Atlas oferuje niezrównaną wydajność tłumienia
Atlas™ firmy Edwards zapewnia wyjątkową niezawodność, doskonałą obsługę proszków i odporność na korozję, zapewniając wydajność oczyszczania dla przemysłu półprzewodnikowego, płaskiego wyświetlacza, energii słonecznej i MOCVD.
Technologia oczyszczania gazów spalinowych Atlas: gama rozwiązań oczyszczania gazów spalinowych dostosowanych do konkretnego procesu:
- Atlas TCS dla typowych gazów CVD (NF3/F2)
- Atlas TPU do gazów PFC (ClF3, C2F6, C3F8) w procesach CVD
- Atlas Kronis do gazów o niskiej kCVD w procesach nowej generacji
- Atlas Etch do procesów wytrawiania półprzewodnikowego i wyświetlania na płaskim panelu (CF4, SF6 i PFC o wysokim przepływie)
- Atlas Helios do bezpiecznego leczenia procesów wodorowych w epitaksji i MOCVD
Systemy Atlas™ charakteryzują się niskim zużyciem paliwa w porównaniu z urządzeniami do oczyszczania gazów poprzedniej generacji. Stosujemy sprawdzoną technologię spalania wewnętrznego Alzeta™, aby osiągnąć znacznie niższy koszt posiadania. Dzięki od jednego do sześciu wlotów z wieloma opcjami, w tym systemem zarządzania temperaturą (TMS), systemy Atlas mogą przetwarzać przepływ do 1200 slm. Zostały zaprojektowane z myślą o łatwej obsłudze i skuteczniejszej konserwacji.
Technologia spalania wewnętrznego firmy Edwards
Stosowany przez większości głównych producentów półprzewodników, spalacz z zapłonem wewnętrznym stał się światowym standardem w oczyszczaniu gazów od 1994 roku.
Nasza unikalna technologia spalania zapewnia jednolitą temperaturę spalania. Zapewnia to bardzo niską emisję tła, a przepływ gazu do wewnątrz zapobiega kontaktowi materiału technologicznego ze ścianami komory, co minimalizuje zatykanie ciałami stałymi. Wyjątkowy skład materiału, z którego wykonano komorę spalania, zapewnia doskonałą odporność na korozję i pomaga zapewnić niezrównaną niezawodność i bezpieczeństwo systemu Atlas.
W naszym najnowocześniejszym centrum innowacji ekologicznych oferujemy rozwiązania dostosowane do procesów, które zapewniają doskonałą wydajność, są sprawdzone w praktyce i zweryfikowane przez niezależne podmioty. DRE związane z oczyszczaniem wykraczają zazwyczaj poza globalne i lokalne przepisy:
SiH4 i inne halogenki poniżej TLV
NF3: >99% / <TLV
F2:: >99% / <TLV
CF4: >90%
Inne PFC: >99%
Dzięki rozległej bazie instalacyjnej, niezrównanemu globalnemu zespołowi ds. aplikacji i wsparciu serwisowemu możemy zaoferować najlepsze rozwiązanie dostosowane do potrzeb Twoich procesów. Skontaktuj się z naszym zespołem, a my wspólnie znajdziemy ostateczne rozwiązanie.
