Ügyfeleink termelékenységének támogatása
A SubFab rendelkezésre állásának maximalizálása
Napjaink gyorsan változó, összekapcsolt világában tisztában vagyunk azzal, hogy ügyfeleink termelékenységének maximalizálására van szükség. Ezt úgy tesszük meg, hogy biztosítjuk, hogy technológiájuk elsőként kerüljön a piacra, miközben továbbra is arra törekszünk, hogy csökkentsük a gyártási folyamat által okozott kockázatokat és környezeti kihívásokat.
Az Edwards integrált megoldásai felmérik az ügyfél teljes vákuum- és kipufogógáz-kezelési igényeit, globális tapasztalataink alapján, az ágazat legfejlettebb technológiáival. Integrált rendszereink a termékek és szolgáltatások megismételhetőségének és helytakarékosságának előnyeit kínálják. Javítják a termelékenységet, a biztonságot és a környezeti biztonságot. Integrált rendszereink közvetlen előnyei a gyorsabb telepítés és beállítás, a méretgazdaságosság és a fokozott biztonság.
- EUV
- EZENITH
- Regis
Az extrém ultraibolya litográfia innovatív folyamata, amelyet EUVL-nek vagy EUV-nek neveznek, a következő generációs litográfiai technológia, amelyet a vezető félvezető chipgyártók a legfejlettebb félvezető komponensek gyártásához terveznek használni. Ez a technológia történelmi jelentőséggel bír, mivel lehetővé teszi Moore törvényének folyamatos bővítését. Az EUV közvetlen kihívása a szerszám rendelkezésre állása. Teljesen integrált algyári megoldásunk jelentős előnyökkel jár az EUV litográfiás gyártásban. Több mint 10 éves tapasztalattal rendelkezünk az EUV gyártási területen belüli alkalmazásában, és innovatív, vezető technológiai megoldásainkkal és rendszerezési képességeinkkel továbbra is arra törekszünk, hogy az EUV folyamat maximális rendelkezésre állását és hozamát biztosítsuk egy irányított, biztonságos környezetben.
Teljes mértékben megértjük a kihívásokat
- Kockázatkezelés
Globális tapasztalataink felhasználása az ügyfelek sikerének biztosítása érdekében
- Energiamegtakarítás
A nagyobb áramlás nem jelenti a nagyobb szerszámokat
Újrahasznosítás
- Skálázás
Az ügyféligényekhez való alkalmazkodás képessége és tapasztalata. A kettős folyamatok nem jelentik a rendszerben tapasztalt termékvállalat, az ügyfélszolgálati csapatok, a szerviztámogatás és a globális szakértelem megduplázását
Edwards EUV rendszer
Az EZENITH fejlett rendszerekből álló portfólióját kínálja, amelyek teljesen integrált vákuum- és kipufogógáz-kezelési megoldásokat kínálnak minden félvezetőipari folyamatalkalmazáshoz. Az EZENITH rendszerek a következőket kínálják:
- Folyamatközpontú vákuum- és kipufogógáz-kezelés
- Komponensek teljes integrációja
- Minden funkció támogatása hatékony, integrált vezérlőfelülettel
- Hatékony helykihasználásra tervezve - akár 70%-os megtakarítás
- A szolgáltatások teljes körű belső elosztása, szabályozása és felügyelete több mint 60%-kal csökkenti a közműcsatlakozásokat, miközben zökkenőmentes és megbízható működést biztosít
Csak egy szivattyúval és egy gázkezelő eszközzel még mindig nem áll készen a folyamat lefuttatására. Csatlakoztassa a szivattyúkimenetet, szükség esetén csatlakoztassa a vezetékfűtéseket, vezesse a víz-, öblítő- és elektromos vezetékeket, majd készítse elő az összes vezérlőjelet. Meg kell fontolnia a kettős burkolatot, a gázszivárgás-észlelést és azt is, hogy hogyan kívánja elvégezni a szivárgás-ellenőrzést a szerszám karbantartása után. Mindez a tervezési időbe és pénzbe kerül. Megértjük a problémát, ezért integrált, folyamatspecifikus megoldásokat fejlesztettünk ki.
Integrált rendszereink már a legtöbb félvezető-gyártási folyamathoz készen állnak. Az elszívó fűtőegységek a megfelelő hőmérsékletre vannak beállítva a költségek minimalizálása és az üzemidő maximalizálása érdekében. Szivárgásellenőrző portokat és kapuszelepeket helyezünk el a szükséges helyekre. A teljes rendszer zárt, és ami a legfontosabb, csak a szükséges közművek egyikét kell biztosítania. A gázokat, a vizet, az áramot és a vezérlőjeleket ott osztjuk el, ahol szükség van rájuk, és egy használatra kész rendszert hozunk létre.
A Regis (reaktív gázbefecskendező rendszer) egy kémiai reakciórendszer, amely távoli plazmatechnológiát használ a szivattyú élettartamának növelésére.
A legújabb generációs Regis egyedülálló reakciókamra-kialakítással rendelkezik, amely biztosítja a folyamatgázok hatékony reakcióját a szivattyúba történő belépés előtt, meghosszabbítva a szivattyú élettartamát több mint 300 napra.
Az előző generációs Regis rendszerhez képest a helyigény 26,5%-kal csökkent. Az új Regis rendszer nagy igénybevételre tervezett száraz vákuumszivattyúkkal párosítva maximális rendelkezésre állást és folyamatstabilitást biztosít számos folyamat esetében.
Funkciók és előnyök:
- Alacsony üzemeltetési költségek:
A ReGIS meghosszabbítja a szivattyú élettartamát legalább 300 napra
Optimalizált NF3-áramlás FTIR-vizsgálatokkal a CoO minimalizálása érdekében.
A reakció hatékonysága 100%-kal nőtt az új reakciókamra-kialakításnak köszönhetően.
- Maximális rendelkezésre állás:
Folyamatos online működés.
Csökkentett szerszámleállás a gyakori szivattyúcserék miatt.
- Teljesen zárt rendszer szekrény-elszívó nyílással.
- PLC-vezérelt:
Szerszámjel-vezérlő ReGIS plazmagyújtó képesség.
Fokozott biztonság.
Teljes rendszerfelügyelet.
- Lehetővé teszi a folyamatstabilitást:
Nincs teljesítményveszteség.
Nincs változás a vezetőképességben.
Edwards Regis