembakaran - khusus untuk proses anda:
- Atlas TCS untuk gas CVD biasa (NF3/F2)
- Atlas TPU untuk gas PFC (ClF3, C2F6, C3F8) dalam proses CVD
- Atlas Kronis untuk gas CVD ber-k rendah dalam proses generasi akan datang
- Atlas Etch untuk proses etsa semikonduktor dan paparan panel rata (CF4, SF6 dan PFC aliran tinggi)
- Atlas Helios untuk rawatan selamat proses hidrogen dalam epitaksi dan MOCVD
Sistem Atlas™ mempunyai penggunaan bahan api yang rendah berbanding dengan peranti pengurangan gas generasi terdahulu. Kami menggunakan teknologi pembakar Alzeta™ yang terbakar ke dalam yang terbukti untuk mencapai kos pemilikan yang dikurangkan dengan ketara. Dengan satu hingga enam saluran masuk dengan beberapa pilihan, termasuk sistem pengurusan suhu (TMS), sistem Atlas boleh merawat kapasiti aliran sehingga 1,200 slm. Ia direka untuk mudah digunakan dan membolehkan penyelenggaraan yang lebih cekap.
Teknologi pembakaran dalaman Edwards
Digunakan oleh kebanyakan pengeluar semikonduktor utama, pembakar dalaman telah menjadi piawaian dunia dalam pengurangan gas sejak 1994.
Teknologi pembakaran unik kami beroperasi dengan suhu pembakaran yang seragam. Ini memastikan pelepasan latar belakang yang sangat rendah, dan aliran gas ke dalam menghalang bahan proses daripada bersentuhan dengan dinding ruang pembakaran, yang mengurangkan penyumbatan oleh pepejal. Komposisi eksklusif bahan pembakar memastikan ketahanan unggul terhadap kakisan dan membantu menyediakan Atlas dengan kebolehpercayaan dan keselamatan yang tiada tandingan.
Di pusat inovasi alam sekitar canggih kami, kami mempunyai penyelesaian yang disesuaikan proses untuk prestasi cemerlang, terbukti di lapangan dan disahkan oleh pihak ketiga. DRE pengurangan biasanya melebihi perundangan global dan tempatan:
SiH4 dan Halida lain di bawah TLV
NF3 : >99% / <TLV
F2 : : >99% / <TLV
CF4 : >90%
PFC lain : >99%
Dengan pangkalan pemasangan yang luas, pasukan aplikasi global yang tiada tandingan dan sokongan perkhidmatan, kami dapat menawarkan penyelesaian terbaik yang direka untuk keperluan proses anda. Hubungi pasukan kami dan kami boleh bekerjasama untuk penyelesaian terbaik.
