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Ganymede Harsh-Duty 건식 진공 펌프

진공 혁신의 글로벌 기준

nEXT1230 터보 분자 펌프

혹독한 팹 공정 환경을 위한 차세대 진공 펌프 플랫폼

완전히 새롭게 재설계된 플랫폼을 기반으로, Ganymede는 고효율 파워트레인, 광범위한 센서 네트워크, 혁신적인 펌핑 메커니즘을 통해 까다로운 팹 환경에서도 높은 신뢰성과 제어 성능을 제공합니다.

낮은 총소유비용(TCoO)과 예지 기반 인텔리전스로 안정적인 운영을 제공하며, 보다 스마트하고 지속 가능한 반도체 생산을 지원하도록 설계되었습니다.

주요 특징 및 장점:

위쪽을 가리키는 네 개의 화살표 앞에 체크 표시가 있는 두 개의 인터로킹 기어가 위치한 이미지로, 최적화된 공정, 성장 및 품질 보증을 나타냅니다.

신뢰할 수 있는 성능

고속 루트 및 Microclaw™ 기술을 적용해 파우더 처리 성능을 크게 향상시켰으며, 최대 3배 향상된 파우더 처리 능력으로 안정적인 공정 운영을 지원합니다.

달러 기호가 표시되어 있는 기어 아래 점선을 따라 자르는 가위 한 쌍과 아래쪽을 가리키는 화살표로 비용 절감 또는 효율성 개선을 나타냅니다.

낮은 유지 보수 비용

전력, 물, 질소 사용량을 최적화해 운영 비용을 효과적으로 절감합니다. 에너지 50% 절감, PCW 사용량 40% 감소, 질소 사용량 최대 25% 감소효과를 제공합니다.

위쪽을 가리키는 네 개의 화살표 앞에 체크 표시가 있는 두 개의 인터로킹 기어가 위치한 이미지로, 최적화된 공정, 성장 및 품질 보증을 나타냅니다.

작은 설치 면적

공간 절약형 설계로 Ganymede는 설치 공간을 기존 대비 최대 30%를 줄여 서브팹 챔버의 공간 활용도를 높여 단위 면적당 생산성 향상에 기여합니다.

위쪽을 가리키는 네 개의 화살표 앞에 체크 표시가 있는 두 개의 인터로킹 기어가 위치한 이미지로, 최적화된 공정, 성장 및 품질 보증을 나타냅니다.

향상된 데이터, 센서 및 지능

실시간 데이터 기반 예지 정비로 성능을 최적화합니다.

위쪽을 가리키는 네 개의 화살표 앞에 체크 표시가 있는 두 개의 인터로킹 기어가 위치한 이미지로, 최적화된 공정, 성장 및 품질 보증을 나타냅니다.

지속가능성 강화

PFAS 사용을 줄이고 고객의 Scope 2 CO₂e 배출량을 최대 49%까지 절감하여 팹의 지속가능성 목표 달성을 지원합니다.

Harsh-Duty Dry Vacuum Pump

까다로운 반도체 공정을 위한 설계

PECVD, ALD, PEALD, SACVD, LPCVD, 에피택시

Ganymede는 까다로운 화학물질과 공정부산물이 발생하는 환경에서도 안정적인 성능을 유지할 수 있도록 설계되었습니다.​

  • 파우더 - 고토크 파워트레인과 스마트한 파우더 관리 기술을 통해, 에너지 낭비 없이 많은 양의 파우더를 효율적으로 처리합니다.​
  • 응축성 부산물 - 온도 프로파일 관리를 통해 정밀 부품에서의 침전을 최소화합니다.

FAQ

Ganymede Harsh-Duty 건식 진공 펌프 주요 문의사항

고객들이 많이 문의하는 내용과 답변을 확인해 보세요.

Edwards Ganymede 건식 펌프란 무엇인가요?

Ganymede는 첨단 반도체 공정을 위해 설계된 차세대 Harsh‑duty 건식 진공 펌프입니다. 고효율 파워트레인, 지능형 모니터링, 향상된 공정 처리 능력을 결합해 까다로운 서브팹 환경에서도 안정적인 성능을 제공합니다.

건식 펌프는 팹과 서브팹에서 어떤 역할을 하나요?

건식 펌프는 반도체 공정 챔버에서 필수적인 진공을 형성하여 증착(CVD, ALD, PEALD 등), 식각, 에피택시와 같은 고온, 고부산물 공정을 지원합니다. 서브팹에서는 공정 가스, 파우더 및 응축성 물질을 안전하게 배기하고 공정 압력을 안정적으로 유지함으로써 장비의 연속 가동을 가능하게 합니다. 또한 건식 펌프의 오일 비사용 설계는 오염을 방지해 반도체 공정의 표준 장비로 사용됩니다.

까다로운 반도체 공정에서 건식 펌프는 어떤 과제에 직면하나요?

CVD, ALD, SACVD, 에피택시 공정에서 운영되는 건식 펌프는 많은 양의 파우더와 응축성 부산물, 부식성 화학물질을 처리해야 합니다. 이러한 열악한 환경에 적합하지 않은 경우 내부 침전, 부식, 토크 과부하 등의 문제가 발생할 수 있습니다.

Edwards Ganymede 펌프를 통해 기대할 수 있는 실제 TCoO 개선 효과는 무엇인가요?

차세대 Harsh duty 플랫폼은 파우더 처리 성능 향상과 클리닝 빈도 감소, 에너지·PCW·질소 사용량 절감을 통해 총소유비용을 낮추고 가동 시간 향상에 기여합니다. 
기존 Edwards iXH 모델 대비 에너지 소비량 최대 60%, PCW 사용량 최대 40%, 질소(N₂) 소비량 최대 25%를 절감이 가능합니다. 또한 파우더 처리 성능은 최대 6배 향상되었으며 설치 면적은 30%를 줄여 Scope 2 CO₂e 배출량을 최대 49%까지 절감할 수 있습니다.

건식 펌프는 PECVD 및 SACVD 공정의 높은 파우더 부하를 어떻게 처리하나요?

고토크 드라이브, 최적화된 내부 구조(스크류/스크롤/핀 프로파일), 정교한 온도 제어 및 적응형 속도 제어 기술을 통해 대량의 파우더를 안정적으로 이송합니다. 이를 통해 파우더 정체와 응집을 최소화하고 챔버 내 백프레셔 상승을 효과적으로 억제합니다.

응축성 부산물의 온도 관리가 중요한 이유는 무엇인가요?

내부 온도 구역을 엄격하게 제어하지 않을 경우 응축성 부산물이 펌프 내부에 고체화될 수 있습니다. 첨단 건식 펌프는 최적화된 온도 프로파일 관리를 통해 부산물 침전을 최소화하고 핵심 부품의 정밀도를 유지합니다. 이를 통해 유지보수 부담을 줄이고 장비 신뢰성을 향상시킵니다.

건식 진공 펌프에 응축성 부산물이 축적되는 것을 어떻게 방지할 수 있나요?

펌프 각 단의 온도 프로파일을 잘 관리하고, 배관 라인과 주요 부품의 온도를 이슬점 이상으로 유지해야 합니다. 또한 센서 임계값에 따라 퍼지 및 클리닝 작업이 진행되도록 관리하여 응축물 축적을 효과적으로 방지할 수 있습니다.

부식성 공정 가스로부터 건식 펌프를 보호하는 것은 무엇인가요?

핵심 부품에는 전용 코팅 및 표면 처리 기술이 적용되며, 적절한 소재 선정과 제어된 퍼지를 통해 부식성 물질이 민감한 내부 부품에 도달하기 전에 희석 또는 반응하여·중화되도록 설계되었습니다.

새로운 건식 펌프는 기존 팹 제어 시스템과 연동이 가능한가요?

가능합니다. EtherNet/IP, Modbus/TCP와 같은 개방형 디지털 인터페이스를 지원하며, 원격 모니터링과 유틸리티 연동 기능을 통해 기존 팹 제어 시스템과 손쉽게 연동할 수 있습니다.

건식 펌프가 Scope 2 배출량 절감에 어떻게 기여하나요?

챔버당 에너지 사용량을 줄이고 수요 기반 유틸리티(N₂, PCW)를 적용함으로써 전력 사용량과 Scope 2 CO₂e 배출량 절감에 기여할 수 있습니다. 고급 모델에서는 절감량을 정량화하여 지속가능성 보고에 활용할 수 있습니다.

열악한 환경에서 건식 진공 펌프를 설치할 때 고려해야 할 사항은 무엇인가요?

펌프 설치 시 고려해야 할 사항:

  • 충분한 냉각 및 열 방출 공간 확보

  • 적절한 배기 설계(배관 사이즈, 역류 방지, 저감 장치 등)

  • 안정적인 질소 및 냉각수 공급 

  • 충분한 유지보수 공간 확보

  • 서브팹 내 부식성 또는 입자성 오염 공기로부터의 보호 
    Harsh duty용 펌프를 선택할 때는 높은 토크 성능과 지능형 센서, 내부식성 구조, 정밀한 온도 제어 기능 등을 확인하는 것이 중요합니다. Ganymede 플랫폼은 이러한 요소들을 고려해 설계되었습니다.

Ganymede가 서브팹 운영 환경을 어떻게 개선할 수 있는지 확인해 보세요.