การสนับสนุนความสามารถในการผลิตของลูกค้าของเรา
การเพิ่มความพร้อมใช้งานของ SubFab ให้สูงที่สุด
ในโลกที่เชื่อมโยงกันและเปลี่ยนแปลงอย่างรวดเร็วในปัจจุบัน เราเข้าใจถึงความจําเป็นในการเพิ่มผลผลิตของลูกค้าให้สูงที่สุด เราทําสิ่งนี้โดยการทําให้แน่ใจว่าเทคโนโลยีของพวกเขาเป็นอันดับแรกในตลาด ในขณะที่ยังคงมุ่งมั่นที่จะลดความเสี่ยงและความท้าทายด้านสิ่งแวดล้อมที่กระบวนการผลิตอาจนํามา
โซลูชันแบบบูรณาการของ Edwards ประเมินความต้องการด้านการจัดการสุญญากาศและไอเสียทั้งหมดของลูกค้า โดยอิงตามประสบการณ์ระดับโลกของเรา ด้วยเทคโนโลยีที่ทันสมัยที่สุดในอุตสาหกรรม ระบบแบบบูรณาการของเราให้ข้อดีด้านความสามารถในการทําซ้ําของผลิตภัณฑ์และบริการ และการประหยัดพื้นที่ ซึ่งช่วยเพิ่มความสามารถในการผลิต ความปลอดภัย และความมั่นใจด้านสิ่งแวดล้อม นอกจากนี้ ระบบแบบบูรณาการของเรายังมีประโยชน์โดยตรงจากความเร็วในการติดตั้งและการตั้งค่าที่รวดเร็วขึ้น การประหยัดขนาด และความปลอดภัยที่เพิ่มขึ้น
- EUV
- EZENITH
- Regis
กระบวนการนวัตกรรมของลิโธกราฟีอัลตราไวโอเลตที่รุนแรง หรือเรียกสั้น ๆ ว่า EUVL หรือ EUV เป็นเทคโนโลยีลิโธกราฟีรุ่นถัดไปที่ผู้ผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ชั้นนําวางแผนจะใช้ในการผลิตส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ที่ทันสมัยที่สุด เทคโนโลยีนี้มีความสําคัญในอดีต เนื่องจากช่วยให้สามารถขยายกฎของมอร์ได้อย่างต่อเนื่อง ความท้าทายในทันทีสําหรับ EUV คือเวลาทํางานของเครื่องมือ โซลูชันโรงงานย่อยแบบบูรณาการเต็มรูปแบบของเราจะนําประโยชน์ที่สําคัญมาสู่การผลิตลิโธกราฟี EUV ด้วยประสบการณ์กว่า 10 ปีในการเปิดใช้งาน EUV จากมุมมองของโรงงานย่อย โซลูชันเทคโนโลยีชั้นนําที่เป็นนวัตกรรมของเราและความสามารถในการสร้างระบบของเรายังคงมุ่งมั่นที่จะช่วยให้กระบวนการ EUV มีเวลาทํางานและผลผลิตสูงสุดภายในสภาพแวดล้อมที่ปลอดภัยและมีการจัดการ
เราเข้าใจถึงความท้าทายอย่างเต็มที่
- การจัดการความเสี่ยง
การใช้ประสบการณ์ระดับโลกของเราเพื่อให้มั่นใจถึงความสําเร็จของลูกค้า
- การประหยัดพลังงาน
การไหลที่สูงขึ้นไม่ได้หมายความว่าเครื่องมือจะมีขนาดใหญ่ขึ้น
การรีไซเคิล/การรีไซเคิล
- การปรับขนาด
ความสามารถและประสบการณ์ในการปรับตัวตามความต้องการของลูกค้า การดําเนินงานแบบคู่ไม่ได้หมายถึงการเพิ่มขนาดของบริษัทผลิตภัณฑ์ที่มีประสบการณ์ด้านระบบ ทีมบัญชี ฝ่ายสนับสนุนบริการ และความเชี่ยวชาญระดับโลกเป็นสองเท่า
ระบบ EUV ของ Edwards
EZENITH นําเสนอกลุ่มผลิตภัณฑ์ระบบขั้นสูงที่ให้โซลูชันการจัดการสุญญากาศและไอเสียแบบบูรณาการเต็มรูปแบบสําหรับการใช้งานในกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ทั้งหมดของคุณ ระบบ EZENITH มีเอกลักษณ์เฉพาะตัวในด้าน:
- การจัดการสุญญากาศและไอเสียที่เน้นกระบวนการ
- การผสานรวมส่วนประกอบอย่างสมบูรณ์
- รองรับฟังก์ชันแต่ละฟังก์ชันด้วยอินเทอร์เฟซควบคุมในตัวที่มีประสิทธิภาพ
- ออกแบบมาเพื่อการใช้พื้นที่อย่างมีประสิทธิภาพ - เพื่อการประหยัดสูงสุดถึง 70%
- การกระจาย การควบคุม และการตรวจสอบบริการภายในอย่างเต็มรูปแบบช่วยลดการเชื่อมต่อกับสาธารณูปโภคได้มากกว่า 60% ในขณะที่รับประกันการทํางานที่ราบรื่นและเชื่อถือได้
ด้วยปั๊มและอุปกรณ์บําบัดก๊าซเพียงอย่างเดียว คุณยังไม่พร้อมที่จะดําเนินกระบวนการของคุณ คุณจะต้องเชื่อมต่อท่อไอเสียของปั๊ม เชื่อมต่อเครื่องทําความร้อนในสายที่จําเป็น เดินสายน้ํา การไล่ก๊าซ และสายไฟฟ้า จากนั้นเตรียมสัญญาณควบคุมทั้งหมดให้พร้อม นอกจากนี้ คุณยังต้องพิจารณาการปิดผนึกแบบคู่ การตรวจจับการรั่วไหลของก๊าซ และวิธีที่คุณต้องการดําเนินการตรวจสอบการรั่วไหลหลังการบํารุงรักษาเครื่องมือของคุณ สิ่งเหล่านี้ทั้งหมดจะทําให้คุณเสียเวลาและค่าใช้จ่ายในการออกแบบ เราเข้าใจปัญหานี้ ดังนั้นเราจึงได้พัฒนาโซลูชันแบบบูรณาการที่เฉพาะเจาะจงกับกระบวนการ
ระบบแบบบูรณาการของเราได้รับการออกแบบมาล่วงหน้าแล้วสําหรับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ส่วนใหญ่ เครื่องทําความร้อนไอเสียถูกตั้งค่าสําหรับอุณหภูมิที่ถูกต้องเพื่อลดต้นทุนและเพิ่มเวลาทํางานสูงสุด เราติดตั้งพอร์ตตรวจสอบการรั่วไหลและวาล์วประตูในตําแหน่งที่จําเป็น ระบบทั้งหมดถูกปิดล้อมไว้ และที่สําคัญที่สุด คุณเพียงแค่ต้องจัดเตรียมสาธารณูปโภคที่จําเป็นแต่ละอย่าง เราแจกจ่ายก๊าซ น้ํา ไฟฟ้า และสัญญาณควบคุมในสถานที่ที่จําเป็น และสร้างระบบที่พร้อมใช้งาน
Regis (ระบบฉีดก๊าซรีแอคทีฟ) เป็นระบบปฏิกิริยาเคมีที่ใช้เทคโนโลยีพลาสมาระยะไกลเพื่อเพิ่มอายุการใช้งานของปั๊ม
Regis รุ่นล่าสุดมีการออกแบบห้องปฏิกิริยาที่ไม่เหมือนใครที่ช่วยให้มั่นใจได้ว่าก๊าซในกระบวนการจะเกิดปฏิกิริยาอย่างมีประสิทธิภาพก่อนเข้าสู่ปั๊ม ซึ่งช่วยยืดอายุการใช้งานของปั๊มให้นานกว่า 300 วัน
เมื่อเปรียบเทียบกับ Regis รุ่นก่อนหน้านี้ พื้นที่ติดตั้งลดลง 26.5% ระบบ Regis ใหม่ที่มาพร้อมกับปั๊มสุญญากาศแบบแห้งสําหรับงานหนักจะให้เวลาทํางานของปั๊มและความเสถียรของกระบวนการสูงสุดสําหรับกระบวนการต่างๆ
คุณสมบัติและประโยชน์
- ต้นทุนการเป็นเจ้าของต่ํา:
ReGIS ช่วยยืดอายุการใช้งานของปั๊มได้ถึง 300 วันขึ้นไป
การไหลของ NF3 ที่เหมาะสมที่สุดโดยใช้การศึกษา FTIR เพื่อลด CoO
ประสิทธิภาพของปฏิกิริยาเพิ่มขึ้น 100% เนื่องจากการออกแบบห้องปฏิกิริยาใหม่
- เพิ่มเวลาทํางานของเครื่องมือสูงสุด:
การทํางานต่อเนื่องแบบออนไลน์
ลดเวลาหยุดทํางานของเครื่องมือเนื่องจากการเปลี่ยนปั๊มบ่อยครั้ง
- ระบบที่ปิดสนิทพร้อมพอร์ตการดูดควันในตู้
- ควบคุมด้วย PLC:
ความสามารถในการจุดระเบิดพลาสมาของเครื่องมือควบคุมสัญญาณ ReGIS
เพิ่มความปลอดภัย
การตรวจสอบระบบแบบเต็มรูปแบบ
- ช่วยให้กระบวนการมีความเสถียร:
ไม่มีการสูญเสียประสิทธิภาพ
ไม่มีการเปลี่ยนแปลงการนําไฟฟ้า
Edwards รีจิส