Atlas tarjoaa vertaansa vailla olevaa käsittelytehoa
Edwardsin Atlas™ tarjoaa erinomaista luotettavuutta, erinomaista jauheenkäsittelyä ja korroosionkestävyyttä sekä tehokkuutta puolijohde-, litteänäyttö-, aurinko- ja MOCVD-teollisuudelle.
Atlas-käsittelytekniikka: valikoima prosessikohtaisia ratkaisuja polttokaasujen käsittelyyn:
- Atlas TCS yleisille CVD-kaasuille (NF3/F2)
- Atlas TPU PFC-kaasuille (ClF3, C2F6, C3F8) CVD-prosesseissa
- Atlas Kronis uuden sukupolven prosessien matalan k-arvon CVD-kaasuille
- Atlas Etch puolijohteiden etsaus- ja litteän paneelin näyttöprosesseille (CF4, SF6 ja korkean virtauksen PFC)
- Atlas Helios vetyprosessien turvalliseen käsittelyyn epitaksiassa ja MOCVD:ssä
Atlas™-järjestelmien polttoaineenkulutus on alhainen edellisen sukupolven kaasunkäsittelylaitteisiin verrattuna. Käytämme todistettua Alzeta™-sisäpolttotekniikkaa, joka vähentää merkittävästi omistajuuden kustannuksia. Atlas-järjestelmissä on yhdestä kuuteen tuloaukkoa ja useita lisävarusteita, mukaan lukien lämpötilanhallintajärjestelmä (TMS), ja ne pystyvät käsittelemään jopa 1 200 slm:n virtauskapasiteettia. Ne on suunniteltu helppokäyttöisiksi ja mahdollistavat tehokkaamman huollon.
Edwardsin sisäinen polttotekniikka
Useimpien suurten puolijohdevalmistajien käyttämästä sisäänpäin palavasta polttoyksiköstä on tullut maailmanlaajuinen standardi kaasunkäsittelyssä vuodesta 1994 lähtien.
Ainutlaatuinen palamistekniikkamme toimii tasaisella palamislämpötilalla. Tämä takaa erittäin alhaiset taustapäästöt, ja kaasun sisäänvirtaus estää prosessimateriaalin kosketuksen kammion seiniin, mikä minimoi kiintoaineiden aiheuttaman tukkeutumisen. Polttimen materiaalin ainutlaatuinen koostumus varmistaa erinomaisen korroosionkestävyyden ja auttaa tekemään Atlas-järjestelmästä vertaansa vailla olevan luotettavan ja turvallisen.
Huippuluokan ympäristöinnovaatiokeskuksessamme olemme kehittäneet prosessiviritettyjä ratkaisuja, jotka takaavat erinomaisen suorituskyvyn ja ovat kenttätestattuja ja kolmannen osapuolen verifioimia. Reaktiohaittavaikutukset ulottuvat yleensä globaalin ja paikallisen lainsäädännön ulkopuolelle:
SiH4 ja muut halogeenit alle TLV:n
NF3: >99 % / <TLV
F2:: >99 % / <TLV
CF4: >90 %
Muut PFC-yhdisteet: >99 %
Laajan asennuspohjan, vertaansa vailla olevan maailmanlaajuisen sovellustiimin ja huoltotuen ansiosta voimme tarjota parhaan ratkaisun prosessitarpeisiisi. Ota yhteyttä tiimiimme, niin voimme yhdessä löytää lopullisen ratkaisun.
