引領創新興盛的環境
愛德華在 EUV 製造廠支援設備的設計與製造上位居第一線,並把握每次機會推動效率與創新的發展。
極致紫外線光刻又稱 EUV,是頂尖半導體晶片製造商用於製造最先進元件的技術。這項技術面臨的迫切挑戰,無疑是工具持續運轉時間,我們不斷創新旗下的整合式 SubFab 系統,致力於在所有效能標竿上,交出亮眼的成績。
愛德華在這個領域擔任了長達 20 年的創新推手,並在逾 150 項系統建立安裝基礎。顯然可見,我們在 EUV 解決方案擁有獨一無二的優勢,具備豐富的資料歷史和全球服務支援,足以面對任何的挑戰。
因應 EUV 客戶面臨的挑戰
發揮最大生產力
我們的 EUV 光刻支援系統是結合抽取動力和減排的裝置,其設計是為了以最高效率運作,在 EUV 半導體製程中抽空和減少不必要的氣體。若要發揮最大生產力,就必須瞭解日益複雜的 EUV 光刻要求。工具可用性和輸出是我們積極創新的真正推手。舉例來說,我們近期的升級版,提供更強大的系統動力與可維修性,兼顧了節能和減排。
永續性
現在對於以永續且負責的方式製造半導體,有了更遠大的商業期望。同時還能符合成長和腔體的生產力需求。永續性會影響我們的設計流程。舉例來說,愛德華目前的 EUV 升級版,每個系統提出的 CO2 減排量,平均為 270,000kg pa。
走向全球,因地制宜的專業
愛德華具有長達 20 年的優異資料與效能分析能力,得以從截然不同的立足點,全力支援我們的全球客戶。這是源自全球最為龐大的系統安裝基礎,以及隨之而來的服務體驗。我們的全球服務中心、工程師和專家網路,代表客戶隨時都能獲得以實際資訊為本的必要支援。
安全性
可燃氫使用量持續攀升,意味著我們在設計時,盡可能將安全性納入考量。愛德華解決方案內含系統監控,可確保 EUV 工具與每套愛德華系統,都能持續安全運作。