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gestión de gases de escape atlas

Atlas ofrece un rendimiento de reducción inigualable

Tecnología de reducción Atlas: una gama de soluciones de reducción de gases de combustión, específicas para su proceso:

  • Atlas TCS para gases CVD comunes (NF3/F2)
  • Atlas TPU para gases PFC (ClF3, C2F6, C3F8) en procesos de CVD
  • Atlas Kronis para gases de CVD de bajo k en procesos de última generación
  • Atlas Etch para procesos de fabricación de pantallas planas y de decapado de semiconductores (CF4, SF6 y PFC de alto flujo)
  • Atlas Helios para el tratamiento seguro de hidrógeno en epitaxia y MOCVD

Los sistemas Atlas™ también presentan un bajo consumo de combustible, en comparación con los dispositivos de reducción de gas de generaciones anteriores. Utilizamos tecnología de combustión interna Alzeta™ comprobada para lograr un costo de propiedad significativamente menor. Los sistemas Atlas poseen de una a seis entradas con una serie de opciones, que incluye un sistema de control de temperatura (TMS), y pueden tratar una capacidad de flujo de hasta 1200 slm. Están diseñados para ser fáciles de usar y permiten un mantenimiento más eficiente.

Tecnología de combustión interna de Edwards

Utilizada por la mayoría de los principales fabricantes de semiconductores, la cámara de combustión interna se ha convertido en el estándar mundial en reducción de gases desde 1994.

Nuestra tecnología de combustión única funciona con una temperatura de combustión uniforme, lo que garantiza emisiones de fondo muy bajas, y el flujo de gas hacia dentro evita el contacto del material con las paredes de la cámara, lo que minimiza el bloqueo por sólidos. La composición exclusiva del material de la cámara de combustión garantiza una resistencia superior a la corrosión y le brinda al Atlas una confiabilidad y seguridad inigualables.

En nuestro centro de innovación medioambiental de vanguardia, tenemos soluciones optimizadas para un rendimiento sobresaliente, probadas en terreno y verificadas por terceros. La eficiencia en la destrucción de la reducción generalmente se extiende más allá de la legislación global y local:

    SiH4 y otros halogenuros por debajo de los TLV

    NF3 : >99 % /

    F2 : : >99 % /

    CF4 : >90 %

    Otros PFC: >99 %

Con una amplia base de instalaciones, un equipo de aplicaciones globales sin igual y un servicio de soporte, podemos ofrecer la mejor solución diseñada para las necesidades de su proceso. Comuníquese con nuestro equipo y podremos trabajar juntos para conseguir la resolución definitiva.

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