産業用ソリューション

100年以上にわたってイノベーションを牽引

当社は100年以上にわたり、真空ポンプテクノロジーとシステム機能を絶えず革新し、お客様の製造がクリーンでスマート、経済的かつ環境に優しいものとなるよう努めてきました。

産業用途に最適な真空ソリューションの選択

真空ポンプは、さまざまな産業用途で広く使用されており、真空または低圧環境を作り出し、非常に異なる動作条件やプロセス条件にさらされています。真空ポンプを選択する際には、物理的容量、ガス組成、プロセスパラメータ、環境条件など、多くの要因を考慮する必要があります。

これらの要因は、適切なポンプを選択し、最適な設計と生産性を達成するために考慮する必要があります。エドワーズのアプリケーションエンジニアは、数十年にわたるアプリケーションの専門知識と高度な独自のモデリングソフトウェアにより、お客様の製造ニーズに最適な真空ソリューションの選択をお手伝いします。

当社がサポートする産業用途

工業用ガス製品

真空ポンプは、高純度の水素、メタン、二酸化炭素（炭素回収）の回収、酸素と窒素の生成（空気分離）のためのガスタンク充填、真空圧力スイング吸着 (VPSA) など、さまざまな用途で産業用ガス製造に使用されています。

エドワーズのドライポンプが使用されるもう 1 つの分野は、熱損失と沸騰を低減する断熱に真空が使用されるガス液化などの低温用途です。

滅菌

真空テクノロジーは、ヘルスケアやライフサイエンス分野で重要な役割を果たしています。滅菌は、医薬品、器具、医療機器を汚染し、健康被害につながる可能性のある微生物を除去するために必要な重要なプロセスです。滅菌プロセスには、熱に敏感な物品の汚染除去のための高温（蒸気）または低温プロセス（エチレンオキシドまたは ETO、過酸化水素、プラズマ、電子ビームまたは E ビーム）が含まれます。エドワーズの危険場所用ドライケミカル真空技術は、これらの滅菌プロセスの大部分を可能にします。

プラズマ処理

プラズマは単純に部分的にイオン化されたガスであり、多くの場合、第 4 の物質状態と呼ばれます。プラズマ技術は薄膜コーティングや冶金アプリケーションで使用されますが、一般的にプラズマ処理とは、表面活性化（表面エネルギーの変更）や表面洗浄（有機汚染物質の除去）にプラズマを使用することを指します。

当社のドライスクリュポンプとメカニカルブースタポンプを組み合わせることで、プラズマ点火のための物理的条件が実現し、これらの用途のほとんどに存在します。

結晶成長

結晶培養は、原子層が高度に順序付けられ構造化された配列で培養され、高純度の結晶を形成するプロセスです。種晶又はエピタキシー堆積からそれらを増殖させるなど、様々な技術が用いられる。典型的に使用される材料には、半導体及びソーラーパネル市場用のシリコン、複合半導体ウェハー（III-V）用のガリウム、電力装置用の炭化ケイ素が含まれる。ダイヤモンド栽培は、半導体、高周波センサ、量子コンピューティング、ラボグロウンコンシューマーダイヤモンドの新興技術であり、需要は日々高まっています。

アトラスコプコの GXS ポンプは、内蔵コントロールと最先端のスクリュー技術を組み合わせ、高い信頼性と蒸気処理能力を備えており、結晶培養プロセスに最適です。