ENABLING ENVIRONMENTS WHERE INNOVATION THRIVES
エドワーズは、EUV工場支援機器の設計と製造のリーダーであり、あらゆる機会で効率化と革新を推進します。
極端紫外線リソグラフィ(EUV)のプロセスは、最先端の半導体チップメーカーが最先端の部品の製造に使用する技術です。差し迫った課題は、常にツールの稼働時間です。当社は、あらゆるベンチマークで性能を発揮するために、統合されたサブファブシステムを常に革新しています。
エドワーズは、20年にわたりこの分野の革新を推進し、150を超えるシステムの設置ベースを確立してきました。EUVソリューションで最も経験豊富な企業であることは明らかであり、深いデータ・ヒストリーとグローバルなサービス・サポートにより、いかなる課題にも対応できる独自の地位を確立しています。
EUVのお客様の課題に対応
生産性を最大化
当社のEUVリソグラフィサポートシステムは、ポンプ能力と除害装置を組み合わせたものであり、EUV半導体製造プロセス中の不要なガスを排出したり、除害したりするために最大効率で連携するように設計されています。生産性を最大化するということは、EUVリソグラフィの複雑化する要求を理解することです。実際、ツールの可用性と出力が当社の技術革新を推進しています。たとえば、最近のアップグレードは、エネルギー需要と排出を削減しながら、より大きなシステムパワーと保守性を実現しています。
持続可能性
今日、半導体は、成長とチャンバの生産性の要求を満たしながら、持続可能で責任ある方法で製造されることへの商業的期待が高まっています。持続可能性は、設計プロセスに影響を与えます。一例として、エドワーズの現在のEUVアップグレードでは、システムあたり270,000kg/年の平均CO2削減を実現しています。
グローバルな専門知識をローカルに適用
エドワーズは、20年にわたるデータと性能分析を活用したローカルソリューションで、グローバルなお客様をサポートするユニークな立場にあります。これは、世界最大のシステム設置ベースと、それに伴うサービス経験から得られたものです。サービスセンター、エンジニア、エキスパートのグローバルネットワークにより、お客様は常に実際の情報に基づいて必要なサポートを受けることができます。
安全
可燃性水素の使用量が増加しているため、可能な限り安全性を設計しています。エドワーズのソリューションには、EUVツールとエドワーズの各システムの両方の継続的な安全運転を保証するシステム監視が含まれています。