Az Atlas páratlan kibocsátáscsökkentő teljesítményt nyújt
Az Edwards Atlas™ kiemelkedő megbízhatóságot, kiváló porkezelést és korrózióállóságot biztosít, és gázkezelési teljesítményt biztosít a félvezető-, síkképernyős kijelző-, napelem- és MOCVD-iparágak számára.
Atlas-kibocsátáscsökkentési technológia: égésigáz-kibocsátáscsökkentési megoldások széles választéka - az adott folyamathoz:
- Atlas TCS gyakori CVD-gázokhoz (NF3/F2)
- Atlas TPU PFC-gázokhoz (ClF3, C2F6, C3F8) CVD-folyamatokban
- Atlas Kronis az alacsony k-értékű CVD-gázokhoz a következő generációs folyamatokban
- Atlas Etch félvezető maratási és síkképernyős kijelzős folyamatokhoz (CF4, SF6 és nagy áramlású PFC-k)
- Atlas Helios az epitaxiás és MOCVD hidrogénfolyamatok biztonságos kezeléséhez
Az Atlas™ rendszerek alacsonyabb üzemanyag-fogyasztással rendelkeznek az előző generációs gázkezelő egységekhez képest. A bevált Alzeta™ belső égésű égető technológiát alkalmazzuk a jelentősen alacsonyabb üzemeltetési költségek érdekében. Egy-hat bemenettel és számos opcióval, köztük hőmérséklet-kezelő rendszerrel (TMS) az Atlas rendszerek akár 1200 slm áramlási kapacitást is képesek kezelni. A kialakításuk egyszerű használatot és hatékonyabb karbantartást tesz lehetővé.
Az Edwards belső égésű égéstechnológiája
A legnagyobb félvezetőgyártók által használt belső égésű égetőrendszer 1994 óta világszínvonalú gáztisztítási megoldás.
Egyedülálló égéstechnológiánk egyenletes égési hőmérséklettel működik. Ez nagyon alacsony háttérkibocsátást biztosít, és a befelé áramló gáz megakadályozza, hogy a folyamatban részt vevő anyag érintkezzen a kamra falával, ami minimálisra csökkenti a szilárd anyagok általi eltömődést. Az égetőrendszer anyagának kizárólagos összetétele kiváló korrózióállóságot biztosít, és hozzájárul az Atlas páratlan megbízhatóságához és biztonságához.
A legmodernebb környezetvédelmi innovációs központunkban folyamatoptimalizált megoldásokat kínálunk a kiemelkedő teljesítmény érdekében, amelyek terepen bizonyítottak és harmadik fél által ellenőrzöttek. A csökkentési DRE-k jellemzően túlmutatnak a globális és helyi jogszabályokon:
SiH4 és egyéb halogének a TLV alatt
NF3: >99% / <TLV
F2:: >99% / <TLV
CF4: >90%
Egyéb PFC-k: >99%
Kiterjedt telepített bázisunkkal, páratlan globális alkalmazási csapatunkkal és szerviztámogatásunkkal a legjobb megoldást kínáljuk az Ön folyamataihoz. Vegye fel a kapcsolatot csapatunkkal, és együtt dolgozhatunk a végső megoldáson.
