在大量生產中，EUV 面臨哪些挑戰？

全球半導體需求正在史上最高點，而愛德華著重於客戶的最大化產量以滿足需求，並獲得良好的永續投資報酬率。

愛德華瞭解將 EUV 正常運作時間及產量最大化的需求，並且擁有超過 20 年的真空與減排資料和效能分析而獨樹一格，能協助客戶達成其生產力與永續性目標。

藉助最先進的製造能力及全球服務基礎架構，愛德華提供完整的 EUV 解決方案，同時為客戶與所有相關利害關係人創造環境與社會價值。

David Engerran 探討 EUV HVM 面臨哪些挑戰，以及愛德華如何解決這些挑戰。

我們知道半導體製造需要數個月的時間，晶圓會通過多種製程工具。

微影製程工具是每個晶圓廠中最先進、最具戰略地位的潛在瓶頸之一。而現今更是如此，因為要生產最先進的半導體，就必須有 EUV。極紫外光微影技術讓製造商得以持續縮小特性和裝置尺寸，這從該技術最早期便定義了半導體製造的進程。

系統的整體產量基本上是固定的，因此要確保針對投資報酬率的努力必須專注於最大化系統可用性、將營運成本降至最低，並減少製程對環境的影響。

影片與文字稿

David Engerran 探討 EUV HVM 面臨哪些挑戰，以及愛德華如何解決這些挑戰。

製程挑戰

從真空與減排觀點瞭解製程挑戰，是將工具可用性最大化的一個關鍵層面。波長較短的 EUV 光源能產生較小的特性，但也使微影系統更加複雜。EUV 光會被任何物質強力吸收，且需要使用精密的反射光學元件及整條光束路徑的真空密封。

為確保這些重要的光學元件不受污染，在 EUV 製程中使用氫氣與製程材料反應，並將其從製程工具移除及攜帶至真空系統。此處正是真空和減排系統必須以安全有效的方式管理這些高流量氫氣。

愛德華如何解決這些挑戰？

創新的技術在於找到確保晶圓廠人員、周圍社區和環境安全的方法，同時提高效率並降低營運成本。

EUV 使用大量的氫氣，由於其空氣中具有易燃性質，因此非常注重安全和環境。愛德華 EUV 系統使用專為 EUV 製程設計的真空泵浦，並導入了可捕捉已反應化合物的陷阱。整個系統包含安全感測器，以確保沒有可燃混合物存在於整個系統中。傳統上，使用燃料燃燒減排系統來燃燒真空泵浦下游的氫氣，但此方法需要大量的能源與資源，並需要持續保養。

我們全新的無燃料方法捨棄燃料燃燒減排，並提供大幅低於可燃範圍濃度的安全氫氣稀釋。這可大幅減少能源需求，同時確保隨時安全。

幸運的是，氫氣本身不會對環境造成負面影響。一旦其濃度低於最低可燃濃度，便會相當安全。無燃料氫管理仰賴對可燃濃度、稀釋技術和業界安全標準的充分瞭解。關鍵作業是以空氣稀釋氫氣，這是一種相反的方法。然而，透過保持關鍵路徑，即保持混合物易燃處的高頻率且密切監控，氣體會快速稀釋至非可燃濃度，以安全通過晶圓廠並直接排放至大氣中。

無燃料氫管理可免除受控燃燒的燃料成本與碳排放量，以及用於稀釋之氫氣的高成本。藉助最先進的製造能力及全球服務基礎架構，愛德華提供完整的 EUV 解決方案，同時確保為客戶與所有相關利害關係人創造環境與社會價值。

藉助最先進的製造能力及全球服務基礎架構，愛德華提供完整的 EUV 解決方案，同時為客戶與所有利害關係人創造環境與社會價值。