Vacuum Equipment for Ultra High Vacuum Applications Brochure
気体溜め込み式真空ポンプの技術で、高真空（HV）および超高真空（UHV）環境を作り出し、携帯用質量分析装置から大型の粒子加速器にいたるまで、幅広い用途に用いられます。経済的なコストで可能な限り高い真空を作り出すことができます。
スパッタイオンポンプ（別名イオンゲッターポンプ）は、アノード/カソードアレイを使用してガスをイオン化する溜め込み式ポンプです。イオンスパッタ反応性のカソード材料により、イオン化されたガスを固体化合物に変える化学反応を起こします。これらの化合物は、真空システムの圧力に寄与しなくなり、恒久的にイオンポンプ内に捕捉されます。イオンポンプは、10-5 ～10-12 mbar、0.2～1,200 l/sの窒素範囲で動作可能です。
チタンイオンポンプ
このポンプは、チタンフィラメントを加熱し、表面にチタン分子を昇華（固体から気相への変換）させることで動作します。昇華されたチタン分子は、酸素や窒素のような反応性ガスと化学的に反応し、水素を分離して拡散するために利用されます。TSP製品は、10-5 ～10-12 mbarで動作し、10,000 l/sを超える水素排気速度を有しています。
チタンサブリメーションイオンポンプ
NEGは、固体基板上にプレスされた、またはディスク内に焼結された反応性金属です。ジルコニウム、バナジウム、鉄による特定の組み合わせは、HVおよびUHV環境に最も適していることが証明されています。使用材料の量によりNEGポンプの速度および容量が制御されますが、55～412 l/s、630～3600 Torr l/sの能力範囲が一般的です。NEGが気体により飽和状態になったときは、大気中へ排気することなく再活性化が可能です。
NEGカートリッジN200
コンパクト設計の最新型NEGは、機能性を高めながら性能とコストの両面で最適化されており、お客様の用途において容易に超高真空環境を作り出すことができます。
デジタルSPC-NEGコントローラは、NEGポンプのコントローラで、超高真空において最も重要なガスの種類である水素を高速で 排気させます。標準的な電源とは異なり、SPC-NEGは、電流をNEGヒータに供給できるだけではなく、電流値や加熱時間などの特定のパラメータが事前設定されたルーティーンを実行することができます。これらのパラメータ値は、接続されているNEGポンプに応じてSPC-NEGが選択します。異なるパラメータを用いた試験ができるように、ルーティーンのカスタマイズが可能です。オープンループ検知や過負荷保護により、信頼性の高い動作が実現します。
大型タッチスクリーンによりさらに使いやすくなったうえ、イーサネットインターフェースにより遠隔制御も可能となりました。
デジタルSPC-NEGコントローラ
