Atlas menawarkan prestasi pengurangan yang tiada tandingan.
Atlas™ dari Edwards, menyediakan kebolehpercayaan yang luar biasa, pengendalian serbuk yang cemerlang dan ketahanan terhadap kakisan, memberikan prestasi pengurangan untuk industri semikonduktor, paparan panel rata, solar dan MOCVD.
Teknologi pengurangan Atlas: pelbagai penyelesaian pengurangan gas pembakaran - khusus untuk proses anda:
- Atlas TCS untuk gas CVD biasa (NF3/F2)
- Atlas TPU untuk gas PFC (ClF3, C2F6, C3F8) dalam proses CVD
- Atlas Kronis untuk gas CVD low-k dalam proses generasi seterusnya
- Atlas Etch untuk proses pengukiran semikonduktor dan paparan panel rata (CF4, SF6 dan PFC aliran tinggi)
- Atlas Helios untuk rawatan selamat proses hidrogen dalam epitaksi dan MOCVD
Sistem Atlas™ mempunyai penggunaan bahan bakar yang rendah berbanding dengan peranti pengurangan gas generasi sebelumnya. Kami menggunakan teknologi pembakar Alzeta™ yang terbukti berkesan untuk mencapai kos pemilikan yang jauh lebih rendah. Dengan satu hingga enam saluran dengan pelbagai pilihan, termasuk sistem pengurusan suhu (TMS), sistem Atlas dapat merawat kapasiti aliran sehingga 1,200 slm. Ia direka untuk mudah digunakan dan membolehkan penyelenggaraan yang lebih efisien.
Teknologi pembakaran yang dinyalakan dari dalam oleh Edwards
Digunakan oleh kebanyakan pengeluar semikonduktor utama, pembakar yang dibakar dari dalam telah menjadi standard dunia dalam pengurangan gas sejak tahun 1994.
Teknologi pembakaran unik kami beroperasi dengan suhu pembakaran yang seragam. Ini memastikan emisi latar belakang yang sangat rendah, dan aliran gas ke dalam mencegah bahan proses bersentuhan dengan dinding ruang, yang meminimumkan penyumbatan oleh pepejal. Komposisi eksklusif bahan pembakar memastikan ketahanan yang unggul terhadap kakisan dan membantu memberikan Atlas keandalan dan keselamatan yang tiada tandingan.
Di pusat inovasi alam sekitar kami yang canggih, kami mempunyai penyelesaian yang disesuaikan untuk prestasi yang cemerlang, terbukti di lapangan dan disahkan oleh pihak ketiga. Pengurangan DRE biasanya melangkaui undang-undang global dan tempatan:
SiH4 dan halida lain di bawah TLV
NF3 : >99% / <TLV
F2 : : >99% / <TLV
CF4 : >90%
PFC Lain: >99%
Dengan pangkalan pemasangan yang luas, pasukan aplikasi global yang tiada tandingan dan sokongan perkhidmatan, kami dapat menawarkan penyelesaian terbaik yang direka untuk keperluan proses anda. Hubungi pasukan kami dan kami boleh bekerjasama untuk penyelesaian yang terbaik.
