Menyokong produktiviti pelanggan kami
Memaksimumkan ketersediaan SubFab
Dalam dunia yang bergerak pantas dan saling terhubung hari ini, kami memahami keperluan untuk memaksimumkan produktiviti pelanggan kami. Kami melakukan ini dengan memastikan teknologi mereka menjadi yang pertama di pasaran, sambil terus berusaha untuk mengurangkan risiko dan cabaran alam sekitar yang boleh dibawa oleh proses pembuatan.
Aplikasi penyelesaian terintegrasi Edwards menilai keseluruhan keperluan pengurusan vakum dan ekzos pelanggan, berdasarkan pengalaman global kami, dengan teknologi paling maju dalam sektor ini. Sistem terintegrasi kami memberikan kelebihan kebolehulangan produk dan perkhidmatan serta penjimatan ruang. Mereka membawa peningkatan produktiviti, keselamatan dan jaminan alam sekitar. Sistem terintegrasi kami juga memberikan manfaat langsung seperti kelajuan pemasangan dan penyediaan yang lebih cepat, ekonomi skala, dan keselamatan yang dipertingkatkan.
- EUV
- EZENITH
- Regis
Proses inovatif litografi ultraviolet ekstrem, yang dikenali dengan singkatan EUVL atau EUV, adalah teknologi litografi generasi seterusnya yang dirancang oleh pengeluar cip semikonduktor terkemuka untuk digunakan dalam pembuatan komponen semikonduktor yang paling maju. Teknologi ini mempunyai kepentingan sejarah, kerana ia membolehkan pengembangan berterusan Hukum Moore. Cabaran segera bagi EUV adalah masa operasi alat. Penyelesaian sub fab kami yang sepenuhnya terintegrasi akan memberikan manfaat yang signifikan kepada pengeluaran litografi EUV. Dengan lebih daripada 10 tahun pengalaman dalam membolehkan EUV dari perspektif sub fab, penyelesaian teknologi inovatif kami yang terkemuka dan keupayaan sistemisasi terus berusaha untuk membolehkan masa proses EUV maksimum dan hasil dalam persekitaran yang selamat dan terurus.
Kami sepenuhnya memahami cabaran yang dihadapi.
- Pengurusan Risiko
Menggunakan pengalaman global kami untuk memastikan kejayaan pelanggan
- Penjimatan Tenaga
Aliran yang lebih tinggi tidak bermakna alat yang lebih besar.
Kitar Semula/Penggunaan Semula
- Pengukuran
Kemampuan dan pengalaman untuk menyesuaikan diri dengan permintaan pelanggan. Aliran berganda tidak bermakna menggandakan saiz sistem yang dialami oleh syarikat produk, pasukan akaun, sokongan perkhidmatan dan kepakaran global.
Sistem EUV Edwards
EZENITH menawarkan portfolio sistem canggih yang menyediakan penyelesaian pengurusan vakum dan ekzos yang sepenuhnya terintegrasi untuk semua aplikasi proses semikonduktor anda. Sistem EZENITH adalah unik dalam menawarkan:
- Pengurusan Vakum & Ekzos Berpusat pada Proses
- Integrasi Lengkap Komponen
- Sokongan setiap fungsi dengan Antara Muka Kawalan Terpadu yang berkuasa
- Direka untuk Penggunaan Ruang yang Efisien - untuk Penjimatan sehingga 70%
- Pengedaran Dalaman Penuh, peraturan dan pemantauan perkhidmatan yang mengurangkan sambungan utiliti lebih daripada 60% sambil memastikan operasi yang lancar dan boleh dipercayai.
Dengan hanya satu pam dan peranti pengurangan gas, anda masih belum bersedia untuk menjalankan proses anda. Anda perlu menyambungkan ekzos pam, menyambungkan pemanas saluran anda di tempat yang diperlukan, mengalirkan air anda, mengeluarkan udara dan saluran elektrik, dan kemudian menyediakan semua isyarat kawalan anda. Anda juga perlu mempertimbangkan pengenalan berganda, pengesanan kebocoran gas, dan bagaimana anda ingin menjalankan pemeriksaan kebocoran selepas penyelenggaraan alat anda. Semua perkara ini akan memakan masa dan wang untuk reka bentuk anda. Kami memahami masalah tersebut, jadi kami telah mengembangkan penyelesaian yang terintegrasi dan khusus untuk proses.
Sistem terintegrasi kami sudah direka bentuk untuk kebanyakan proses semikonduktor. Pemanas ekzos ditetapkan pada suhu yang betul untuk meminimumkan kos dan memaksimumkan masa operasi. Kami meletakkan port pemeriksaan kebocoran dan injap pintu di tempat yang diperlukan. Seluruh sistem adalah tertutup dan, yang paling penting, anda hanya perlu menyediakan satu daripada setiap utiliti yang diperlukan. Kami mengedarkan gas, air, elektrik, dan isyarat kawalan ke tempat yang diperlukan dan mencipta sistem yang sedia untuk digunakan.
Regis (Sistem Suntikan Gas Reaktif) adalah sistem reaksi kimia yang menggunakan teknologi plasma jauh untuk meningkatkan jangka hayat pam.
Generasi terbaru Regis mempunyai reka bentuk ruang reaksi yang unik yang memastikan gas proses bertindak balas dengan cekap sebelum memasuki pam, memanjangkan jangka hayat pam kepada lebih daripada 300 hari.
Dibandingkan dengan generasi Regis sebelumnya, jejaknya telah dikurangkan sebanyak 26,5%. Sistem Regis yang baru digabungkan dengan pam vakum kering siri tugas berat, menyediakan masa operasi pam maksimum dan kestabilan proses untuk pelbagai proses.
Ciri-ciri dan faedah:
- Kos pemilikan yang rendah:
ReGIS memanjangkan jangka hayat pam hingga 300 hari atau lebih.
Aliran NF3 yang dioptimumkan menggunakan kajian FTIR untuk meminimumkan CoO.
Kecekapan reaksi meningkat sebanyak 100% disebabkan oleh reka bentuk ruang reaksi yang baru.
- Maksimumkan masa penggunaan alat:
Operasi berterusan dalam talian.
Pengurangan masa henti alat akibat pertukaran pam yang kerap.
- Sistem tertutup sepenuhnya dengan port pengeluaran kabinet disertakan.
- Terkawal PLC:
Kawalan Isyarat Alat Keupayaan Nyalaan Plasma ReGIS.
Keselamatan Dipertingkatkan.
Pemantauan sistem penuh.
- Membolehkan kestabilan proses:
Tiada kehilangan dalam prestasi.
Tiada perubahan dalam konduktans.
Edwards Regis