Cryogenic Technology Brochure
低溫技術
科學與工業用低溫冷卻與真空解決方案
科學與工業用低溫冷卻及真空解決方案
我們開發低溫冷卻與真空解決方案，適用於需要穩定低溫與受控環境的應用。我們的系統支援科學研究、先進產業及新興技術，確保精確度與一致性為關鍵。
從單一元件到完整的低溫系統
我們提供獨立的低溫元件以及完整整合的系統。無論是新增單一設備或建置完整的低溫解決方案，我們的產品組合皆支援靈活配置。
我們的<低溫壓縮機、冷頭及真空泵浦 > 可獨立運作，亦可作為圍繞您的應用設計的協調系統的一部分。
ECC 低溫氦氣壓縮機
低溫壓縮機提供驅動冷卻系統所需的高純度氦氣。它們提供穩定的流量，以維持長時間運行中的低溫環境。
- 我們的 ECC 低溫氦氣壓縮機，如 ECC5000 和 ECC5000 LV，運行於 16 bar (g) 的充填壓力。設備使用標準 400 V（50 Hz）或 460 V（60 Hz）三相電源，並提供其他電壓選項。
- 專為跨低溫系統整合設計，採用 ½ 英吋自封式氦氣接頭，並支援在嚴苛環境中保持穩定性能。
- 利用渦旋技術實現高效氦氣壓縮
- 透過堅固設計實現穩定且持續的運作
- 針對不同系統架構的靈活配置
典型應用包括融合能源系統、粒子加速器及低溫技術研究。
ECH 低溫冷頭
低溫冷頭產生並維持許多先進技術所需的低溫環境。
- 我們的型號如 E2CH100/6 和 E1CH220 採用 Gifford-McMahon 循環，能在 80 K 時提供高達 115 W 和 210 W 的冷卻能力。最低溫度通常可達 10–25 K，冷卻時間依配置不同約為 25 至 35 分鐘。
- 透過可調操作實現精確溫度控制
- 低振動以支援敏感儀器
- 耐用結構，適合長時間使用
典型應用包括超導系統、量子技術、醫學影像及工業加工。
ECP 低溫真空泵浦
低溫真空泵浦透過在低溫下捕捉並凝結氣體，創造深度真空環境。
- 像 ECP5000 和 ECP10000 這類型號的壓力可降至約 10⁻⁶ mbar。抽速分別可達 18，000 l/s 和 30，000 l/s，具體取決於氣體種類和配置。
- 這些泵浦採用標準 ISO-K 法蘭設計，可與低溫冷頭及氦壓縮機整合，作為更廣泛系統的一部分。
- 高真空能力，適用於受控環境
- 適應不同製程條件的操作
- 模組化設計，支援維護與運轉時間
典型應用包括太空模擬、薄膜鍍膜、加速器系統及先進材料研究。
低溫面板解決方案
冷凍面板解決方案專為特殊低溫真空應用中的目標氣體捕捉而設計。透過結合冷頭與經過設計的面板幾何結構，可有效捕捉特定氣體。
一種常見的配置是將單級 E1CH 冷頭與專門設計的面板配對，用於離子推進器測試中的氙氣抽氣等應用。
- 針對特定應用的目標氣體捕捉
- 靈活的面板配置
- 整合冷卻與抽氣方案
整合式低溫系統
低溫冷卻系統
低溫冷卻系統結合氦壓縮機與冷頭，以產生受控的低溫環境。這些系統支援超導應用、高磁場實驗及精密熱控。
低溫真空系統
低溫真空系統結合壓縮機與低溫泵浦，以創造穩定的低壓環境。這些系統用於需要真空完整性的研究、測試及工業流程中。
針對特殊需求，可整合低溫面板解決方案，以支援系統內的選擇性氣體捕捉。
常見問題
什麼是低溫壓縮機 ？
低溫壓縮機供應高純度氦氣，用於驅動低溫冷卻系統並維持低操作溫度。
低溫冷頭如何運作 ？
低溫冷頭透過將熱量轉移至冷卻循環系統，從而移除系統中的熱能，根據配置不同，可實現低至 20 K 的溫度。
低溫泵浦能達到哪些真空度 ？
低溫真空泵浦可通過在低溫下冷凝並捕捉氣體，達到低至 10⁻⁶ 毫巴的壓力。
低溫系統的用途是什麼 ？
低溫系統應用於粒子加速器、核融合能源、太空模擬、醫學影像及量子技術等領域。
低溫元件可以組合成完整系統嗎 ？
低溫壓縮機、冷頭和真空泵可結合成整合系統，旨在同時提供冷卻和真空性能。
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