Wspieranie produktywności naszych klientów
Maksymalizacja dostępności SubFab
W dzisiejszym szybko zmieniającym się, połączonym świecie rozumiemy potrzebę maksymalizacji produktywności naszych klientów. Robimy to, zapewniając, że ich technologia jest pierwsza na rynku, jednocześnie nieustannie dążąc do zmniejszenia ryzyka i wyzwań środowiskowych, jakie może wnieść proces produkcji.
Zintegrowane rozwiązania firmy Edwards oceniają wszystkie potrzeby klienta w zakresie zarządzania próżnią i spalinami, opierając się na naszym globalnym doświadczeniu i najbardziej zaawansowanych technologiach w branży. Nasze zintegrowane systemy zapewniają powtarzalność produktów i usług oraz oszczędność miejsca. Zapewniają one większą produktywność, bezpieczeństwo i ochronę środowiska. Nasze zintegrowane systemy przynoszą również bezpośrednie korzyści w postaci szybszej instalacji i konfiguracji, oszczędności skali i większego bezpieczeństwa.
- EUV
- EZENITH
- Regis
Innowacyjny proces litografii ultrafioletowej, znany w skrócie jako EUVL lub EUV, jest technologią litograficzną nowej generacji, którą wiodący producenci chipów półprzewodnikowych planują stosować w produkcji najbardziej zaawansowanych komponentów półprzewodnikowych. Technologia ta ma historyczne znaczenie, ponieważ umożliwia dalsze rozszerzanie prawa Moore'a. Bezpośrednim wyzwaniem dla EUV jest czas sprawnego działania narzędzia. Nasze w pełni zintegrowane rozwiązanie dla subfabryk przyniesie znaczne korzyści w produkcji litografii EUV. Dzięki ponad 10-letniemu doświadczeniu w dziedzinie technologii EUV z perspektywy subfabryki nasze innowacyjne, wiodące rozwiązania technologiczne i możliwości systematyzacji nadal dążą do zapewnienia maksymalnego czasu sprawnego działania i wydajności procesu EUV w zarządzanym, bezpiecznym środowisku.
W pełni rozumiemy wyzwania
- Zarządzanie ryzykiem
Wykorzystanie naszego globalnego doświadczenia w celu zapewnienia sukcesu klientom
- Energooszczędność
Większe przepływy nie oznaczają większych narzędzi
Recykling/ponowne wykorzystanie
- Skalowanie
Zdolność i doświadczenie w dostosowywaniu się do wymagań klientów. Podwójne przepływy nie oznaczają podwojenia wielkości firmy produkującej systemy, zespołów obsługi klienta, wsparcia serwisowego i globalnej wiedzy specjalistycznej
System EUV firmy Edwards
EZENITH oferuje zaawansowaną ofertę systemów zapewniających w pełni zintegrowane rozwiązania w zakresie kontroli próżni i wylotu dla wszystkich zastosowań związanych z przetwarzaniem półprzewodników. Systemy EZENITH oferują wyjątkowe korzyści:
- Zarządzanie próżnią i spalinami zorientowane na proces
- Pełna integracja komponentów
- Wsparcie każdej funkcji dzięki wydajnemu, zintegrowanemu interfejsowi sterowania
- Zaprojektowane z myślą o efektywnym wykorzystaniu przestrzeni - oszczędności do 70%
- Pełna dystrybucja wewnętrzna, regulacja i monitorowanie usług zmniejszające podłączenie do sieci o ponad 60% przy jednoczesnym zapewnieniu płynnej i niezawodnej pracy
Tylko pompa i urządzenie do oczyszczania gazów nie są jeszcze gotowe do uruchomienia procesu. Należy podłączyć wylot pompy, podłączyć nagrzewnice w razie potrzeby, przeprowadzić przewody wodne, oczyszczające i elektryczne, a następnie przygotować wszystkie sygnały sterujące. Należy również wziąć pod uwagę podwójną obudowę, wykrywanie nieszczelności gazu i sposób przeprowadzania kontroli szczelności po konserwacji narzędzia. Wszystkie te rzeczy będą kosztować Cię czas i pieniądze. Rozumiemy problem, dlatego opracowaliśmy zintegrowane rozwiązania dostosowane do konkretnych procesów.
Nasze zintegrowane systemy są już wstępnie zaprojektowane do większości procesów półprzewodnikowych. Nagrzewnice wylotowe są ustawione na właściwą temperaturę, aby zminimalizować koszty i zmaksymalizować czas sprawnego działania. Umieszczamy porty kontroli szczelności i zawory odcinające tam, gdzie są potrzebne. Cały system jest zamknięty, a co najważniejsze, wystarczy dostarczyć tylko jedną z wymaganych mediów. Rozprowadzamy gazy, wodę, energię elektryczną i sygnały sterujące tam, gdzie są potrzebne, tworząc gotowy do użycia system.
Regis (Reactive Gas Inject System) to system reakcji chemicznej wykorzystujący technologię zdalnego wtrysku plazmy w celu wydłużenia żywotności pompy.
Najnowsza generacja pomp Regis charakteryzuje się unikalną konstrukcją komory reakcyjnej, która zapewnia efektywną reakcję gazów technologicznych przed wprowadzeniem do pompy, wydłużając jej żywotność do ponad 300 dni.
W porównaniu z poprzednią generacją Regis, zajmowana powierzchnia została zmniejszona o 26,5%. Nowy system Regis w połączeniu z serią suchych pomp próżniowych do trudnych warunków pracy zapewnia maksymalny czas pracy pompy i stabilność procesu dla szeregu procesów.
Funkcje i zalety:
- Niski koszt posiadania:
ReGIS wydłuża żywotność pompy do 300 dni lub więcej
Zoptymalizowany przepływ NF3 przy użyciu badań FTIR w celu zminimalizowania COO.
Wydajność reakcji zwiększona o 100% dzięki nowej konstrukcji komory reakcyjnej.
- Maksymalizacja czasu sprawnego działania:
Praca ciągła online.
Skrócony czas przestoju narzędzia dzięki częstej wymianie pompy.
- Całkowicie zamknięty system z przyłączem wyciągu obudowy.
- Sterowanie PLC:
Zdolność zapłonu plazmy ReGIS Tool Signal Control.
Zwiększone bezpieczeństwo
Pełne monitorowanie systemu.
- Zapewnia stabilność procesu:
Bez utraty wydajności.
Brak zmian w przewodności.
Edwards Regis