Your browser is not supported

Anda sedang menggunakan pelayar yang tidak lagi kami sokong. Untuk terus melayari laman web kami, sila pilih salah satu pelayar yang disokong berikut.

Search Edwards Vacuum

Pam vakum kering tugas berat Ganymede untuk aplikasi semikonduktor

Penanda aras global dalam inovasi vakum

Pam Turbomolekul nEXT1230

Platform generasi akan datang untuk aplikasi fabrikasi yang keras

Dibina di atas platform yang direka semula sepenuhnya, Ganymede menampilkan rangkaian kuasa berkecekapan tinggi, rangkaian sensor yang luas, dan mekanisme pam baru yang membolehkan kebolehpercayaan dan kawalan dalam persekitaran fabrikasi yang mencabar.

Menyampaikan kos pemilikan keseluruhan (TCoO) yang lebih rendah, kecerdasan ramalan, dan operasi yang stabil, Ganymede direka untuk menyokong pengeluaran semikonduktor yang lebih pintar dan lebih lestari.

Dua gear yang saling mengait dengan tanda semak di dalamnya, diletakkan di hadapan empat anak panah yang menunjuk ke atas, mewakili proses yang dioptimumkan, pertumbuhan, dan jaminan kualiti.

Kebolehpercayaan Tinggi

Sepasang gunting memotong sepanjang garis putus-putus di bawah gear yang mengandungi simbol dolar, dengan anak panah menunjuk ke bawah, mewakili pengurangan kos, penjimatan, atau peningkatan kecekapan.

Kos Pemilikan Jumlah Rendah

Dua gear yang saling mengait dengan tanda semak di dalamnya, diletakkan di hadapan empat anak panah yang menunjuk ke atas, mewakili proses yang dioptimumkan, pertumbuhan, dan jaminan kualiti.

Jejak Kecil

Dua gear yang saling mengait dengan tanda semak di dalamnya, diletakkan di hadapan empat anak panah yang menunjuk ke atas, mewakili proses yang dioptimumkan, pertumbuhan, dan jaminan kualiti.

Data, Sensor Ditingkatkan dan

Kecerdasan

Harsh-Duty Dry Vacuum Pump

Dibina untuk proses semikonduktor yang paling mencabar, termasuk: PECVD, ALD, PEALD, SACVD, LPCVD, Epitaksi

Ganymede direka untuk menahan kimia dan hasil sampingan yang paling keras:​

  • Serbuk – Rantaian kuasa tork tinggi dan pengurusan serbuk pintar menggerakkan beban serbuk berat tanpa penggunaan tenaga yang berlebihan.​
  • Boleh Mengembun – Pengurusan profil suhu meminimumkan pemendapan pada komponen ketepatan.

Ciri-ciri Utama dan Manfaat:

  • Kebolehpercayaan tinggi & Kos Pemilikan Keseluruhan yang lebih rendah
  • Keupayaan pengendalian serbuk sehingga 6 kali lebih baik untuk gangguan yang lebih sedikit dan selang perkhidmatan yang lebih lama.
  • Penggunaan kuasa, air, dan nitrogen yang dioptimumkan secara signifikan mengurangkan kos operasi:
    • Penjimatan tenaga sebanyak 60%
    • Pengurangan penggunaan PCW sebanyak 40%
    • Pengurangan penggunaan nitrogen sebanyak 25%
  • Reka Bentuk Padat dan Jimat Ruang
    • Jejak 30% lebih kecil membolehkan ketumpatan ruang bilik yang lebih tinggi di subfab, meningkatkan produktiviti setiap kaki persegi.
  • Direka untuk mengurangkan impak terhadap alam sekitar
    • Pengurangan sehingga 49% dalam pelepasan setara CO₂ Skop 2 pelanggan, menyokong objektif alam sekitar seluruh kilang dan strategi kemampanan jangka panjang

*Semua peningkatan prestasi berbanding Edwards iXH.

Soalan Lazim

Soalan Lazim Mengenai Pam Vakum Kering-Kasar Ganymede

Baca jawapan kepada beberapa soalan paling popular yang pernah ditanyakan oleh pelanggan lain.

Apakah pam kering Edwards Ganymede?

Ganymede adalah pam vakum kering tugas berat generasi seterusnya yang direka untuk pembuatan semikonduktor maju. Ia menggabungkan <highefficiency>rantaian kuasa cekap tinggi</highefficiency>, pemantauan pintar, dan pengendalian proses yang dipertingkatkan untuk memberikan prestasi yang boleh dipercayai dalam persekitaran <subfab>subfab</subfab> yang mencabar.

Apakah kegunaan pam kering dalam persekitaran fab atau subfab?

Pam vakum kering menyediakan vakum penting yang diperlukan untuk ruang proses semikonduktor, menyokong pemendapan (CVD, ALD, PEALD), etsa, epitaksi dan alat lain yang beroperasi pada suhu tinggi atau menghasilkan hasil sampingan tinggi. Di subfab, mereka mengeluarkan gas proses, serbuk dan kondensat dengan selamat dari ruang, menstabilkan tekanan proses, dan mengekalkan masa operasi alat secara berterusan. Reka bentuk tanpa minyak mereka mengelakkan pencemaran, menjadikannya standard untuk pembuatan semikonduktor moden.

Apakah cabaran yang dihadapi oleh pam kering dalam proses semikonduktor yang keras?

Pam kering yang beroperasi pada alat CVD, ALD, SACVD dan epitaksi mesti menangani serbuk berat, hasil sampingan yang boleh mengembun dan bahan kimia yang menghakis. Ini boleh menyebabkan pemendapan, hakisan atau beban tork berlebihan jika pam tidak direka untuk tugas yang keras.

Apakah keuntungan TCoO dunia nyata yang boleh kita jangkakan daripada pam Edwards Ganymede?

Daripada platform tugas berat generasi seterusnya, jangkaan pengendalian serbuk yang jauh lebih baik, pembersihan yang lebih sedikit, dan pengurangan ketara dalam tenaga, PCW dan nitrogen—yang diterjemahkan kepada TCoO yang lebih rendah dan masa operasi yang lebih tinggi. 
Sebagai contoh, platform ini memberikan penjimatan tenaga sehingga 60%, 40% kurang PCW dan 25% kurang N₂ berbanding generasi sebelumnya Edwards iXH, dengan pengendalian serbuk sehingga 6× lebih baik dan jejak tapak 30% lebih kecil; Scope 2 CO₂e boleh berkurang sehingga 49%.

Bagaimana pam kering mengendalikan beban serbuk berat dari PECVD atau SACVD?

Pemacu tork tinggi, profil skru/gelung/pin yang dioptimumkan, kecerunan suhu terkawal, dan kawalan kelajuan adaptif menggerakkan serbuk tanpa tersekat, sambil meminimumkan penggumpalan dan tekanan balik ruang.

Mengapa pengurusan suhu penting untuk hasil sampingan yang boleh mengembun?

Bahan yang boleh mengembun boleh mengeras di dalam pam jika zon suhu tidak dikawal dengan ketat. Pam kering canggih menggunakan profil terma yang diurus untuk mengurangkan pemendapan dan melindungi toleransi kritikal. Ini mengurangkan penyelenggaraan dan meningkatkan kebolehpercayaan jangka panjang.

Bagaimana pembentukan hasil sampingan yang boleh memeluwap dalam pam vakum kering dapat dicegah?

Dengan menguruskan profil suhu secara aktif merentasi peringkat, memastikan saluran dan toleransi kritikal berada di atas titik embun, dan menjadualkan kitaran pembersihan/pengosongan yang dicetuskan oleh ambang sensor.

Apa yang melindungi pam kering daripada gas proses yang menghakis?

Salutan proprietari dan rawatan permukaan pada komponen kritikal, pemilihan bahan yang teliti, dan pembersihan terkawal yang mencairkan/bertindak balas meneutralkan bahan penghakis sebelum ia mencapai bahagian dalaman yang sensitif.

Adakah pam kering baru akan disepadukan dengan kawalan fab sedia ada?

Ya, cari antara muka digital terbuka (contohnya, EtherNet/IP, Modbus/TCP), kait pemantauan jauh, dan sambungan utiliti mudah untuk pemasangan semula drop-in dan keterlihatan seluruh kilang.

Bagaimana pam kering dapat membantu mengurangkan pelepasan Skop 2?

Penggunaan tenaga yang lebih rendah setiap ruang dan utiliti berasaskan permintaan (N₂, PCW) secara langsung mengurangkan penggunaan elektrik dan CO₂e yang berkaitan. Model lanjutan mengira penjimatan untuk pelaporan kelestarian.

Apa yang perlu anda ingat apabila meletakkan pam vakum kering dalam keadaan yang keras?

Pam mesti dipasang dengan:

  • Penyejukan dan jarak termal yang mencukupi

  • Pengurusan ekzos yang betul (saiz saluran, perlindungan aliran balik, pengurangan pencemaran)

  • Akses yang boleh dipercayai kepada nitrogen dan air penyejuk 

  • Ruang perkhidmatan yang mencukupi

  • Perlindungan daripada aliran udara yang menghakis atau kaya dengan zarah dalam subfab 
    Apabila memilih pam untuk tugas berat, cari tork yang kuat, sensor pintar, bahagian dalaman yang tahan kakisan dan profil suhu terkawal—elemen teras platform Ganymede.

Hubungi kami untuk mengetahui bagaimana Ganymede dapat mengubah operasi subfab anda