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    • 半導体製造業の真空・除害装置のアップグレード
    ポーラスヘッド
    コストと環境への影響を軽減しながら生産性を向上

    継続的な改善プロセスの一環として、当社は、お客様が機械の性能を向上させ、所有コストを削減し、持続可能性な目標を達成できるようにアップグレードを設計しています。 

    装置の性能を保護

    機械の性能を向上させ、オペレーションの生産性を向上させるように設計されたアップグレード

    磁気浮上型ターボポンプのオンツール粒子低減アップグレード

    お客様の生産性と歩留まりを向上させるという当社の継続的な使命において、当社のアンチリコイル技術、ロータカップカバー、高温ポンプの使用という3つのオンツール技術を使用して、半導体アプリケーションにおけるウェハ上の粒子汚染を低減できる一連のソリューションを考案しました。  

    アンチリコイル技術 
    製造中に、粒子がターボポンプからチャンバに反跳することがあり、ウェハが汚染されて生産性が低下する可能性があります。当社のアンチリコイル技術は、ターボポンプを簡単に通過して排気することにより、粒子の汚染を大幅に低減します。 

    ロータカップカバー  
    ロータカップ(ターボポンプのインレットにあります)の腐食と微粒子の蓄積を防ぐため、耐腐食性ロータカップカバーを開発しました。これにより堆積物の形成とステンレススチール製コンポーネントの腐食の両方を防止します。

    高温ポンプ 
    もう1つの粒子汚染源は、ターボポンプ内の堆積物です。これにより、粒子がターボポンプを通ってチャンバに戻ることもあります。高温ポンプを使用することで、ガス経路は極度に高温まで加熱され、堆積物の形成を低減します。これらのポンプには、ロータやステータなどの主要な真空コンポーネントに特殊な高熱放射率コーティングが施されており、最高の結果を得るために温度プロファイルが連続的に最適化されています。

    当社のサービステクノロジセンターで定期的にポンプサービスを実施する際に、3つの粒子低減技術をすべて導入することで、お客様が新しい装置と既存の設置ベースの生産性を最適化できるようになります。

    EUVポンプのアップグレードで半導体の歩留まりを向上

    競争の激しい半導体製造業界では、製造施設のエネルギーコストを管理しながら生産性を最大化することが極めて重要です。当社の EUV ドライ ポンプ アップグレードは、装置の性能を大幅に強化し、最適な半導体歩留まりの向上を保証するように設計されています。高度な半導体装置サービスを統合することにより、当社のアップグレードは半導体製造の歩留まりを向上させるだけでなく、大幅なエネルギー節約にも貢献します。半導体プロセスの改善をもたらすこの総合的なアプローチにより、製造施設が最高の効率で稼働することが保証されます。

    EUVポンプのアップグレードにより半導体の歩留まりを向上

    競争の激しい半導体製造業界では、製造施設のエネルギーコストを管理しながら生産性を最大限高めることが重要です。当社のEUVドライポンプのアップグレードは、お客様の機器の性能を大幅に向上させ、半導体の最適な歩留まりを向上させるように設計されています。高度な半導体機器サービスの統合により、アップグレードにより半導体製造の歩留まりが向上するだけでなく、大幅な省エネにも貢献します。半導体プロセスの歩留まり向上へのこの全体的なアプローチにより、製造施設は、最高の効率で稼働することができます。

    過酷な製造工程に対応するXCEDEのドライポンプ保護

    XCEDEのドライポンプ保護技術は、重要なポンプコンポーネントの腐食を防止し、サービス間隔を長くすることで、お客様の稼働時間を最大化します。この技術は、エドワーズのiH、iXH、およびiXMポンプシリーズのポンプメカニズム内の化学的、機械的摩耗を低減するために、表面処理と精密エンジニアリングの複雑な組み合わせを使用することで、競合するすべての方法を上回る性能を発揮します。

    総所有コストを最小限に抑える

    アップグレードは、サービス間隔を長くし、設備の効率を向上させることで、総所有コストを削減するように設計されています。

    除害ポーラスヘッド

    エドワーズは、焼結多孔質金属製ブロックを採用したフィールドサービスアップグレードである多孔質ヘッドを開発しました。これは、表面全体に均一にエアパージを分散させ、粉末の蓄積リスクを軽減します。従来のセラミックインシュレータヘッドに代わるものです。

    除害プロセス中、通常粉末の固体は、インレットヘッドの下側など、システムの不要な領域に蓄積する可能性があります。この粉末の蓄積により、プロセスガスのフローを妨げる詰まりが発生し、計画的なサービス介入が頻繁に行われます。1年間の厳しいプロセスでは、この粉末の蓄積により、9回以上のサービス中断が発生し、人件費とスペアパーツの使用によって所有コストが増加します。

    ポーラスヘッドのアップグレードを利用しているお客様は、1年に10回のサービス間隔から平均で2回まで減りました。これにより、バックアップ除害システムを使用していないお客様の年間平均で64時間のツールのダウンタイムが削減され、$150万のスループットが追加されました。 

    バックアップ除害システムを備えているお客様は、バックアップシステムへの依存を減らすことで、スペアパーツの大幅な節約、保守作業、およびエネルギー効率の向上を実現できます。

    ライフタイムサービス

    5年以上使用されている保有機械は、機械的性能が主に効果的なメンテナンス体制によって維持されていても、重要な電子機器で予期せぬ故障を引き起こす可能性があります。 

    エドワーズのライフタイムサービスソリューションは、機械を更新し、保有機械の寿命を延ばすための優れたオプションです。ライフタイムサービスは、主要なシステム電子部品すべてに延長保証を提供し、お客様の機器を長期にわたって稼働させます。 

    ライフタイムサービスは、サービステクノロジセンターのグローバルネットワークを通じて利用できます。

    環境面のアップグレード

    設備の寿命を延ばし、環境への影響を低減するために設計されたアップグレードにより、お客様の持続可能性の目標達成を支援します。

    省エネアップグレードによる製造エネルギーコスト削減

    エドワーズiXH1210ドライポンプアップグレードは、簡単な交換で済むため、現場チームによる追加作業は不要で、アップグレードプロセス中のダウンタイムによる損失もありません。 

    アップグレードにより、運転時のエネルギーコストの約3分の1を削減し、環境への影響も軽減できます。二酸化炭素排出量を削減し、環境目標に貢献するので、省エネアップグレードと称しています。 

    工場内でアップグレード可能なポンプ数に以上の数字を掛けて、その効果を想像してみてください。

    さらに、アップグレードはエドワーズインテリジェントサービスアップグレードプロセスで実行できるため、お客様が新しいポンプの資金を計画する必要がないという利点もあります。

    EUV省エネポンプのアップグレード

    半導体製造業では、持続可能性がますます重要になっています。当社のEUVドライポンプのアップグレードは、EUVプロセスのエネルギー消費量およびEUV電力消費量を大幅に削減することで持続可能性をサポートするように設計されています。ポンプをアップグレードすることで、プロセスのエネルギー性能を最適化し、生産性を向上させながら大幅な省エネを実現できます。

    EUVの省エネについての詳細は、以下のお客様の成功事例をご覧ください。 

    熱交換器

    製造工場全体の冷却水汚染は、厳格なメンテナンススケジュールを設定しない、除害システムによって生じるリスクです。多くのシステムでは、熱交換器は、酸性プロセス化学による腐食損傷に弱いため、製造工場のプロセス冷却水に漏れを生じる可能性があります。この汚染により、同じ冷却水回路を使用する他のプロセスツールが損傷する可能性があります。また、有害な廃棄物であるため、環境にリスクをもたらします。 

    熱交換器フィールドサービスアップグレードキットは、既存のろう付け熱交換器を新しいプレートおよびガスケット設計に変換する効果的なソリューションであり、システムを大幅に変更する必要はありません。従来の熱交換器と比較して酸攻撃に対する耐性が向上し、約5~10倍の耐用年数を実現し、製造工場の冷却水の汚染リスクを低減します。

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