Atlasは比類のない除害性能を提供
エドワーズのAtlas™は、卓越した信頼性、優れた粉体処理、耐腐食性を実現し、半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽光、MOCVD産業に除害性能を提供します。
Atlas除害技術：燃焼ガス除害ソリューションの範囲 - 貴社プロセスに特有：
- 一般CVDガス向けのAtlas TCS (NF3/F2)
- CVDプロセスにおけるPFCガス向けのAtlas TPU (ClF3、C2F6、C3F8)
- 次世代プロセスにおけるlow-k CVDガス向けのAtlas Kronis
- 半導体エッチングおよびフラットパネルディスプレイプロセス向けのAtlas Etch (CF4、SF6および高流量PFC)
- エピタキシーおよびMOCVDでの水素プロセスの安全な処理向けAtlas Helios
Atlas™システムは、前世代のガス除害装置と比較して低燃費を実現しています。Alzeta™の実績ある内部燃焼器技術を使用して、所有コストを大幅に削減しています。温度管理システム（TMS）など、さまざまなオプションを備えた1～6個のプロセスインレットを備えたAtlasシステムでは、最大1,200 slmの流量を処理できます。これらは使いやすく、より効率的なメンテナンスを可能にするよう設計されています。
エドワーズの内部放射燃焼技術
ほとんどの大手半導体メーカーで使用されている内部放射燃焼機構は、1994年以来ガス除害の世界標準となっています。
当社独自の燃焼技術は、均一な燃焼温度で動作します。これにより、非常に低いバックグラウンド排出が保証され、ガスの内向きフローにより、プロセス材料がチャンバーの壁との接触を防ぎ、固形物による詰まりを最小限に抑えます。燃焼器材料の専用構成により、腐食に対する優れた耐性を確保し、比類のない信頼性と安全性をAtlasに提供します。
最先端の環境に優しいイノベーションセンターでは、卓越した性能、現場での実証済みの、第三者による検証を実現するためのプロセス調整ソリューションをご用意しています。除害DREは、通常、グローバルおよび地域の法律を超えています。
TLV以下のSiH4およびその他のハロゲン化物
NF3：>99% /
F2：>99% /
CF4：>90%
その他のPFC：>99%
広範な設置実績と比類のないグローバルアプリケーションチームおよびサービスサポートにより、お客様のプロセスニーズに合わせて設計された最適なソリューションを提供できます。ご相談ください。協力して最高の解決策を目指すことができます。
