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超高真空系統

我們透過 Gamma Vacuum 提供一系列離子泵浦、NEG-離子泵浦、鈦昇華泵浦、非蒸散型吸附泵浦和專用配件。

從攜帶式質譜儀到大型粒子加速器等,吸附型泵浦技術可為各種應用創造高真空 (HV) 和超高真空 (UHV) 環境。這類技術可透過最經濟的方式,盡可能產生極低的真空度。

HyTan NEG-離子泵浦

NEG 泵浦可高速抽吸 H2 和 N2、O2 與 CO 等化學活性氣體,而離子泵浦可有效萃取所有氣體種類,包括惰性氣體與甲烷。HyTan NEG-離子泵浦則將上述兩項技術整合入一款精巧的 UHV 泵浦。

透過可更換模組,NEG 泵浦的氫抽吸速度落在 100–500 l/s 之間,外加離子泵浦模組採用貴金屬和傳統二極管元件,這項創新技術適用於多種 UHV 應用。

由於體積輕巧,且可以選擇在腔體中組裝泵浦,因此 HyTan NEG-離子泵浦非常適合空間受限的 UHV 環境。 

離子泵浦

Gamma Vacuum 鈦離子泵浦

鈦離子泵浦

又稱為濺射離子泵浦離子吸附型泵浦

這是使用陽極/陰極陣列使氣體電離的吸附型泵浦。

離子濺射反應性陰極材料產生化學反應,將離子化的氣體變成固體化合物。這些化合物不再導致真空系統的壓力,而是永久性地被吸附至離子泵浦。

離子泵浦可以在 10-5 到 10-12 mbar 的壓力下運行,擁有 0.2 至 1,200 l/s 的氮抽氣速度。

鈦昇華泵浦

工作方式是加熱鈦絲並將鈦分子昇華 (從固相轉變為氣相) 至表面上。

然後可以將昇華的鈦分子與反應性氣體 (例如氧氣和氮氣) 進行化學反應,並使氫解離並擴散。

TSP 可以在 10-5 到 10-12 mbar 的壓力下運行,擁有超過 10,000 l/s 的氫抽吸速度。

Gamma Vacuum 鈦昇華離子泵浦

鈦昇華離子泵浦

非蒸散型吸附 (NEG) 泵浦

屬於反應性金屬,已被在固體基材上或燒結成圓盤。

目前已發現鋯、釩和鐵的特定組合最適合於 HV 和 UHV 環境。所使用的材料量控制著 NEG 泵浦的抽氣速度和容量,但抽氣速度範圍通常為 55 至 412 l/s,容量通常為 630 至 3600 Torr l/s。

隨著 NEG 充滿氣體,這些氣體可以被重新活化而無需排入大氣。

DIGITEL 離子泵浦控制器

我們開發了一系列的離子泵浦,NEG 泵浦,TSP 和 NEG 控制器,用於調節、驅動和管理您的真空應用。

無論您使用單一或多個泵浦,我們控制器系列的設計皆能確保您維持穩定的電壓與電流等級,而且搭配多種整合協定、安全功能及容易使用的操作介面。

進階的 SPCe、QPC、MPCq 和 TSP 控制器均能協助您發揮真空系統的最佳性能。

  • DIGITEL SPCe 小型泵浦控制器可管理抽氣速度達 75 l/s 的單一離子泵浦
  • DIGITEL QPC 四泵浦控制器可管理高達 4 個離子泵浦,抽氣速度達 100 I/s
  • DIGITEL MPCq 多泵浦控制器提供最多 4 個大型離子泵浦的高電流控制
  • TSP 控制器最多可管理 2 個 TSP 泵浦 (= 6 條 TSP 絲)

UHV (超高真空) 配件

經過設計,可與 Gamma Vacuum 系列產品完美搭配運作。

此系列配件將進一步提升真空系統的性能、可靠性和效率。

  • 高電壓纜線 – 我們自行打造的一系列高電壓纜線,專為配合各種應用與電力需求而設計。
  • TSP 纜線 – 持久耐用且可靠的纜線,適用於我們的鈦昇華泵浦。
  • 分離器 - 分離通往離子或 NEG 泵浦的電力,以執行平行運作。
  • TSP 遮罩 – 護罩塗覆昇華鈦,打造大型活性表面,提供優異的氫抽氣速度。

超高真空泵浦的主要特點

消除機械震動

吸附型泵浦沒有移動零件,因此消弭了移動零件所產生的震動和電氣噪音

高輻射耐受性

吸附型泵浦由超過 108 Gray 的耐輻射材料製成。接頭和電纜還採用耐輻射材料製成,可連續運作多年

耐高溫

無需任何特別考慮,吸附型泵浦可烘烤至 250°C。取下磁體可使高溫烘烤達到 450°C。長時間熱烘烤對於每個 UHV 系統都至關重要

  

無需定期維護

吸附型泵浦幾乎不需要維護,由於與大氣隔絕,因而免除昂貴的真空相關成本,從而節省了時間、金錢和資源

初期營運成本低

初始成本通常低於其他類型真空泵浦的相似規格。多年來低成本運作,因此消耗功率極少或無消耗功率

Vacuum Equipment for Ultra High Vacuum Applications Brochure

PDF

6.7 MB

Vacuum Equipment for Analytical Applications Brochure

PDF

6.7 MB

愛德華員工站在走廊上微笑
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