クライオジェニック技術

科学および産業向けの極低温冷却・真空ソリューション

当社は、安定した低温環境と制御されたプロセス環境を必要とするアプリケーション向けに、極低温冷却および真空ソリューションを開発しています。当社のシステムは、高度な科学研究、先端産業、そして新興技術分野において、高精度かつ安定した性能を提供します。

単体コンポーネントから統合型極低温システムまで

当社は、単体で使用可能な極低温コンポーネントから、完全統合型システムまで幅広く提供しています。単一機器の追加から包括的な極低温ソリューションの構築まで、お客様の要件に応じた柔軟な構成が可能です。

当社の極低温コンプレッサ、コールドヘッド、真空ポンプは、単独でも運用可能であり、アプリケーションに最適化されたシステムの一部として組み合わせることもできます。

ECC 極低温ヘリウムコンプレッサ

極低温コンプレッサは、冷却システムを駆動するために必要な高純度ヘリウムガスを供給します。長時間の運転でも低温を維持するために必要な安定したガス流量を提供します。

E CC5000 および ECC5000 LV などの E CC 極低温ヘリウムコンプレッサは、16 bar (g) の充填圧力で動作します。標準仕様として 400 V（50 Hz）または 460 V（60 Hz）三相電源に対応し、その他の電圧オプションも利用可能です。
極低温システムへの統合を前提に設計されており、1⁄2 インチのセルフシール式ヘリウム接続を採用することで、厳しい運転環境でも安定した性能を発揮します。
スクロール技術による高効率ヘリウム圧縮
堅牢な設計による安定した連続運転
システム構成に応じた柔軟な設定が可能

主な用途には、核融合エネルギーシステム、粒子加速器、極低温研究などがあります。

ECH 極低温コールドヘッド

極低温コールドヘッドは、多くの先端技術で必要とされる低温環境を生成・維持します。

E2CH100/6 や E1CH220 などのモデルは、ギフォード・マクマホンサイクルを採用し、80 K で最大 115 W および 210 W の冷却能力を提供します。最小到達温度は通常 10-25 K で、冷却時間は構成に応じて 25 分から 35 分間です。
調整可能な運転による高精度温度制御
精密機器に適した低振動設計
長期使用に対応する高耐久構造

主な用途には、超伝導システム、量子技術、医療用画像処理、産業用プロセスなどがあります。

ECP 極低温(クライオ)真空ポンプ

クライオ真空ポンプは、低温環境下でガスを捕集・凝縮することにより、高真空環境を生成します。

ECP5000 および ECP10000 は、約 10−⁶ mbar(hPa) までの真空度を達成可能です。ガス種および構成によって異なりますが、排気速度はそれぞれ最大 18，000 l/s および 30，000 l/s に達します。
標準 ISO-K フランジを採用しており、極低温コールドヘッドやヘリウムコンプレッサと組み合わせて統合システムを構築できます。
制御された環境向けの高真空性能
幅広い運転条件に対応
メンテナンス性と稼働率向上を支援するモジュール設計

主な用途には、宇宙環境シミュレーション、薄膜コーティング、加速器システム、最先端材料研究などがあります。

クライオパネルソリューション

クライオパネルソリューションは、特殊な極低温真空アプリケーションにおいて、特定ガスの効率的な捕集を目的として設計されています。コールドヘッドと最適設計されたパネルを組み合わせることで、対象ガスを効率的に捕集します。

代表的な構成としては、単段式E1CHコールドヘッドと専用パネルを組み合わせ、イオンスラスタ試験におけるキセノンガス排気などの用途に対応しています。

用途に応じた選択的ガス捕集
柔軟なパネル構成
冷却機能と排気機能を統合

統合型極低温システム

極低温冷却システム
極低温冷却システムは、ヘリウムコンプレッサとコールドヘッドを組み合わせて、安定した低温環境を実現します。超電導アプリケーション、高磁場実験、精密温度制御などの用途で利用されています。

クライオジェニック真空システム
クライオジェニック真空システムは、コンプレッサとクライオポンプを組み合わせることで、安定した低圧環境を実現します。研究開発、試験設備、各種産業プロセスなど、高い真空性能が求められる用途に使用されています。
さらに、特殊な要件に対しては、選択的ガス捕集を実現するクライオパネルソリューションを組み込むことも可能です。