Atlas

ATLAS – konkurrenzlose Leistung bei der Abgasreinigung

Atlas Abgasreinigungstechnologie – eine Reihe von Lösungen zur Verbrennungsabgasreinigung – spezifisch für Ihren Prozess:

  • Atlas TCS für die üblichen CVD-Gase (NF3/F2)
  • Atlas TPU für PFC-Gase (ClF3, C2F6, C3F8) bei CVD-Prozessen
  • Atlas Kronis für die low-k CVD-Gase in Next-Generation-Prozessen
  • Atlas Etch für Halbleiterätz- und Flachbildschirmprozesse (CF4, SF6 und High Flow PFCs)
  • Atlas Helios zur sicheren Behandlung von Wasserstoffprozessen bei der Epitaxie und MOCVD

Atlas™ Systeme haben einen niedrigen Kraftstoffverbrauch im Vergleich zu Abgasreinigungssystemen der Vorgängergeneration. Wir verwenden die bewährte Alzeta™-Technologie mit nach innen gerichteter Verbrennungseinheit, um eine deutliche Senkung der Betriebskosten zu erreichen. Mit einem bis sechs Einlässen und einer Vielzahl von Optionen, einschließlich eines Temperatur-Management-System (TMS), können Atlas-Systeme eine Durchflusskapazität von bis zu 1200 slm bewältigen. Sie sind so konzipiert, dass sie einfach zu bedienen sind und eine effizientere Wartung möglich ist.

Nach innen gerichtete Verbrennungstechnologie von Edwards

Die von den meisten großen Halbleiterherstellern verwendete nach innen gerichtete Verbrennungseinheit hat sich seit 1994 zu einem weltweiten Standard in der Abgasreinigung entwickelt.

Unsere einzigartige Verbrennungstechnologie arbeitet mit gleichmäßiger Verbrennungstemperatur. Dies gewährleistet sehr geringe Hintergrundemissionen, und der Gasstrom nach innen verhindert den Kontakt des Prozessmaterials mit den Kammerwänden, was eine Verstopfung durch Feststoffe auf ein Minimum reduziert. Die exklusive Zusammensetzung des Materials in der Verbrennungseinheit gewährleistet hervorragende Korrosionsbeständigkeit und verleiht dem Atlas-System unvergleichliche Zuverlässigkeit und Sicherheit.

In unserem hochmodernen Umweltinnovationszentrum haben wir Lösungen prozessoptimiert, in der Praxis erprobt und von Dritten verifizieren lassen, damit herausragende Leistung garantiert ist. DRE-Abgasreinigungslösungen reichen in der Regel über die globalen und lokalen Gesetze hinaus:

    SiH4 und andere Halogenide unter TLV

    NF3: >99 % / <TLV

    F2: : >99 % / <TLV

    CF4: >90 %

    Andere PFCs: >99 %

Mit unserer umfangreichen Installationsbasis, einem beispiellosen globalen Anwendungsteam und Service-Support kann Edwards die besten Lösungen für Ihre Prozessanforderungen bieten. Nehmen Sie Kontakt mit unserem Team auf, damit wir gemeinsam an einer ultimativen Lösung arbeiten können.