Az Atlas páratlan kibocsátáscsökkentő teljesítményt kínál
Az Edwards Atlas™ kiváló megbízhatóságot, kitűnő porkezelést és korrózióállóságot biztosít, és hatékony kibocsátáscsökkentést nyújt a félvezető-, lapos panel kijelző-, napelem- és MOCVD iparágak számára.
Atlas kibocsátáscsökkentő technológia: égéstermék-gázcsökkentési megoldások széles skálája – az Ön folyamataira szabva:
- Atlas TCS a gyakori CVD gázokhoz (NF3/F2)
- Atlas TPU PFC-gázokhoz (ClF3, C2F6, C3F8) CVD folyamatokban
- Atlas Kronis az alacsony-k CVD gázokhoz a következő generációs folyamatokban
- Atlas Etch a félvezető maratási és lapos panel kijelző folyamatokhoz (CF4, SF6 és nagy áramlású PFC-k)
- Atlas Helios a hidrogénfolyamatok biztonságos kezeléséhez epitaxiában és MOCVD-ben
Az Atlas™ rendszerek alacsony üzemanyag-fogyasztással rendelkeznek a korábbi generációs gázcsökkentő berendezésekhez képest. A bizonyított Alzeta™ befelé égő égőtechnológiát alkalmazzuk, hogy jelentősen csökkentsük a tulajdonlási költségeket. Egytől hat bemenettel, valamint többféle opcióval, beleértve a hőmérséklet-kezelő rendszert (TMS), az Atlas rendszerek akár 1 200 slm áramlási kapacitás kezelésére is képesek. Könnyű használatra tervezték őket, és hatékonyabb karbantartást tesznek lehetővé.
Edwards belső égésű technológiája
A legtöbb nagy félvezetőgyártó által használt befelé tüzelő égő 1994 óta a gázeltávolítás világméretű szabványává vált.
Our unique combustion technology operates with a uniform combustion temperature. This ensures very low background emissions, and the inward flow of gas prevents process material contact with the chamber walls, which minimises the blockage by solids. The exclusive composition of the combustor material ensures superior resistance to corrosion and helps to provide the Atlas with unrivalled reliability and safety.
Csúcstechnológiás környezetvédelmi innovációs központunkban folyamatra hangolt megoldásokat kínálunk kiemelkedő teljesítmény érdekében, amelyek terepen beváltak és harmadik fél által igazoltak. A kibocsátáscsökkentési DRE-k általában túlmutatnak a globális és helyi jogszabályokon:
SiH4 és egyéb halogenidek a TLV alatt
NF3 : >99% / <TLV
F2 : : >99% / <TLV
CF4 : >90%
Egyéb PFC-k : >99%
Kiterjedt telepített bázissal, páratlan globális alkalmazási csapattal és szolgáltatási támogatással a folyamatigényeinek legmegfelelőbb megoldást kínálhatjuk. Vegye fel a kapcsolatot csapatunkkal, és együtt dolgozhatunk a végső megoldáson.
