Seuraavan sukupolven kuivatyhjiöpumput vaativiin puolijohdeprosesseihin, vähentävät TCoO:ta, parantavat käyttöaikaa ja tukevat kestävyystavoitteita.
Integroitu EUV-litografia-alivalmistusjärjestelmä, jossa yhdistyvät tyhjiö, vedyn käsittely ja talteenotto tehokkuuden, käyttöajan ja kustannusten parantamiseksi.
