혁신이 번성하는 환경 지원
Edwards는 EUV 팹 지원 장비의 설계 및 제조 분야의 선두에 서서 모든 기회에 효율성과 혁신을 주도하고 있습니다.
극자외선 리소그래피(EUV) 공정은 선도적인 반도체 칩 제조업체들이 최첨단 구성 요소 제조에 사용하는 기술입니다. 시급한 과제는 항상 공구 가동 시간이며, 당사는 모든 벤치마크에서 성능을 제공하기 위해 통합된 SubFab 시스템을 지속적으로 혁신하고 있습니다.
20년 동안 이 분야에서 혁신을 주도해 온 Edwards의 시스템은 전 세계에 150대 이상이 운영되고 있습니다. 또한 EUV 솔루션 분야에서 가장 경험이 풍부한 Edwards는 어떠한 문제에도 대처할 수 있는 심층적인 데이터 기록과 글로벌 서비스 지원을 제공하고 있습니다.
EUV 고객의 당면 과제 해결
생산성 극대화
Edwards의 EUV 리소그래피 지원 시스템은 EUV 반도체 제조 공정에서 불필요한 가스를 배출하고 줄이기 위해 최대 효율로 함께 작동하도록 설계된 펌핑 파워와 저감 장치의 조합입니다. 생산성을 극대화하려면 EUV 리소그래피의 점점 더 복잡해지는 요구 사항을 이해해야 합니다. 사실, 공구 가용성과 출력이 우리의 혁신을 이끌고 있습니다. 예를 들어, 최근의 업그레이드를 통해 에너지 수요 및 배기가스 배출을 줄이면서 시스템 전력과 서비스성을 높일 수 있습니다.
지속 가능성
오늘날 반도체는 지속 가능하고 책임감 있는 방식으로 제조되어야 한다는 기대가 커지고 있습니다. 이는 반도체의 기술적인 발전과 더불어 챔버 생산성 요구를 충족하면서 이루어져야 합니다. 지속 가능성은 Edwards의 제품 설계 과정에 영향을 미치고 있으며 현재 Edwards의 EUV 업그레이드는 시스템당 평균 270,000kg pa의 CO2를 절감하고 있습니다.
글로벌 전문 지식을 현지에 적용
Edwards는 20년간의 데이터 및 성능을 분석한 로컬 솔루션을 통해 글로벌 고객을 지원할 수 있는 독보적인 입지를 갖추고 있습니다. 이는 세계 최대의 시스템 설치 기반과 그에 따른 서비스 경험에서 얻은 것입니다. 서비스 센터, 엔지니어 및 전문가로 구성된 글로벌 네트워크로 고객은 항상 실제 정보를 기반으로 한 지원을 받을 수 있습니다.
안전
가연성 수소가 공정에 점점 더 많이 사용됨에 따라 Edwards는 가능한 모든 곳에서 안전을 우선으로 두고 제품을 설계하고 있습니다. Edwards의 솔루션에는 EUV 공구와 각 시스템의 지속적인 안전 운영을 보장하는 시스템 모니터링이 포함되어 있습니다.